KR970006991B1

KR970006991B1 - 유리시이트 성형 장치 및 방법

Info

Publication number: KR970006991B1
Application number: KR1019930012317A
Authority: KR
Inventors: 티. 페식 미하일; 지. 프랭크 로버트
Original assignee: 피피지 인더스트리즈, 인코포레이티드; 조 안 벤틀레이 액스톤
Priority date: 1992-07-02
Filing date: 1993-07-01
Publication date: 1997-05-01
Also published as: US5320661A; KR940002179A; ITMI931414A0; CA2098866C; JPH06115960A; IT1264634B1; FR2693183A1; BR9302722A; JPH0747497B2; FR2693183B1; CA2098866A1; ITMI931414A1

Abstract

내용없음

Description

유리시이트 성형 장치 및 방법

제1도는 명확히 나타내기 위해 일부분을 제거한 본 방명의 바람직한 실시예의 사시도.

제2도는 제l도의 선 2-2를 따라 취한 본 발명의 개략도.

제3도 내지 제6도는 본 발명의 다른 실시예들을 나타내는 제2도와 유사한 개략도.

* 도면의주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 터널형 로 12,412,512 : 이송스테이션

14,3l4,414,515,614 : 진공 픽업장치

16A,16B,316,416A,416B,516A,516B, 616A,616 : 성형스테이션

18A,18B : 시이트 이송수단 20A,20B,320,420A,620A,620B : 냉각 스테이션

22 : 컨베이어로올 26 : 지지로올

28,428A,428B,528A,528B,628A,628B : 유리시이트 흡착표면

30,48 : 진공배기파이프 36 : 하측몰드

38 : 상측몰드 56,300 : 이송링

58 : 지지레일 64 : 이격노즐

68 : 바아 노즐 500A,500B : 대기스테이션

본 발명은 유리시이트의 벤딩에 관한 것으로, 특히 가열연화된 유리시이트를 두 개의 독립 성형스테이션으로 이동시키는 진공 픽업 장치를 이용한 유리시이트 성형시스템에 관한 것이다.

성형된 유리시이트들은 자동차와 같은 차량의 전면창, 측면창 또는 후면창으로 널리 사용된다. 이런 용도를 충족시키기 위해서 평유리시이트는 이 유리창이 설치될 창개구부를 형성하는 프레임의 형상과 윤곽에 따른 굴곡을 정확히 형성하도록 성형되어야 한다. 또한, 창은 엄격한 광학조건을 만족시켜야 하고, 창의 시계영역내에서 시야를 방해하는 광학적 결함을 갖지 않는 것이 중요하다.

제조중에 내부 응력을 제어하기 위하여 유리시이트들은 열처리된다. 특히 전면창으로 사용되는 유리시이트들은 보통 내부 응력을 감소시키기 위하여 어닐링되는 반면, 측면창 또는 후면창으로 사용되는 유리시이트들은 시이트 대부분의 표면에 압축응력을 일으키고 증앙부위에 인장응력을 야기시키기 위하여 템퍼링된다. 템퍼링은 유리를 강화시키고 충격으로부터 생기는 손상에 대한 저항력을 증대시킨다.

전면창의 유리시이트를 가열하고 성형함에 있어서는, 하나 이상의 평 유리시이트를 지지하고 가열 융해로를 통해 운반하도록 형성된 구조의 밴딩몰드를 사용하는 것이 통상적이다. 유리는 온도가 상승하여 가열연화 온도에 도달함에 따라 층력에 의해 처지기 시작하여 몰드상의 성형레일의 형상에 부합하게 된다.

측면창과 후면창의 템퍼링된 유리시이트의 제조증에 유리시이트는 일반적으로 터널형 로(tunnel type furnace)를 통해 대체로 수평한 경로를 따라 운반되어 그곳에시 가열연화온도까지 가열되며, 그 후 로와 인접한 성형스테이션으로 이송되어 그곳에서 유리시이트가 성형된다. 성형된 후에 유리시이트는 냉각스테이션으로 이송되어 제어 냉각된다. 가열 연화된 유리시이트는 예를들어, 미국 특허 제4,272,274호, 제4,662,925호 및 제4,830,650호에 개시된 바와 같이 한쌍의 상부 성형표면과 하부 성형표면사이에서 유리시이트를 압축성형하는 것에 의하여 성형될 수도 있다.

고도의 광학적 품질을 유지하고 성형을 제어하면서 유리시이트를 고속 성형시키고, 또한 연속적인 유리시이트를 상이한 형상으로 성형시키는 유리시이트 성형장치를 갖는 것이 유익할 것이다.

본 발명은 가열연화된 유리시이트를 성형하기 위한 장치를 제공하는 바, 이 장치는 이송스테이션과, 이송스테이션의 양측을 따라 배치된 제l및 제2성형스테이션과, 시이트 흡착표면을 갖는 진공 픽업장치를 구비한다. 각각의 성형스테이션은 시이트 성형장치를 가지며, 진공 픽업장치는 성형스테이션들 사이에서 그리고 이송스테이션내에서 이동할 수 있다. 진공 픽업장치는 그 흡착표면을 따라 인가된 진공에 의하여 흡착표면에 유리시이트를 흡착 지지한다. 이송스테이션내에 있을 때 가열연화된 유리시이트를 들어올려 시이트 흡착표면에 횹착시키는 수단과, 가열연화된 유리시이트를 시이트 흡착표면으로부터 하나의 성형스테이션내의 하나의 성형수단 위로 낙하시켜 소망하는 형상으로 성형하는 수단과, 성형된 유리시이트를 상기 하나의 성형스테이션으로부터 제거하는 수단과, 그것을 제어 냉각하는 수단이 제공된다.

본 발명은 또한 유리시이트를 성형하는 방법도 제공한다. 유리시이트는 가열되어 이송스테이션으로 반송된다. 시이트 흡착표면을 갖는 진공 픽업장치는 우선 시이트 흡착표면이 이송스테이션내에 있도록 배치된다. 제1유리시이트는 이송스테이션으로 반송된 후 들어 올려져 진공 픽업장치의 시이트 흡착표면에 흡착된다. 시이트 흡착표면을 따라 진공이 인가되어 제1유리시이트를 진공 픽업장치에 고정시킨다. 그후, 진공 픽업장치는 시이트 흡착표면과 제1유리시이트가 이송스테이션으로부터 제1성형스테이션으로 이동하도록 이동된다. 시이트 흡착표면을 따른 진공인가가 중단되면 제l유리시이트가 제1성형스테이션의 제1성형수단위로 낙하한다. 그후 진공 픽업장치는 이송스테이션내로 복귀하고 유리시이트는 성형되어 제어 냉각된다. 그후 제2유리시이트가 이송스테이션내로 반송된 후에 들어올려져 진공 픽업장치의 시이트 흡착표면에 흡착되고 진공에 의해 고정된다. 그후 진공 픽업장치는 시이트 흡착표면과 제2유리시이트가 이송스테이션으로부터 제2성형스테이션으로 이동하도록 이동된다. 제2유리시이트 흡착표면을 따른 진공인가가 중단되면 제2유리 시이트는 제2성형스테이션의 제2성형수단 위로 낙하한다. 그후, 진공 픽업장치는 이송스테이션으로 복귀하고 제2유리시이트는 성형되어 제어 냉각된다.

