KR970028866A - 노광장치, 노광 방법 및 기판, 마스크 스테이지의 이동 제어 방법 - Google Patents

Abstract

마스크에 형성된 패턴을 감광기판에 노광하기 전에 마스크와 감광기판과의 적어도 한쪽의 온도를 노광중에 있어서 평형온도로 조정하고 노광장치 주변의 경시적인 온도 변화에 의한 부적함을 억제한다. 또, 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어가 정지하고 있는 대기시에 그 기판을 탑재하는 기판 스테이지를 노광장치의 열적으로 안정한 위치에 대기시키고 노광장치내의 온도구배의 변화등에 의한 악영향을 최소한으로 억제한다.

Description

노광장치, 노광 방법 및 기판, 마스크 스테이지의 이동 제어 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명의 제1의 형태에 관한 주사형 투영 노광 장치의 구성을 도시하는 개념도(정면도).

Claims (28)

1. 마스크에 형성된 패턴을 감광기판에 노광하는 노광장치에 있어서, 상기 마스크와 상기 감광기판과의 적어도 한쪽 근처의 온도를 측정하는 측정 수단과, 상기 측정 수단의 계측 데이타와 미리 설정한 목표값을 비교하고 상기 노광에 앞서 상기 마스크와 상기 감광기판과의 적어도 한쪽의 근처의 온도를 노광중에 있어서의 평형 온도로 조정하는 온도 조정 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 목표값은 실제의 노광 작업을 행하는 동안 평형 상태에서의 온도값인 것을 특징으로 하는 노광장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 목표값을 노광용의 광속이 상기 마스크를 투과할 때의 상기 마스크의 투과율, 노광용의 광원의 출력 등의 노광 조건에 의거해서 계산하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
4. 마스크에 형성된 패턴을 감광기판에 노광하는 노광장치에 있어서, 상기 마스크와 상기 감광기판과의 적어도 한쪽의 근처의 온도를 측정하는 측정 수단과, 상기 온도 측정 수단의 계측 데이터와 미리 설정할 목표값을 비교해서 상기 노광전에 상기 마스크와 상기 감광 기판과의 적어도 한쪽 근처의 온도를 노광중에 있어서의 평형 온도로 조정하는 온도 조정 수단을 구비하며, 상기 마스크와 상기 감광 기판은 각각 2차원으로 이동하는 스테이지에 설치되며, 상기 온도 조정 수단은 상기 스테이지의 적어도 한쪽을 이동시키므로써 상기 조정을 실행하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
5. 제4항에 있어서, 상기 온도 조정 수단은 노광용의 광속이 상기 마스크를 투과할 때의 상기 마스크의 투과율에 의거한 소정의 열량을 공급하는 상기 마스크 근처에 배치된 공급 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
6. 제4항에 있어서, 상기 노광 장치는 또한 상기 마스크의 위치를 계측하는 제1계측 수단과 상기 감광기판의 위치를 계측하는 제2계측 수단을 구비하며, 상기 마스크의 근처의 온도를 측정하는 상기 온도 측정 수단을 상기 제1계측 수단의 근처에 배치하고 상기 감광기판의 근처의 온도를 측정하는 상기 온도 측정 수단을 상기 제2계측 수단의 근처에 배치한 것을 특징으로 하는 노광장치.
7. 마스크에 형성된 패턴을 감광기판에 노광하는 노광장치에 있어서, 상기 마스크와 상기 감광기판과의 적어도 한쪽의 근처의 온도를 측정하는 측정 수단과, 상기 노광에 앞서서 상기 마스크와 상기 감광기판중의 적어도 한쪽의 근처의 온도를 노광중에 있어서의 평형 온도로 조정하는 온도 조정 수단과, 상기 온도 측정 수단의 측정 결과와 상기 평형 온도에 의거해서 상기 노광의 실행 및 비실행을 판정하는 판정 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
8. 제7항에 있어서, 상기 목표값은 실제 노광 작업의 실행 동안 평행 상태에서의 온도값인 것을 특징으로 하는 노광장치.
9. 제7항에 있어서, 상기 목표값을 노광용의 광속이 상기 마스크를 투과할 때의 상기 마스크의 투과율, 노광용의 광원의 출력 등의 노광 조건에 의거해서 계산하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
10. 마스크에 힝성된 패턴을 감광기판에 노광하는 노광장치에 있어서, 상기 마스크와 상기 감광기판과의 적어도 한쪽의 근처의 온도를 측정하는 측정 수단과, 상기 노광에 앞서서 상기 마스크와 상기 감광 기판과의 적어도 한쪽의 근처의 온도를 노광중에 있어서의 평형 온도로 조정하는 온도 조정 수단과, 상기 온도 측정수단의 측정 결과와 상기 평행 온도에 의거해서 상기 노광의 실행 및 비실행을 판정하는 판정 수단을 구비하고, 상기 마스크와 상기 감광기판은 각각 2차원으로 이동하는 스테이지에 배치되며, 상기 온도 조정 수단은 상기 스테이지의 적어도 한쪽을 이동시키므로써 상기 조정을 실행하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
