KR970004355B1 - 전해형 오염제거장치 및 캡슐화 공정 - Google Patents

Abstract

없음

Description

제1도는 본 발명의 장치에 대한 개략도.

제2A, 2B 및 2C도는 각각 본 발명의 방법을 실행하기 위해 사용된 전극의 투시 단측면도 및 확대도.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

1 : 오염제거장치3 : 용액재생시스템

5 : 회화 및 캡슐화 시스템8 : 공급탱크

10, 16 : 출구용 도관12 : 입구 펌프

14 : 시스템 제너레이터18 : 출구펌프

19, 24 : 입구용 도관25a, 25b : 전극셀

[발명의 명칭]

본 발명은 오염제거용액을 재생하기 위해 오염제거용액으로부터 전해에 의하여 방사성 이온을 제거하는 장치 및 그 처리방법에 관한 것으로, 구체적으로는 방사성 폐기물 용액을 형성하지 않고서 시멘트 기질내에 쉽게 캡슐화될 수 있는 작은 량의 금속 및 애쉬로 방사성 이온을 환원시키는 것에 관한 것이다.

화학적 오염제거용액으로부터 방사성 이온을 제거하기 위한 여러가지 방법이 종래기술에 공지되있다. 그러나, 그러한 제거방법을 논하기 이전에, 본 발명의 중요성이 보다 쉽게 이해될 수 있도록 오염제거용액 자체에 대한 존재 목적 및 구성을 간단히 설명한다.

일반적으로, 본 발명의 오염제거용액은 원자로의 냉각 시스템을 형성하는 수관에서 점차로 생성되는 자철광을 제거하는데 사용된다. 통상, 자철광은 방사성 금속을 포함하는데 이러한 자철광의 제거는 원자로 냉각시스템을 안전하게 유지 및 보수하기 위해 필요하다. 그런데 그러한 자철광의 제거는 그것을 알카리 광망간산염을 포함하는 산화 용액 등으로 1차로 처리함으로써 이루어지는데, 이는 그 자철광으로부터 크롬을 제거하기 위한 것이다. 상기의 단계로 인하여 자철광은 산용액에서 보다 잘 용해될 수 있다. 크롬이 제거된 자철광은 그다음 오염제거용액으로 처리되는데, 그것은 에틸렌디아민 테트라아세트산 등의 킬레이트 수성용액 및 옥살산 시트르산 혼합물 등의 용해제로 될 수 있다. 사용될 수 있는 다른 킬레이트제로는 옥시비스(에틸렌 디아민테트라 아세트산)(EEDTA) 및 니트릴로트리아세트산(NTA) 등이 있다. 킬레이트제는 자철광으로부터의 방사 금속 이온과 착염을 형성하여 그것을 용해시켜서, 냉각 시스템의 다른 위치에서 그 이온이 용액으로부터 침전되는 것을 방지한다.

따라서, 킬레이트제에 의해 착화된 방사금속 이온은 용액을 재생하기위해 그 오염제거용액으로부터 제거되야만 한다. 또한 제거된 방사성 이온은 용이하고 저렴하게 처치할 수 있는 형태로 되어야 한다. 오염제거용액으로부터 금속 이온을 제거하는 종래 기술의 한가지 방법은 원자로 냉각 시스템과 양이온 교환수지 사이의 용액을 순환시키는 것이다. 킬레이트 금속 이온은 양이온 교환 수지에 용착되어, 킬레이트제가 용착 금속내에서 추가의 금속 이온을 용해시킨다. 그러나, 킬레이트제와 양이온 교환 수지는 금속 이온과 대립하기 때문에, 이온은 쉽게 킬레이트를 이탈하지 못하여 그 자체가 이온 교환 컬럼에 붙게된다. 그 결과 오랜 이온 접촉시간이 필요하게 되고, 그에 따르는 컬럼 유출물은 비교적 다량의 용액 폐기물을 포함하는데, 이에는 고농도의 방사성 이온이 포함된다. 따라서, 오염제거를 효과적으로 하기위한 시간이 길어지는 이외에, 이온교환 과정에 의해 방사성 용액 유출물은 처리하기가 비교적 어렵고, 비용이 많이든다.