제1도를 참조하면, 유리뿐만 아니라 플라스틱 및 기타 시이트 재료와 같은 가열연화성 재료를 성형 및 처리하기 위한 장치는 터널형 로(10)를 구비하는데, 일련의 유리시이트(G)는 로(10)의 상류단의 로딩스테이션(도시하지 않음으로부터 터널형 로(150)를 통하여 스평경로를 따라서 운반되어 이송스테이션(12)에 도달하며, 여기에서 유리시이트(G)는 진공 픽업장치(14)에 흡착된다. 진공 픽업장치(14)는 이후에 보다 상세히 설명하는 바와 같이 진공에 의하여 유리시이트(G)를 들어올려 지지하고, 이 유리시이트를 이송스테이션(12)의 양측을 따라서 배치된 두 개의 성형스테이션(16A, 16B)중 하나의 위치로 이동시킨다. 가열연화된 유리시이트(G)는 성형 스테이션(16A, 16B)에서 성형되고, 시이트 이송수단(l8A, 18B)에 의하여 대응 냉각 스테이션(20A, 20B)으로 이송되며, 여기서 제어 냉각된다. 필요하다면 앞으로 더욱 상세히 설명하는 바와 같이 이송 스테이션(12)과 성형스테이션(16A, 16B)이 이송 및 성형 동작증에 열손실을 감소시키기 위해서 가열된 공동(도시하지 않음)내에 수용될 수도 있다.

열은 어떤 편리한 방식, 예를들어 가스 히터나 전기복사 히터 또는 이들의 조합에 의하여 로(10)에 공급될 수 있으며, 이 열공급 수단은 당해 기술분야에 잘 알려진 것이다. 로(10)는 당해 기술분야에서 잘 알려진 형태의 종방향 이격 및 횡방향 연장 컨베이어 로울(22)을 구비하는 바, 이 컨베이어 로울(22)은 그것을 통해 연장된 이동경로를 규정한다. 컨베이어 로울(22)은 로(10)를 통한 유리시이트의 적절한 위치설정과 이동을 위해 서로 다른 컨베이어 섹션들이 공지된 방식으로 제어되고 동기화되도록 분할하여 배열된다. 제1도에 도시한 바와같이, 로(10)내에 유리 감지요소(24)가 설치되어 이후에 설명하는 바와 같이 벤딩의 사이클을 개시시킨다.

이송 스테이션(12)은 가열연화된 유리시이트(G)가 로(10)를 나와 이송 스테이션(l2)으로 진입할 때 각각의 유리시이트(G)를 차례차례 지지하도록 배열된 일련의 이격된 지지로울(26)을 구비한다. 이송 스테이션(12)은 유리시이트 흡착표면(28)을 갖는 진공 픽업장치(14)를 구비한다. 본 발명에서 제한되는 것은 아니지만 본 발명의 일 실시예에 있어서 유리시이트 흡착표면(28)은 평면이다. 제l도의 실시예에서 진공 픽업장치(l4)는 적절한 밸브장치(도시하지 않음)를 통해 진공원(도시하지 않음)에 연결되는 진공배기파이프(30)을 갖는다. 진공 픽업장치(14)의 흡착표면(28)을 따라 진공을 인가하는 것과 진공인가를 중단하는 것은 이후에 보다 상세히 설명하는 바와 같이 소정의 사이클로 동기화 된다.

이송 스테이션(12)에서 픽업장치(14) 하부의 로울(26)상에 위치설정된 유리시이트(G)는 흡착표면을 따른 진공인가에 의하여 들어 올려져 흡착표면(28)에 흡착된다. 경우에 따라서는 유리시이트(G)와 물리적으로 접촉하여 이 유리시이트를 들어올리도록 로울(26)사이에 배치된 기계식 리프터(도시하지 않음)를 제공함으로써 유리시이트의 상승 동작을 도울 수도 있다. 다른 방법으로서, 미국 특허 제4,204,854호에 개시된 바와 같이 이송스테이션(l2)내의 로울(26)아래에 가스젯트 기구(도시하지 않음)를 배치하여, 유리시이트(G)의 주요하측 표면을 향하여 기류를 상방으로 분사시킴으로써 유리시이트를 들어올려 진공 픽업장치(14)에 흡착시킬 수도 있다.

제1도와 제2도에 도시한 바와같이, 진공 픽업장치(14)는 미국 특허 제4,662,925호와 제4,767,434호에 개시된 것과 유사한 왕복 이동장치(32)에 의해 수평향으로 이동될 수 있다. 모터 구동장치(도시하지 않음)는 이후에 보다 상세히 설명하는 바와 같은 방식으로 진공 픽업장치(14)를 성형스테이션(16A, 16B) 사이에서 이송스테이션(12)을 통해 가이드레일(34)을 따라 이동시킨다.

성형스테이션(16A)의 구조는 서형스테이션(16B)과 유사하고, 시이트 이송수단(18A)의 구조는 시이트 이송수단(l8B)과 유사하며, 냉각 스테이션(20A)의 구조는 냉각스테이션(20B)과 유사하다. 이하의 설명은 성형스테이션(16A)과 시이트 이송수단(18A)과 냉각스테이션(20A)에 관한 것이며, 대응하는 성형스테이션(16B)과 시이트이송수단(18B)과 냉각스테이션(20B)은 그들과 동일한 경우가 많으나 반드시 동일할 필요는 없다는 것을 알 수 있을 것이다.

제1도에서 성형스테이션(16A)은 예를들어 미국 특허 제4,662,925호에 개시된 전체면 하측몰드(36)와 상측몰드(38)를 구비한다. 제1도에 도시한 특정 실시예에서, 하측 몰드(36)는 유리시이트의 소망하는 벤딩 형상에 부합하는 상부 가압면(40)을 갖는 전체면 몰드이다. 하측몰드(36)는 수직 왕복운동할 수 있도록 피스톤(도시하시 않음)에 동작가능하게 연결된 하측몰드 플랫폼(42)에 고정된다. 또한, 하측몰드(36)가 성형대상 유리시이트의 외주연부만을 접촉 지지하는 링형 성형몰드일 수도 있다.

상측몰드(38)는 하측몰드(36)의 상부 가압면(40)에 부합하는 통공구비형 하부가압면(46)과 상부 장착판(도시하지 않음)을 갖는 진공몰드일 수도 있다. 상측 진공몰드(38)는 진공배기파이프(48)를 통하여 진공원(도시하지 않음)과 연결되는 진공실(도시하시 않음)을 구비한다. 제1도에서 상측 몰드(38)는 피스톤(52)에 의하여 가이드(50)를 따라 하측 몰드(36)에 대하여 수직방향으로 이동가능하다. 진공배기파이프(48)는 적절한 밸브장치를 통해 진공원(도시하지 않음)에 연결되며, 진공라인의 밸브는 당해 기술분야에 널리 공지된 방식으로 소정의 시간 사이클로 동기화된다.

몰드(36, 38)의 표면(40, 46)은 유리표면을 불균일하게 만드는 것을 방지하기 위해서 매끄럽게 가공된 것이 바람직하며, 본 발명에서 한정되는 것은 아니지만 강, 주철, 황동 또는 세라믹 복합체로 제조하는 것이 바람직하다. 이들 재료는 매끈한 표면 윤곽을 제공하며, 또한 고온유리와의 단속적인 접촉으로 장기간에 걸쳐 급격한 주기적은 온도변화를 받음에도 불구하고 양호한 내구성을 제공한다. 상측 몰드와 하측몰드(36, 38)의 양자에는 공지된 바와같이 유리섬유 직물 또는 스테인레스 강으로 직조된 망(mesh)과 같은 커버가 제공될 수도 있다.

제1도에서, 시이트 이송수단(18A)은 성형된 유리시이트(G)를 성형스테이션(16A)으로부터 냉각스테이션(20A)내로 이동시키기 위하여 설치되며, 예를 들어 미국 특허 제4,285,715호에 개시된 바와 같은 이송링(56)을 갖는다. 이송링(56)은 성형된 유리시이트의 형상에 부합하는 지지표면을 갖는 지지레일(58)을 구비한다. 레일(58)의 유리시이트 지지표면은 유리시이트 표면에 홈집을 남기지 않고 고온 유리시이트를 지지할 수 있는 비금속성 재료인 것이 바람직하다. 이송링(56)은 캐리지(60)에 장착되고, 캐리지는 이송링(56)이 상측 진공몰드(38)아래의 성형스테이션(16A)에 배치되는 상류측 위치로부터, 이송링(56)이 냉각스테이션(20A)의 에어노즐 사이에 배치되는 하류측 위치까지 레일(62)을 따라서 이송링(56)을 이동시킨다.