11. 제10항에 있어서, 상기 온도 조정 수단은 노광용의 광속이 상기 마스크를 투과할 때의 상기 마스크의 투과율에 의거한 소정의 열량을 공급하는 상기 마스크 근처에 배치된 공급 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
12. 제10항에 있어서, 상기 노광 장치는 또한, 상기 마스크의 위치를 계측하는 제1계측 수단과 상기 감광기판의 위치를 계측하는 제2계측 수단을 구비하며, 상기 마스크의 근처의 온도를 측정하는 상기 온도 측정 수단을 상기 제1계측 수단의 근처에 배치하고, 상기 감광기판의 근처의 온도를 측정하는 상기 온도 측정 수단을 상기 제2계측 수단의 근처에 배치한 것을 특징으로 하는 노광장치.
13. 마스크에 형성된 패턴을 감광기판에 노광하는 노광 방법에 있어서, 상기 노광 전에 상기 마스크와 상기 감광기판과의 적어도 한쪽 부근의 온도를 노광중의 평형 온도로 조정하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
14. 제13항에 있어서, 상기 조정은 의사적인 노광 동작에 의해서 실행되는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
15. 제13항에 있어서, 상기 조정은 상기 마스크와 상기 감광기판과의 적어도 한쪽 근처에 상기 평형 온도에 도달하도륵 하는 온도의 기체를 공급하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
16. 표면에 소정의 패턴이 노광되는 기판을 이동가능하게 유지하는 노광장치의 기판 스테이지의 제어 방법에 있어서, 상기 기판 스테이지상의 상기 기판에 대한 노광을 위한 일련의 제어가 정지하고 있는 대기시에 상기 기판 스테이지를 상기 노광장치의 열적으로 안정인 위치에 대기시키는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
17. 제16항에 있어서, 상기 열적으로 안정된 위치는 상기 기판 스테이지상의 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어가 실행되는 동안 상기 기판 스테이지가 체재하는 시간의 평균 위치로서 구해지는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
18. 표면에 소정의 패턴이 노광되는 기판을 이동가능하게 유지하는 노광장치의 기판 스테이지의 제어 방법에 있어서, 상기 기판 스테이지상의 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어를 정지하는 대기시에 상기 기판 스테이지를 상기 노광장치의 열적으로 안정된 위치에 대기시키고, 상기 열적으로 안정된 위치는 상기 기판 스테이지상의 상기 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어를 실행하는 동안 상기 기판 스테이지가 체재하는 시간의 평균위치로서 구해지며, 상기 시간의 평균 위치는 다음에 노광 작업을 실행하는 기판에 대해서 예상되는 위치로서 구해지는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
19. 표면에 소겅의 패턴이 노광되는 기판을 이동가능하게 유지하는 노광장치의 기판 스테이지의 제어 방법에 있어서, 상기 기판 스테이지상의 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어를 실행하는 동안 상기 기판 스테이지상의 복수 개소에서의 평균 온도를 각각 온도 센서에 의해서 구하는 공정과, 상기 각 온도 센서의 평균 온도에 대응하는 상기 기판 스테이지의 위치를 각각 평균 온도로서 구하는 공정과, 상기 평균 온도 위치의 평균 위치를 구하는 공정을 포함하며, 상기 기판 스테이지상의 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어를 중지하는 대기시에 상기 기판 스테이지를 상기 평균 위치에 대기시키는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
20. 표면에 소정의 패턴이 노광되는 기판을 이동가능하게 유지하는 노광장치의 기판 스테이지의 제어 방법에 있어서, 상기 기판 스테이지상의 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어를 실행하는 동안 상기 기판 스테이지상의 복수 개소에서의 평균 온도를 각각 온도 센서에 의해서 구하는 공정과, 상기 각 온도 센서의 평균 온도에 대응하는 상기 기판 스테이지의 위치를 각각 평균 온도 위치로서 구하는 공정을 구비하며, 상기 기판 스테이지상의 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어를 중지하는 대기시에 상기 기판 스테이지를 상기 평균 온도 위치에 차례로 이동시켜서 대기시키는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
21. 소정의 패턴이 형성된 노광용 마스크를 이동 가능하게 유지하는 노광장치의 마스크 스테이지의 제어방법에 있어서, 상기 마스크 스테이지상의 마스크를 거쳐서 노광하기 위해 일련의 제어를 중지하는 대기시에 상기 마스크 스테이지를 상기 노광장치의 열적으로 안정된 위치에 대기시키는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