이러한 문제를 해결하기 위하여, 발명자들은 오염제거용액의 킬레이트로부터 상기한 금속 이온을 제거하기위해 전해 방법을 개량하였다. 이러한 새로운 방법은 1985년 8월 27일자 미합중국 특허 제4,357,666호에 개시되있는데, 그 특허권은 웨스팅 하우스사에 양도되었다. 일반적으로 말하면, 이러한 처리에는 이온을 전극에 달라붙게 하기위해서 스텐이나 구리메시로 형성된 그 전극을 통해서 오염제거용액을 통과시키는 것이 포함된다. 전극이 완전히 이온으로 도금되어 완전히 소모되면, 새로운 전극으로 교체된다.

그러나, 상기의 특허에 기술 및 청구된 처리는 본 분야의 실질적 진보를 나타내지만, 본 발명의 여러가지 개요면에서 개선의 여지가 있다. 예를들면, 이러한 처리에 의해 생성된 고체 상태 폐기물(즉, 소모되어 도금된 전극)의 량중에서 99% 이상이 비-방사성 물질이다. 방사성 폐기물의 량에 처리비용이 직접적으로 비례하기 때문에, 소모 전극에 있는 매우 작은 량의 금속막이 방사성 물질이라는 사실은 불행히도 효율적이 되지 못한다. 종래 전해처리에 있어서 두번째로 소망스럽지 못한 특성은 실제로 사용되는 금속성 전극중에서 몇몇은 침식되기 쉽고(구리 등) 반면에 다른 몇몇(스텐 등)은 표면 안정화로 인해서 짧은 수명을 갖는 것으로 알려졌다. 종래 기술전해처리에 있어서의 다른 나쁜 특성은 그 사용전극이 적어도 오염제거용액에 있어서 흔적량으로 존재하는 불순물(윤활유 및 다른 소수성 화합물 등)을 여과 및 흡착시킬 수 있는 능력을 갖고 있지 않다는 사실이다. 종래기술에서 사용되던 이온교환 컬럼은 이러한 점에서 다소간의 여과 및 흡착능력을 갖지만 반면에 보다 최근에 개발된 전해 처리는 이온교환 방법보다 훨씬 우수한 능력을 갖는데, 이러한 여과 및 흡착능력에 있어서의 손실이라는 것은 장치의 효율성을 저하시킨다.

따라서 오염제거용액으로부터 금속 이온을 제거하기 위해 종래기술의 전해 및 이온교환처리방법의 모든 장점을 구비하면서 동시에 방사성 폐기물 용액을 전해 생성하지 않는 개선된 처리 및 장치를 필요로 하게 된다. 이상적으로 그러한 처리에는 긴 수명을 갖는 부품의 사용이 필요시되어야 하며, 현저히 줄어든 량의 고체 폐기물을 배출해야만한다. 또한 그러한 과정에는 종래 이온교환컬럼과 관련하여 여과 및 흡착의 장점을 담고 있어야 한다.

일반적으로, 본 발명은 전술한 종래기술의 결점을 해결하는데 있으며, 이는 용액으로부터 방사상 이온을 제거하기위한 개선된 전해 방법 및 장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명의 장치는 회화(incinerate)시 개스를 형성하는 물질로 구성된 캐소우드를 포함한다. 본 발명의 방법에 있어서, 오염제거용액은 투과성 전극상의 이온을 도금시키기 위해 그 투과성 전극을 통해서 순환된 다음 최종 방사성 폐기물의 량을 줄이기 위해서 전극의 전기적 성질이 소모된 후에 회화된다.

본 발명의 단계에는 또한 회화이전에 본 방법의 회화단계를 촉진시키기 위해 소모된 전극을 건조시키는 추가의 단계를 포함한다. 전극의 회화에 의해 발생된 개스는 그 내부에 포함된 방사성 물질 입자를 제거하기 위해 제거되어야 한다. 제거 단계에 따른 임의의 방사성 오염제거용액은 회화단계에 의해 발생된 방사성 애쉬를 최종적으로 캡슐화 시키는 시멘트 기질을 형성하는데 사용된다.