냉각스테이션(20A)은 미국 특허 제4,285,715호에 개시된 바와같이 하부 평반(70)상에 종방향 이격 횡방향 연장식 열의 형태로 형성된 바아 노즐(68)의 대향 위치에서 상부 평반(66)으로부터 하향으로 연장된 종방향 이격 횡방향 연장식 열로 이루어진 이격 노즐(64)을 구비한다. 바아 노즐(68)은 상부노즐(64) 아래에 수직으로 이격 배치되어, 이송링(56)이 그 사이의 경로를 따라 이동할 수 있는 공간을 제공한다. 상부 노즐 열(64)의 하단부는 바아 노즐(68)의 상단부의 만곡된 형상과 부합하는 일 만곡면을 따라 수직으로 이격 배치되어, 그 사이로 운반되는 유리시이트의 이송형상에 부합하는 만곡된 공간을 제공한다.

작동시, 각각의 유리시이트(G)는 그의 전체 폭이 로울(22)로 지지되면서 차례로 로(10)를 통해 운반되고 그 동안 그것의 가열연화 온도로 가열된다. 센서(24)는 일련의 유리시이트중의 선두 유리시이트의 위치, 예를들면 그것의 선단 또는 후단을 감지하여 이 정보를 제어기(도시하지 않음)로 보내며, 제어기는 로(10)내의 로울(22)과 이송스테이션(12)측의 로울(26)의 이송속도를 제어한다. 컨베이어 로울(22, 26)의 회전속도를 어떤 소망하는 프로그램으로 미리 설정할 수 있는데, 하나의 특정 실시예에 있어서 이 프로그램은 일련의 유리시이트를 분당 400-450인치(10.2-11.4m) 정도의 등속으로 로(10)를 통해 이송시키기에 충분한 회전속도로 로(l0)내에서 회전하는 컨베이어 로울(22)을 포함한다. 각각의 유리시이트(G)가 로(10)의 단부쪽으로 접근함에 따라, 로(l0)의 하류측 단부에 있는 로울(22)과 로울(26)은 이송스테이션(12)으로의 이송을 위해 일제히 가속되어 유리시이트의 속도를 분단 1, 200인치(30.5m) 정도의 속도로 증가시킨다.

제1도와 제2도에서 진공 픽업장치(14)는 초기에는 이송스테이션(12)내의 위치(C)에 배치된다. 유리시이트(C)가 시이트 흡착표면(28) 아래의 적당한 위치에 있을 때, 진공이 진공 픽업장치(14)를 통해 인가되어 유리시이트(G)를 흡착표면(28)에 흡착될 때까지 들어올린다. 가속된 로울(24, 26)은 유리시이트가 진공 픽업장치(14)에 의해 들어올려진 후에 정상속도로 복귀된다.

경우에 따라서는, 유리시이트(G)가 이송스테이션(l2)내의 로딩 위치에 접근함에 따라, 유리시이트가 들어올려져서 진공 픽업장치(14)에 흡착하는 순간에 로울(26)이 일제히 감속되어 유리시이트의 속도를 분당 약700인치(17.8m) 이하까지 감소시킨다. 유리시이트(G)가 들어올려져 진공 픽업 장치(14)에 흡착되기 전에 지지로울(26)의 회전 속도를 로(10)로부터 이송 스테이션(12)으로 이송될 때의 가속된 속도보다 느리게 감속시키면 지지로울(26)로부터 들어올려질 때 유리시이트간의 유리시이트의 위치편차를 작게 할 수 있다.

진공이 진공 픽업장치(l4)의 시이트 흡착표면(28)을 따라 인가되어 유리시이트(G)를 들어올려 고정한 후에, 진공 픽업장치(14)가 이동하여 유리시이트(G)를 성형스테이션중 하나의 언로딩위치에 위치설정한다. 특히, 진공 픽업장치(14)와 가열연화된 유리시이트(G)는 제2도에 도시한 바와 같이 좌측의 성형스테이션(16A) 속의 위치 (A)로 이동하여 시이트 흡착표면(28)과 유리시이트(G)롤 하측몰드(36)와 상측몰드(38)사이의 언로딩위치에 위치설정한다. 유리시이트(G)가 성형스테이션(16A)내의 적정위치에 있을 때 시이트 흡착표면(28)을 통한 진공인가가 중단되어 유리시이트를 하측몰드(36)위로 낙하시키며 진공 픽업장치(14)는 바로 이송스테이션(12)의 로딩위치[위치(C)]로 복귀한다. 진공 픽업장치(14)가 더이상 성형스테이션(16A)에서 몰드(36, 38)사이에 있지 않을 때 몰드는 이후에 보다 상세히 설명하는 바와 같이 서로 상대 이동하여 그 사이에서 가열연화된 유리시이트(G)를 압축성형한다.

진공 픽업장치(14)가 이동하고 있을 때에 그 다음의 가열연화된 유리시이트(G)가 이송스테이션(12)으로 반송된다. 진공 픽업장치가 위치(C)에 있고 유리시이트(G)가 진공 픽업장치(14)의 아래에 위치할 때, 시이트 흡착표면(28)을 통해 진공이 인가되어 유리시이트(G)를 그것에 흡착하도록 들어올린다. 그후 진공 픽업장치(14)는 제2도의 우측으로 위치(B)까지 이동하여 시이트 흡착표면(28)과 유리시이트(G)를 이송스테이션(12)의 로딩위치로 성형 스테이션(16B)의 상측몰드와 하측몰드 사이의 언로딩위치로 이동시킨다. 그후, 시이트 흡착표면(28)을 따른 진공인가가 중단되어 가열연화된 유리시이트(G)를 성형스테이션(16B)의 하측몰드 위로 낙하시키며, 성형스테이션(16B)의 상측몰드와 하측몰드가 상대 이동하여 그 사이에서 유리시이트를 압축 성형할 때 진공 픽업장치(14)는 제2의 좌측으로 이동하여 이송스테이션(12)의 위치(C)에 재위치설정된다. 유리시이트(G)가 이송스테이션(l2)내로 진입하여 시이트 흡착표면(28) 아래에 배치되고 들어올려져 시이트 흡착표면(28)에 흡착된 후, 진공 픽업장치(14)는 좌측으로 위치(A)까지 이동하여 가열연화된 유리시이트(G)를 성형스테이션(16A)내로 이동시킨다. 이 사이클은 유리시이트(G)를 성형스테이션(16A, 16B)으로 교대로 이송하도록 반복된다.

진공 픽업장치(14)의 이동과 로(10)로부터 이송스테이션(12)까지의 가열연화된 유리시이트의 반송은 유리시이트가 시이트 흡착표면(28) 아래의 소정의 위치에 도달하기 전에 진공 픽업장치(14)가 이송스테이션(12)내의 로딩위치에 있도록 동기화된다는 것을 알아야 한다.

유리시이트(G)가 하측몰드(36)위로 낙하하고 진공 픽업장치(14)의 시이트 흡착표면이 성형스테이션(16A, 16B)내의 언로딩위치로부터 이송스테이션(12)내의 로딩위치까지 이동한 후에 몰드(36, 38)는 수직방향으로 상대 이동하여 그 사이에서 유리시이트를 압축성형한다. 압축성형중에 상측몰드(38)의 진공실을 통해 진공이 인가되어, 성형된 유리시이트를 통공구비형 하부벽(36)에 흡착하므로, 몰드가 분리될 때 유리시이트(G)는 하부 벽(46)과 접촉된 상태를 유지하게 된다. 압축성형후에 몰드들은 서로 분리되지만 상측몰드(38)에 유리시이트(G)가 흡착되도록 진공은 여전히 인가된다. 그후, 이송링(56)이 냉각 스테이션(20A, 20B)으로부터 상류측으로 이동하여 상측 진공몰드(38) 아래에 배치된다. 이송링(56)이 적소에 배치되었을 때 상측몰드(38)를 따른 진공인가가 중단되어, 성형된 유리시이트(G)를 이송링(56)위로 낙하시킨다.