22. 제21항에 있어서, 상기 열적으로 안정된 위치는 상기 마스크 스테이지상의 마스크를 거쳐서 노광하기 위해 일련의 제어를 실행하는 동안 상기 마스크 스테이지가 체재하는 시간의 평균 위치로써 구해지는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
23. 소정의 패턴이 형성된 노광용 마스크를 이동가능하게 유지하는 노광장치의 마스크 스테이지의 제어 방법에 있어서, 상기 마스크 스테이지상의 마스크를 거쳐서 노광하기 위한 일련의 제어를 실행하는 동안 상기 마스크 스테이지상의 복수 개소에서의 평균 온도를 각각 온도 센서에 의해서 구하는 공정과, 상기 각 온도 센서의 평균 온도에 대응하는 상기 마스크 스테이지의 위치를 각각 평균 온도 위치로서 구하는 공정과, 상기 평균온도 위치의 평균 위치를 구하는 공정을 구비하며, 상기 마스크 스테이지상의 마스크를 거쳐서 노광하기 위한 일련의 제어를 중지하는 대기시에 상기 마스크 스테이지를 상기 평균 위치에 대기시키는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
24. 소정의 패턴이 형성된 노광용 마스크를 이동가능하게 유지하는 노광장치의 마스크 스테이지의 제어 방법에 있어서, 상기 마스크 스테이지상의 마스크를 거쳐서 노광하기 위한 일련의 제어를 실행하는 동안 상기 마스크 스테이지상의 복수의 개소에서의 평균 온도를 각각 온도 센서에 의해서 구하는 공정과, 상기 각 온도 센서의 평균 온도에 대응하는 상기 마스크 스테이지의 위치를 각각 평균 온도 위치로서 구하는 공정을 구비하며, 상기 마스크 스테이지상의 마스크를 거쳐서 노광하기 위해 일련의 제어를 중지하는 대기시에 상기 마스크 스테이지를 상기 평균 온도 위치에 차례로 이동시켜서 대기시키는 것을 특징으로 하는 노광장치의 기판 스테이지의 이동 제어 방법.
25. 표면에 소정의 패턴이 노광되는 기판을 이동가능하게 유지하는 기판 스테이지의 제어 장치를 구비한 노광장치에 있어서, 그 기판 스테이지의 제어 장치는 상기 기판의 스테이지의 복수 개소에 배치되고 상기 기판 스테이지상의 상기 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어를 실행하는 동안 대기온도를 각각 검출하는 복수의 온도 센서와, 상기 복수의 온도 센서에 의해서 검출된 온도의 각 센서마다의 평균을 구하고, 구해진 평균 온도에 대응하는 상기 기판 스테이지의 위치를 각각 평균 온도 위치로서 구하여, 상기 각 평균 온도 위치의 평균위치를 구하는 연산수단과, 상기 구해진 평균 위치에 기판 스테이지를 대기시키는 구동 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
26. 표면에 소정의 패턴이 노광되는 기판을 이동가능하게 유지하는 기판 스테이지의 제어 장치를 구비한 노광장치에 있어서, 상기 기판 스테이지의 제어 장치는 상기 기판 스테이지의 복수 개소에 배치되며 상기 기판 스테이지상의 상기 기판에 대한 노광을 위해 일련의 제어를 실행하는 동안 대기온도를 각각 검출하는 복수의 온도 센서와, 상기 복수의 온도 센서에 의해서 검출된 온도의 각 센서마다의 평균을 구하여, 구해진 평균 온도에 대응하는 상기 기판 스테이지의 위치를 각각 평균 온도 위치로서 구하는 연산 수단과, 상기 기판 스테이지를 구해진 평균 온도 위치에 차례로 이동시켜서 대기시키는 구동 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
27. 소정의 패턴이 형성된 노광용 마스크를 이동가능하게 유지하는 노광장치의 마스크 스테이지의 제어 장치를 구비한 노광장치에 있어서, 상기 마스크 스테이지의 제어 장치는 상기 마스크 스테이지의 복수 개소에 배치되며 상기 마스크 스테이지상의 상기 마스크를 거쳐서 노광하기 위해 일련의 제어를 실행하는 동안 대기 온도를 각각 검출하는 복수의 온도 센서와, 상기 복수의 온도 센서에 의해서 검출된 온도의 각 센서마다의 평균을 구하여 그 구해진 평균 온도에 대응하는 상기 마스크 스테이지의 위치를 각각 평균 온도 위치로써 구해서, 또한 상기 각 평균 온도 위치의 평균 위치를 구하는 연산 수단과, 상기 구해진 평균 위치에 상기 마스크 스테이지를 대기시키는 구동 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
28. 소정의 패턴이 형성된 노광용 마스크를 이동가능하게 유지하는 노광장치의 마스크 스테이지의 제어 장치를 구비한 노광장치에 있어서, 상기 마스크 스테이지의 제어 장치는, 상기 마스크 스테이지의 복수 개소에 배치되며 상기 마스크 스테이지상의 상기 마스크를 거쳐서 노광하기 위해 일련의 제어를 실행하는 동안 대기온도를 각각 검출하는 복수의 온도 센서와, 상기 복수의 온도 센서에 의해서 검출된 온도의 각 센서마다의 평균을 구하여 구해진 평균 온도에 대응하는 상기 마스크 스테이지의 위치를 각각 평균 온도 위치로서 구하는 연산수단과 상기 마스크 스테이지를 상기 구해진 평균 온도 위치에 차례로 이동시켜서 대기시키는 구동 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.

    ※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.