유리시이트(G)는 하부측의 냉각스테이션(20A, 20B)으로 이송되어 필요에 따라 냉각된다. 유리가 측면창 또는 후면장으로시 사용되는 경우에는 성형된 유리시이트에 적어도 약간의 템퍼링효과를 주기 위해시 급속히 냉각될 것이다. 만일 성형된 유리시이트가 전면창으로 사용되는 경우에는 유리를 어닐링하기 위해서 유리시이트가 서시히 냉각될 것이다. 그 후 유리시이트는 추가의 냉각을 위해 냉각컨베이어(도시하지 않음)로 이송된다.

제1도와 제2도에 도시하고 전술한 몰드(36, 38)는 전체 표면 압축성형을 제공하지만 당해 업계에 공지된 다른 유리시이트 성형장치가 유리시이트를 성형하기 위하여 사용될 수도 있다. 예를 들어, 하측 몰드는 미국 특허 제4,272,274호에 개시된 슬롯 형성 몰드장치일 수도 있다. 또한, 성형스테이션의 몰드의 성형표면은 유리시이트(G)를 제1도와 제2도에 도시한 바와 같이 하향 블록구조로 하도록 구성될 수도 있고, 또는 미국특허 제4,746,348호와 제5,004,491호에 개시된 상향볼록구조로 하도록 구성될 수도 있다.

제3도는 본 발명의 개시내용을 채용한 다른 유리시이트 성형장치를 도시한다. 이 도면은 로(10)의 중심선을 따라 볼 때 이송스테이션의 일측에 놓인 성형 및 냉각 스테이션을 도시하는데, 이송스테이션의 다른 출구 단부에도 유사한 장치가 제공된다는 것을 알아야 한다. 특히, 제3도에서 몰드들은 진공 픽업장치(314)와 가열연화된 유리시이트(G)가 성형 스테이션(316)에서 언로딩 위치에 있을 때 진공 픽업장치(314) 아래에 위치되는 가동형 성형링(300)으로 대체된다. 진공 픽업장치(314)의 시이트 흡착표면을 따른 진공인가가 중단되면 유리시이트(G)가 이송링(300)위로 낙하되며, 이송링(300)은 유리시이트 외주연의 약간 안쪽에서 유리시이트와 접촉하여 중력에 의해 유리시이트(G)를 성형한다. 이런 형태의 성형은 보통 드롭 성형(drop forming)이라 불리며 미국 특허 제4,233,049호에 개시되어 있다. 경우에 따라서는, 상측몰드(도시하지 않음)를 이송링(300)위에 배치하여, 진공 픽업장치(314)가 성형스테이션(316)을 떠날 때 제1도 및 제2도에 관련하여 전술한 것과 유사한 방법으로 상측몰드가 유리시이트를 성형링(300)내로 압축성형할 수도 있다. 그후 이송링(300)과 성형된 유리시이트(G)는 냉각스테이션(320)으로 이동하여 유리시이트를 냉각한다.

또한, 성형스테이션(16A, 16B)내의 몰드들은 상이한 유리시이트 형상을 가질 수도 있다는 것을 이해하여야 한다. 예를들어, 성형스테이션(16A)의 몰드들의 표면은 적층된 전면창의 내측 유리시이트의 형상과 대응하지만, 성형스테이션(16B)의 몰드들의 성형표면은 외측 유리시이트의 형상과 대응할 수도 있다.

제1도와 제2도에 도시한 바와 같이, 유리시이트(G)는 이송스테이션에서 성형스테이션까지 그리고 냉각스테이션까지 대체로 직선 경로로 이동한다. 경우에 따라서는 냉각스테이션을 성형스테이션에 대하여 90도로 배향시켜 당해 기술분야에 공지된 바와 같은 "튜닝포크(tuning fork)"장치를 형성할 수도 있다. 이 장치는 적층된 전면차의 내측 및 외측 유리시이트를 제조할 때 특히 유용한데, 이는 유리시이트들이 냉각 후에 결합되어 이중 쌍을 형성하고, 이 이중창이 추가로 처리되어 전면창을 형성하도록 유리시이트들을 서로 매우 근접하게 유지시킬 수 있기 때문이다.

전술한 설명은 진공 픽업장치(14)가 편평한 시이트 흡착표면을 갖는 것으로 설명하였지만, 진공 픽업장치(14)의 시이트 흡착표면은 유리시이트를 초기형상으로 성형하도록 형성될 수도 있다. 또한, 진공 픽업장치(14)는 각각의 편명한 형상의 유리시이트(G)와 흡착된 후 유리시이트를 변형시켜 초기형상으로 성형하도록 구성될 수 있다. 이런 유형의 진공 픽업장치는 앞에서 설명한 유리시이트 성형장치의 어느 것과 도 함께 사용될 수 있다.

제4도는 두 개의 유리시이트 흡착표면을 갖는 진공 픽업장치를 이용하는 본 발명의 다른 실시예를 도시한다. 이송스테이션(412)은 시이트 흡착표면(428A, 428B)을 갖는 진공 픽업장치(414)를 포함한다. 진공 픽업장치(414)는 진공이 각 표면(428A, 428B

)에 독립적으로 인가되고 중단될 수도 있도록 구성된다. 제4도에 도시한 실시예에서 진공 픽업장치(414)는 적절한 밸브장치(도시하시 않을)를 통해 진공원(도시하지 않음)에 연결된 진공배기파이프(도시하지 않음)를 각기 갖는 두 개의 부분으로 분할된다. 진공 픽업장치(414)의 각 표면(428A, 428B)을 통한 진공의 인가와 중단은 이후에 보다 상세히 설명하는 바와같이 소정의 사이클로 동기화된다.

제4도에 도시한 바와 같이, 진공 픽업장치(414)는 진공 픽업장치(l4)와 관련하여 앞에서 설명한 것과 유사한 방식으로 당해 업계에 널리 알려진 유형의 왕복 이동장치(도시하지 않음)에 의해 성형스테이선(416A, 416B) 사이에서 수평으로 이동한다. 보다 상세히 설명하면, 진공 픽업장치(414)의 시이트 흡착표면(428A)이 유리시이트 성형 스테이션(416B)에서 언로딩 위치에 있을 때 시이트 흡착표면(428B)는 제4도에 도시한 바와같이 이송스테이션(412)예서 유리시이트 로딩위치에 있다. 마찬가지로 진공 픽업장치(414)의 시이트 흡착표면(428A)이 성형스테이션(416A)에서 언로딩위치에 있을 때 시이트 흡착표면(428B)은 이송스테이션(416A)에서 유리시이트 로딩위치에 있다.

작동시에, 진공 픽업장치(4l4)는, 하나의 시이트 흡착표면은 이송스테이션(412)내의 로딩위치에 있고 다른 시이트 흡착표면은 하나의 성형스테이션의 언로딩위치에 있도록, 이송스테이션(412)내에 배치된다. 제4도에는, 진공 픽업장치(414)의 시이트 흡착표면(428A)이 이송스테이션(412)내의 로딩위치에 있고 시이트 흡착표면(428B)이 성형스테이션(416B)에서 상측몰드와 하측몰드 사이에 있는 것을 도시하고 있다. 가열연화된 유리시이트(G)가 시이트 흡착표면(428A) 아래의 이송스테이션(4l2)내의 적정 위치에 있을 때 앞에서 설명한 진공 및/또는 에어젯트를 사용하여 유리시이트가 들어올려져 시이트 흡착표면(428A)에 흡착 지지된다. 그후 진공 픽업장치(414)가 이동하여 유리시이트(G)를 하나의 성형스테이션의 언로딩위치에 배치시킨다. 보다 상세히 설명하면, 진공 픽업장치(414)와 가열연화된 유리시이트(G)가 제4도의 좌측으로 성형스테이션(416A)까지 이동하여 시이트 흡착표면(428A)과 유리시이트(G)를 하측몰드(436A)와 상측몰드(4328A)사이의 언로딩위치에 위치시키는 동안 진공 픽업장치(414)의 시이트 흡착표면(428B)는 성형스테이션(416B)내의 언로딩위치로 부터 이송스테이션(412)내의 로딩위치로 이동한다. 유리시이트(G)가 성형스테이션(416A)내의 적정 위치에 있을 때 사이트 흡착표면(428A)을 따른 진공인가가 중단되어 유리시이트를 하측몰드(436A)위로 낙하시킨다.

진공 픽업장치(414)가 이송스테이션(412)으로부터 성형스테이션(4l6A)으로 이동하고 있을 때 후 속의 유리시이트는 로에서 나와 이송스테이션(412)쪽으로 이동하며, 이전의 유리시이트가 성형스테이션에서 낙하되고 있을 때 후 속의 유리시이트는 로딩위치에 있는 시이트 흡착표면(428B)아래에 도달한다. 그후 시이트 흡착표면(428B)을 따라 진공이 인가되고, 유리시이트(G)가 들어올려져 시이트 흡착표면(428B)에 흡착된다.

그후, 진공 픽업장치(414)가 제4도의 우측으로 이동하여 시이트 흡착표면(428B)과 유리시이트(G)를 이송 스테이션(412)의 로딩위치로부터 성형스테이션(428B)의 하측몰드(436B)와 상측몰드(438B) 사이의 언로딩위치까지 이동시킨다. 진공 픽업장치(414)가 성형스테이션(416A)의 몰드(436A, 438B)사이에 존재하지 않게되면, 몰드는 서로 상대 이동하여 그 사이에서 가열연화된 유리시이트를 압축 성형한다. 그후 성형된 유리시이트는 이송링(456A)상에서 냉각스테이션(420A)으로 이송되어, 앞에서 설명한 방식으로 제어 냉각된다. 진공 픽업장치(414)가 우측으로 이동함에 따라, 시이트 흡착표면(428A)은 성형스테이션(416A)의 언로딩위치로부터 이송스테이션의 로딩위치로 이동하여 그 다음의 가열연화된 유리시이트(G)를 수납한다. 그후 시이트 흡착표면(428B)을 따른 진공인가가 중단되어 가열연화된 유리시이트(G)를 성형스테이션(416B)의 하측 몰드 위로 낙하시키며, 이와 동시에 후속의 유리시이트(G)는 이송스테이션(412)으로 들어가 진공 픽업장치(414)의 시이트 흡착표면(428A) 아래에 위치된 후 들어올려져 그 표면(428A)에 흡착된다. 그후, 진공 픽업장치(414)가 성형스테이션(416B)을 떠날 때, 진공 픽업장치(414)는 좌측으로 이동하여 가열연화된 유리시이트(G)를 성형스테이션(416A)으로 이동하여 가열연화된 유리시이트(G)를 성형스테이션(416A)으로 이동시켜 유리시이트(G)를 상측 및 하측몰드사이에서 압축성형하며, 이송링(456B)상에서 냉각스테이션(420B)으로 이송시켜 앞에서 설명한 방식으로 제어 냉각시킨다. 이 사이클은 유리시이트(G)를 성형스테이션(416A, 416B)으로 교대로 이송시키도록 반복된다.

제4도와 관련하여 앞에서 설명한 유리시이트 성형장치의 동작은 유리시이트를 이송스테이션(412)으로 이동시키는 것과 진공 픽업장치(414)로 이동시키는 것에 대한 정밀한 제어를 필요로 한다는 것을 알아야 한다. 보다 상세히 설명하면, 가열연화된 유리시이트를 하측몰드상으로 낙하시키자마자 진공 픽업장치(414)가 성형스테이션을 뗘나는 것이 바람직히므로, 이전의 유리시이트가 언로딩될 때 다음의 성형될 유리시이트는 시이트 흡착표면(418A, 418B)중 하나의 아래에서 이송스테이션(412)의 유리시이트 로딩위치에 있어야 한다. 만일 후 속의 시이트가 너무 일찍 도착하면 이송스테이션(412)내의 로울에 고정상태로 지지되는 등안 로울 리플(roll ripple)이 전개될 수도 있다. 만일 유리시이트가 너무 늦게 도착하면 진공 픽업장치(414)가 성형 몰드쌍중 하나 사이의 위치에 보유되고 있어야 할 것이다. 이런 지연은 몰드 사이에서 유리시이트를 성형하는데에 악영향을 미칠 수도 있다.

이런 잠재적인 제어문제를 피하기 위해 제5도와 제6도는 다른 성형장치를 제공한다. 특히 제5도에는, 이송스테이션(512)과 성헝스테이션(516A, 512B)의 사이에 중간 대기스테이션(500A, 500B)이 각기 제공된다. 이 장치는 진공 픽업장치(514)의 각 시이트 흡착표면(528A, 528B)을 3개의 다른 위치, 즉 성형스테이션, 대기스테이션 또는 이송스테이션에 위치시킨다. 그 결과, 진공 픽업장치(514)는 성형스테이션에서 유리시이트를 낙하시킨 다음 바로 대기스테이션으로 이동하여, 성형될 후속 유리시이트가 아직 이송스테이션(512)내의 로딩위치에 없는 경우에도 성형몰드가 유리시이트를 성형할 수 있게 한다. 더욱 상세히 설명하면, 시이트 흡착표면(528A)이 이송스테이션(512)의 로딩위치에 있을 때 시이트 흡착표면(528B)은 대기스테이션(500B)에 있다. 진공 픽업장치(514)가 이동하여 시이트 흡착표면(528A)을 성형스테이션(516A)내에 배치시킬 때 시이트 흡착표면(528B)은 대기스테이션(500A)으로 이동한다. 유리시이트가 후속적인 성형을 위해 시이트 흡착표면(528A)으로 부터 낙하된 후에, 진공 픽업장치(514)는 이동하여 시이트 흡착표면(528A)을 성형스테이션(516A)으로부터 이탈시켜 대기스테이션(500A)에 배치한다. 이 이동은 또한 시이트 흡착표면(528B)을 이송스테이션(5l2)의 로딩위치에 배치시켜 다음의 가열연화된 유리시이트를 수납하게 한다. 마찬가지로 진공 픽업장치(514)가 이동하여 시이트 흡착표면(528B)을 성형스테이션(516B)에 배치할 때, 시이트 흡착표면(528A)은 대기스테이션(500B)으로 이동한다. 유리시이트가 후속적인 성형을 위해 시이트 흡착표면(528B)으로부터 낙하된 후에, 진공 픽업장치(514)는 이동하여 시이트 흡착표면(528B)를 성형스테이션(516B)으로부터 이탈시켜 대기스테이션(500B)에 배치한다. 이 이동은 또한 시이트 흡착표면(528A)을 이동스테이션(5l2)의 로딩위치에 배치시켜 다음의 가열연화된 유리시이트를 수납하게 한다.

제6도는 2면 픽업장치를 제3도에 도시한 것과 유사한 성형 장치에 결합한 성형장치를 도시한다. 보다 상세히 설명하면, 진공 픽업장치(614)의 시이트 흡착표면(628A, 628B)은 유리시이트를 성형스테이션(616A, 616B)에서 왕복운동식 성형링(600A, 600B) 위에 각기 교대로 낙하시키며, 이 성형 스테이션(616A, 616B)에서 가열연화된 유리시이트는 중력에 의해 휘어져서 원하는 성형형상을 취하게 된다. 이송링(600A, 600B)는 유리시이트를 대응하는 냉각스테이션(620A, 620B)으로 번갈아 이송한다. 경우에 따라서는 상측몰드(도시하지 않음)가 진공 픽업장치(614)의 유리시이트 언로딩위치와 대응 냉각스테이션 사이에 배치되어 유리시이트의 성형동작을 도울 수도 있다. 유리시이트를 수납한 후에 이송링(600A) 또는 (600B)은 대응하는 상측 몰드 아래의 위치로 이동하며, 상측몰드는 그후 하향 이동하여 유리시이트를 이송링내로 압축성형한다. 그런 다음에는 이송링이 냉각스테이션으로 이동할 수도 있다. 다른 방법으로서, 제1도와 제2도와 관련하여 설명한 바와 같이 상측 몰드는 진공몰드일 수도 있으며, 유리시이트는 상측 진공몰드에 의하여 다른 일(도시하지 않음)으로 이송될 수도 있다.

본 명세서 및 도면에 도시하고 기술한 본 발명의 실시형태들은 예시적인 바람직한 실시예들을 나타내지만, 첨부한 특허청구의 범위의 요점에 정의된 본 발명의 정신으로부터 벗어남이 없이 여러 가지 변형예가 만들어질 수도 있음을 이해하여야 한다.

Claims

유리시이트를 성형하는 방법에 있어서, (a) 일련의 유리시이트를 가열하는 단계와, (b) 제1 및 제2성형스테이션을 이송스테이션의 양측에 배치하는 단계와, (c) 제1 및 제2시이트 흡착표면을 갖는 진공 픽업장치를 제공하는 단계와, (d) 상기 제1시이트 흡착표면이 상기 이송스테이션내에 있도록 상기 진공 픽업장치를 배치하는 단졔와, (e) 제1유리시이트를 상기 이송스데이션으로 반송하는 단계와, (f) 상기 제1시이트를 들어올려 상기 진공 픽업장치의 제1시이트 흡착표면에 흡착시키는 단계와, (g) 상기 제1시이트 흡착표면을 따라 진공을 인가하여 상기 제1시이트 흡착표면에 상기 제1유리시이트를 고정시키는 단계와, (h) 상기 제1시이트 흡착표면과 상기 제1유리시이트가 상기 이송스테이션으로부터 상기 제1성형스테이션으로 이동하도록 상기 진공 픽업장치를 이동시키는 단계와, (i) 상기 제1시이트 흡착표면을 따른 진공 인가를 중단하여 상기 제1유리시이트를 상기 제1성형스테이션의 제1성형수단위로 낙하시키는 단계와, (j) 상기 제1시이트 흡착표면을 상기 제1성형스테이션으로부터 제거하는 단계와, (k) 상기 제1유리시이트를 성형하고 제어 냉각하는 단계와, (l) 상기 제2시이트 흡착표면을 상기 이송스테이션내에 배치하는 단계와, (m) 제2유리시이트를 상기 이송스테이션내로 반송하는 단계와, (n) 상기 제2유리시이트를 들어올려 상기 진공 픽업장치의 제2시이트 흡착표면에 흡착시키는 단게와, (o) 상기 제2시이트 흡착표면을 따라 진공을 인가하여 상기 제2유리시이트를 상기 제2시이트 홉착표면에 고정시키는 단계와, (p) 상기 제2시이트 횹착표면과 상기 제2유리시이트가 상기 이송스테이션으로부터 상기 제2성형스테이션으로 이동하도록 상기 진공 픽업장치를 이동시키는 단계와, (q) 상기 제2시이트 흡착표면을 따른 진공 인가를 중단하여 상기 제2유리시이트를 상기 제2성형스테이션의 제2성형수단위로 낙하시키는 단계와, (r) 상기 제2시이트 흡착표면을 상기 제2성형스테이션으로부터 제거하는 단계와, (s) 상기 제2유리시이트를 성형하고 제어 냉각하는 단계를 포함하는 유리시이트 성형방법.
제1항에 있어서, 상기 (l) 내지(s)단계는 (d) 내지 (k)단계의 완료전에 시작되는 유리시이트 성형방법.
제2항에 있어서, 상기 배치단계(d), 제거단계(j) 및 이동단계(q)는 상기 제1시이트 흡착표면을 상기 이송스테이션내에 위치시키고 상기 제2시이트 흡착표면을 상기 제2성형스테이션내에 위치시키며, 상기 이동 단계(h), 배치단계(1) 및 제거단계(r)는 상기 제1시이트 흡착표면을 상기 제1성형스테이션내에 위치시키고 상기 제2시이트 흡착표면을 상기 이송스테이션내에 위치시키며, 상기 단계(m)과 (n)은 단계(h)중에 실행되고, 상기 단계(o)와 (p)는 단계(i)중에 실행되는 유리시이트 성형방법.
제2항에 있어서, 상기 유리시이트 성형방법은 상기 제1성형스테이션과 상기 이송스테이션의 사이에 제l대기스테이션을 제공하고 상기 제2성형스테이션과 상기 이송스테이션의 사이에 제2대기스테이션을 제공하는 단계를 더 포함하며, 또한 상기 배치단계(d)와 제거단계(r)는 상기 제1시이트 흡착표면을 상기 이송스테이션내에 위치시키고 상기 제2시이트 흡착표면을 상기 제2대기스테이션내에 위치시키며, 상기 이동단계(h)는 상기 제l시이트 흡착표면을 상기 제1성형스테이션내에 위치시키고 상기 제2시이트 흡착표면을 상기 계1대기스테이션내에 위치시키며, 상기 제거단계(j)와 배치단계(1)는 상기 제1시이트 흡착표면을 상기 제1대기스테이션내에 위치시키고 상기 제2시이트 흡착표면을 상기 이송스테이션내에 위치시키며, 상기 이동단계(p)는 상기 제1시이트 흡착표면을 상기 제2대기스테이션내에 위치시키고 상기 제2시이트 흡착표면을 상기 제2성형스테이션내에 위치시키는 유리시이트 성형방법.
제1항에 있어서, 상기 (k)단계는 상기 제1유리시이트를 제1형상으로 성형하고, 상기 (s)단계는 상기 제2유리시이트를 상기 제1형상과 다른 제2형상으로 성형하는 유리시이트 성형방법.
제1항에 있어서, 상기 제1성형수단은 제1하부 성형링을 구비하고, 상기 제2성형수단은 제2하부 성형링을 구비하며, 상기(k)단계는 상기 제1하부 성형 링과 상기 제1유리시이트를 상기 제1성형스테이션으로부터 상기 제1냉각스테이션으로 이동시키는 단계를 구비하고, 상기 (s)단계는 상기 제 하부2성형 링과 상기 제2유리시이트를 상기 제2성형스테이션으로부터 제2냉각스테이션으로 이동시키는 단계를 구비하는 유리시이트성형방법.
제6항에 있어서, 상기 제1성형스테이션은 상기 제1하부 성형 링이 상기 제l성형스테이션에 있을 때 상기 제l하부 성형 링위에 수직으로 정렬되는 제1상측 몰드를 더 구비하고, 상기 제2성형스테이션은 상기 제2하부 성형 링이 상기 제2성형스테이션에 있을 때 상기 제2하부 성형링위에 수직으로 정렬되는 제2상측 드를 더 구비하며, 상기 (k)단계는 상기 제1상측 몰드와 상기 제1하부 성형 링을 서로에 대하여 이동시켜시 상기 제1유리시이트를 그들 사이에서 압축성형하는 단계와, 상기 성형된 제1유리시이트가 상기 제1하부 성형 링 상에 지지되도록 상기 제l상측 몰드와 상기 제1하부 성형 링을 분리시키는 단계를 구비하고, 상기 (s)단계는 상기 제2상측 몰드와 상기 제2하부 성형 링을 서로에 대하여 이동시켜서 상기 제2유리시이트를 그들 사이에서 압축성형하는 단계와, 상기 성형된 제2유리시이트가 상기 제2하부 성형링상에 지지되도록 상기 제2상측 몰드와 상기 제2하부 성형링을 분리시키는 단계를 구비하는 유리시이트 성형방법.
제1항에 있어서, 상기 제1성형스테이션은 제1하부 성형 표면위에 수직으로 정렬되는 제1상측 진공 몰드를 구비하고, 상기 제2성형스테이션은 제2하부 성형 표면위에 수직으로 정렬되는 제2상측 진공몰드를 더 구비하며, 상기 (i)단계는 상기 진공 흡착장치의 유리시이트 흡착표면을 따른 진공인가를 중단하여 상기 제1유리시이트를 상기 제1성형스테이션의 제1하부 성형 표면상으로 낙하시키는 단계를 구비하고, 상기 (k)단계는 상기 제1상측 진공 몰드와 상기 제1하부 성형 표면을 서로에 대하여 이동시켜서 상기 제1유리시이트를 그들 사이에서 압축성형하는 단계와, 상기 제1상측 진공 몰드의 시이트 성형표면을 따라 진공을 인가하여 상기 성형된 유리시이트를 그것에 흡착시키는 단계와, 상기 제1상측 진공 몰드를 상기 제l하부 성형 표면으로부터 분리시키는 단계와, 제1이송 링을 상기 제l상측 진공 몰드의 아래에 위치시키는 단계와, 상기 제1상측 진공 몰드의 시이트 성형 표면을 따른 진공 인가를 중단하여 상기 제1유리시이트를 상기 제1이송링상으로 낙하시키는 단계와, 상기 제1이송 링과 상기 제1유리시이트를 제1냉각스테이션으로 이동시키는 단계를 구비하고, 상기 (q)단계는 상기 시이트 성형표면을 따른 진공 인가를 중단하여 상기 제2유리시이트를 상기 제2성형스테이션의 제2하부 성형 표면상으로 낙하시키는 단계를 구비하고, 상기 (s)단계는 상기 제2상측 진공 몰드와 상기 제2하부 성형 표면을 시로에 대하여 이동시켜서 상기 제2유리시이트를 그들 사이에서 압축성형하는 단계와, 상기 제2상측 진공 몰드를 상기 제2하부 성형 표면으로부터 분리시키는 단계와, 제2이송 링을 상기 제2상측 진공 몰드의 아래에 위치시키는 단계와, 상기 제2상측 진공 몰드의 시이트 성형 표면을 따른 진공 인가를 중단하여 상기 제2유리시이트를 상기 제2이송 링상으로 낙하시키는 단계와, 상기 제2이송 링과 상기 제2유리시이트를 제2냉각스테이션으로 이동시키는 단계를 구비하는 유리시이트 성형방법.
유리시이트를 성형하는 방법에 있어서, (a)일련의 유리시이트를 가열하는 단계와, (b)제1 및 제2성형스테이션을 이송스테이션의 양측에 배치하는 단계와, (c) 제1 및 제2시이트 흡착표면을 갖는 진공 픽업장치를 제공하는 단계와, (d) 상기 제1시이트 흡착표면이 상기 이송스테이션내에 있고 상기 제2시이트 흡착표면이 상기 제2성형스테이션내에 있도록 상기 진공 픽업장치를 배치하는 단계와, (e) 제1가열연화된 유리시이트를 상기 이송스테이션으로 반송하는 단계와, (f) 상기 제1유리시이트를 들어올려 상기 진공 픽업장치의 제1시이트 흡착표면에 흡착시키는 단계와, (g) 상기 제1시이트 흡착표면을 따라 진공을 인가하여 상기 제1유리시이트를 제1시이트 흡착표면에 흡착시키는 단계와, (h) 상기 제2의 가열연화된 유리시이트가 상기 이송스테이션으로 반송되는 동안 상기 제1시이트 흡착표면과 상기 제1유리시이트가 상기 이송스테이션으로부터 상기 제1성형스테이션으로 이동하고 상기 제2시이트 흡착표면이 상기 제2성형스테이션으로부터 상기 이송스테이션으로 이동하도록 상기 진공 픽업장치를 이동시키는 단계와, (i) 상기 제1시이트 흡착표면을 따른 진공 인가를 중단하여 상기 제1유리시이트를 상기 제1성형스테이션의 제1성형수단위로 낙하시킴과 동시에, 상기 제2유리시이트를 들어올려 상기 진공 픽업 장치의 제2시이트 흡착표면에 흡착시키고 상기 제2시이트 흡착표면을 따라 진공을 인가하여 상기 제2유리시이트를 제2시이트 흡착표면에 고정시키는 단계와, (j) 후속의 가열연화된 유리시이트가 상기 이송스테이션내로 반송되는 동안 상기 제2시이트 흡착표면과 상기 제2유리시이트가 상기 이송스테이션으로부터 상기 제2성형스테이션으로 이동하고 상기 제1시이트 흡착표면이 상기 제1성형스테이션으로부터 상기 이송스테이션으로 이동하도록 상기 진공 픽업장치를 이동시키는 단계와, (k) 상기 제1유리시이트를 성형하고 제어 냉각하는 단계와, (l) 상기 제2시이트 흡착표면을 따른 진공인가를 중단하여 상기 제2유리시이트를 상기 제2성형스테이션의 제2성형수단 위로 낙하시킴과 동시에, 상기 후 속의 유리시이트를 들어올려 상기 진공 픽업장치의 제1유리시이트 흡착표면에 흡착시키고 상기 제1시이트 흡착표면을 따라 진공을 인가하여 상기 후속의 유리시이트를 제1시이트 흡착표면에 고정시키는 단계와, (m) 상기 후속의 가열연화된 유리시이트가 상기 이송스테이션내로 반송되는 등안 상기 제1시이트 흡착표면과 상기 후속의 유리시이트가 상기 이송스테이션으로부터 상기 제1성형스테이션으로 이동하고 상기 제2시이트 흡착표면이 상기 제2성형스데이션으로부터 상기 이송스테이션으로 이동하도록 상기 진공 픽업장치를 이동시키는 단계와, (n) 상기 제2유리시이트를 성형하고 제어 냉각하는 단계와, (o) 상기 단계(i) 내지 (n)을 반복하는 단계를 포함하는 유리시이트 성형방법.
제9항에 있어서, 상기 (k)단계는 상기 1유리시이트를 제1형상으로 성형하고, 상기 (n)단계는 상기 제2유리시이트를 상기 제1형상과 다른 제2형상으로 성형하는 유리시이트 성형방법.
가열연화된 유리시이트를 성형하기 위한 장치에 있어서, 가열연화된 유리시이트를 수납하는 이송스테이션과, 제1 및 제2하향 시이트 흡착표면을 가지며, 상기 시이트 흡착표면중 어느 하나를 따라 진공을 인가하여 상기 가열연화된 유리시이트를 상기 시이트 흡착표면에 고정시키는 진공 픽업장치와, 상기 이송스테이션의 양측을 따라 배치된 제1 및 제2성형스테이션과, 상기 제l 및 제2성형스테이션내에 각기 배치된 제1 및 제2성형수단과, 상기 진공 픽업장치의 제1시이트 흡착표면이 상기 제2성형스테이션내에 위치하고, 상기 진공 픽업장치의 제2시이트 흡착표면이 상기 이송스테이션내에 있을 때 상기 제1시이트 흡착표면이 상기 제1성형스테이션내에 위치하도록, 상기 진공 픽업장치를 상기 성형스테이션들 사이에서 그리고 상기 이송스테이션내에서 이동시키는 수단과, 상기 시이트 흡착표면중 하나가 상기 이송스테이션에 있을 때 상기 가열연화된 유리시이트를 들어올려 상기 하나의 시이트 흡착표면에 흡착시키는 수단과, 상기 하나의 시이트 흡착표면을 따른 진공 인가를 중단하여 상기 가열연화된 유리시이트를 상기 하나의 시이트 흡착표면으로부터 상기 성형스테이션중 하나내의 성형수단상으로 낙하시켜서 상기유리시이트를 성형하는 수단과, 상기 유리시이트를 상기 하나의 성형스테이션으로부터 제거하는 수단과, 상기 유리시이트를 제어 냉각하는 수단을 포함하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제11항에 있어서, 상기 들어올리는 수단과 낙하수단은 제1유리시이트를 들어올려 상기 시이트 흡착 표면중 하나에 흡착시킴과 동시에 제2유리시이트를 상기 시이트 흡착표면중 다른 것 상으로 낙하시키는 수단을 더 구비하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제11항에 있어서, 상기 냉각수단은 상기 제1성형스테이션에 인접배치된 제1냉각스테이션과 상기 제2성형스테이션에 인접배치된 제2냉각스테이션을 가지며, 상기 제1 및 제2성형수단은 제1 및 제2하부 성형링을 각기 구비하고, 상기 제거수단은 상기 제1하부 성형 링을 상기 제1성형스테이션내의 제1위치로부터 상기 제l냉각스테이션내의 제2위치로 이동시키는 수단과, 상기 제2하부 성형 링을 상기 제2성형스테이션내의 제1위치로부터 상기 제2냉각스테이션내의 제2위치로 이동시키는 수단을 포함하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제13항에 있어서 상기 제1 및 제2성형수단은 상기 제l 또는 제2하부 성형링위에 수직으로 정렬된 대응하는 하향 성형 표면을 갖는 제1 및 제2상측 몰드를 더 구비하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제11항에 있어서, 상기 제l성형수단은 제1하부 성형 표면위에 수직으로 정렬된 하향 성형 표면을 갖는 제1상측 진공 몰드를 구비하고, 상기 제2성형수단은 제2하부 성형 표면위에 수직으로 정렬된 하향 성형 표면을 갖는 제2상측 진공 몰드를 구비하며, 상기 가열연화된 유리시이트 성형장치는 상기 제1 및 제2상측 진공 몰드를 상기 각각의 정렬된 제1 및 제2하부 성형 표면에 대하여 이동시켜서 가열연화된 유리시이트를 그들 사이에서 압축성형하는 수단을 더 구비하고, 상기 냉각수단은 상기 제1성형스테이션에 인접배치된 제1냉각스테이션과, 상기 제2성형스테이션에 인접배치된 제2냉각스테이션을 구비하고, 상기 제거수단은 상기 제1상측 진공 몰드 아래의 제1위치로부터 상기 제1냉각스테이션내의 제2위치까지 이동가능한 제1이송 링과, 상기 제2상측 진공 몰드 아래의 제1위치로부터 상기 제2냉각스테이션내의 제2위치까지 이동가능한 제2이송 링을 구비하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제14항에 있어서, 상기 제1성형수단은 상기 제2성헝수단의 유리시이트 성형 표면과 상이한 현상을 갖는 유리시이트 성형 표면을 구비하는 가열 연화된 유리시이트 성형장치.
가열연화된 유리시이트를 성형하기 위한 장치에 있어서, 가열연화된 유리시이트를 수납하는 이송스테이션과, 제1 및 제2하향 시이트 흡착표면을 가지며, 상기 시이트 흡착표면중 어느 하나를 따라 진공을 인가하여 상기 가열연화된 유리시이트를 상기 시이트 흡착표면에 고정시키는 진공 픽업장치와, 상기 이송스테이션의 양측을 따라 배치된 제1 및 제2성형스테이션과, 상기 제1 및 제2성형스테이션내에 각기 배치된 제1 및 제2성형 수단과, 상기 제1성형스테이션과 상기 이송스테이션 사이에 배치된 제1대기스테이션과, 상기 제2성형스테이션과 상기 이송스테이션 사이에 배치된 제2대기스테이션과, 상기 진공 픽업장치의 제1시이트 흡착표면이 상기 제1성형스테이션, 상기 제1대기스테이션, 상기 이송스테이션 또는 상기 제2대기스테이션내에 있을 때 상기 진공 픽업장치의 제2시이트 흡착표면이 상기 제l대기스테이션, 상기 이송스테이션, 상기 제2대기스테이션 또는 상기 제2성형스테이션내에 각기 위치하도록, 상기 진공 픽업장치를 상기 성형스테이션들 시이에서 그리고 상기 이송스테이션내에서 이동시키는 수단과, 상기 진공 픽업장치의 시이트 흡착표면중 하나가 상기 이송스테이션에 있을 때 상기 가열연화된 유리시이트를 들어올려 상기 하나의 시이트 흡착표면에 흡착시키는 수단과, 상기 하나의 시이트 흡착표면을 따른 진공 인가를 중단하여, 상기 가열연화된 유리시이트를 상기 하나의 시이트 흡착표면으로부터 상기 성형스테이션중 하나내의 성형수단상으로 낙하시켜서 상기 유리시이트를 성형하는 수단과, 상기 유리시이트를 상기 하나의 성형스테이션으로부터 제거하는 수단과, 상기 유리시이트를 제어 냉각하는 수단을 포함하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제17항에 있어서, 상기 냉각수단은 상기 제1성형스테이션에 인접배치된 제1냉각스테이션과 상기 제2성형스테이션에 인접배치된 제2냉각스테이션을 가저며, 상기 제1 및 제2성형수단은 상기 제1 및 제2하부성형 링을 각기 구비하고, 상기 제거수단은 상기 제1하부 성형 링을 상기 제1성형스테이션내의 제l위치로부터 상기 제l냉각스테이션내의 제2위치로 이동시키는 수단과, 상기 제2하부 성형 링을 상기 제2성형스테이션내의 제l위치로부터 상기 제2냉각스테이션내의 제2위치로 이동시키는 수단을 포함하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제17항에 있어서, 상기 제1 및 제2성형수단은 상기 제1 또는 제2하부 성형 링위에 수직으로 정렬된 대응하는 하향 성형 표면을 갖는 제1 및 제2상측 몰드를 더 구비하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제l7항에 있어서, 상기 제1성형수단은 제1하부 성형 표면위에 수직으로 정렬된 하향 성형 표면을 갖는 제1 상측 진공 몰드를 구비하고, 상기 제2성형수단은 제2하부 성형 표면위에 수직으로 정렬된 하향 성형 표면을 갖는 제2상측 진공 몰드를 구비하며, 상기 가열연화된 유리시이트 성형장치는 상기 제1 및 제2상측 진공 몰드를 상기 각각의 정렬된 제1 및 제2하부 성형 표면에 대하여 이동시켜서 가열연화된 유리시이트를 그들 사이에서 압축성형하는 수단을 더 구비하고, 상기 냉각수단은 상기 제1성형스테이션에 인접배치된 제l냉각스테이션과, 상기 제2성형스테이션에 인접배치된 제2냉각스테이션을 구비하고, 상기 제거수단은 상기 제1상측 진공 몰드 아래의 제1위치로부터 상기 제1냉각스테이션내의 제2위치까지 이동가능한 제1이송 링과, 상기 제2상측 진공 몰드 아래의 제1위치로부터 상기 제2냉각스테이션내의 제2위치까지 이동가능한 제2이송 링을 구비하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.
제17항에 있어서, 상기 제1성형수단은 상기 제2성형수단의 유리시이트 성형표면과 상이한 형상을 갖는 유리시이트 성형 표면을 구비하는 가열연화된 유리시이트 성형장치.