근본적으로, 본 발명의 장치는 본 발명의 방법을 수행하는 수단을 포함하는데, 절연기에 의해 분리된 애노드 및 캐소우드를 갖는 침투성 전극을 포함한다. 상기의 전극은 4가지 이유로 인해서 미립자 탄소층으로 형성된다. 첫째로, 탄소는 매우 정제된 메시크기로 용이하고 저렴하게 구입할 수 있으므로 오랜 서비스 기간을 보장할 수 있을 뿐만 아니라, 오염제거용액과 캐소우드 전극 사이에 대량의 친밀 접촉을 유지시킨다. 세째로, 탄소는 오염제거용액에 있는 윤활유 및 다른 불순물 흔적량을 제거할 수 있는 우수한 여과 및 흡착 물질이다. 마지막으로, 탄소는 부식하지 않는 물질이다.

양호한 실시예에 있어서, 캐소우드 뿐만아니라 애노드는 오염제거용액이 통과하는 경우 여과 및 흡착 특성을 충분히 나타내기 위해 미립자 탄소층으로 구성된다. 애노드 및 캐소우드는 팩형 정제 메시흑연층으로 구성되기는 하지만, 유체화층이 양호한데, 그러한 유체화층은 팩형보다 우수한 앤티클로킹(anti-clogging) 특성을 가지며, 흑연 입자상에 더많은 금속이 도금될 수 있어서, 최소의 클링커 생성량으로도 더 많이 회화될 수 있다.

전극이 소모된 때를 판단하기 위해서, 본 발명의 장치는 전극을 통과하는 용액에 있어서의 압력 강하를 측정하기위한 다른 압력 센서를 갖는다. 커다란 압력강하가 있다는 것은 전극의 캐소우드 부분에 대한 표면 영역의 부분이 금속 도금이 완료되어 다 소모되었다는 것을 나타낸다. 본 발명에 따른 방법의 회화단계를 실행하기 위해서, 본 발명의 장치는 회화를 촉진시키고 클링커 형성을 방지할 수 있는 흑연전극입자에 균일한 열을 가하는 유체화층 소각로를 포함한다. 클링커 형성은 최종 방사성 애쉬의 량을 크게 증가시키기 때문에 상기 사실은 매우 중요하다. 본 발명의 건조 단계를 실행하기 위해서 본 발명의 장치에는 또한 마이크로웨이브 유니트가 필요하다.

마지막으로, 본 발명의 제거 및 캡슐화 단계를 실행하기 위해서 본 발명의 장치는 제거스테이숀 및 캡슐화 스테이숀을 포함한다. 이러한 두개의 스테이숀에서는 제거스테이숀으로부터의 방사성 오염제거용액이 시멘트 기질을 혼합하거나, 방사성 애쉬를 캡슐화시키는데 사용된 침전물을 혼합시키는데, 사용되도록 유체 전달이 행해진다.

본 발명은 이하 양호한 실시예와 관련한 첨부 도면과 더불어 그 실시예의 상세한 설명으로 보다 잘 이해될 수 있다.

제1도를 참조하면, 이하도면 전체에 걸쳐 동일한 번호는 동일한 부품을 나타내는데, 본 발명의 오염제거장치(1)는 용액재생시스템(3)과 회화 및 캡슐화 시스템(5)로 구성된다. 용액재생시스템(3)은 시스템 제너레이터를 통해서 순환하는 오염제거용액을 재생시키며, 회화 및 캡슐화 시스템(5)는 용액재생시스템(3)에 의해 생성된 완전히 도금되어 소모된 전극을 회화시킨다.

용액재생시스템(3)은 시스템(3)에 사용된 오염제거용액에 대한 저장소로서 작용하는 공급탱크(8)을 포함한다. 탱크(8)은 금속 이온에 대한 칼레이트를 포함하는 임의의 오염제거용액을 담고 있다. 킬레이트제는 금속에 비해 약 10¹⁵이상의 평형상수를 갖는 착화제이다. 그러한 킬레이트제의 예를들면, EDTA, 트랜스, 1, 2-디아미노사이클로핵산 테트라아세트산(DLTA), 옥시비스(에틸렌 디아민테트라아세트산)(EEDTA) 니트릴로트리아세트산(NTA) 등이 있는데, 상기 오염제거용액은 또한 일반적으로 시트르산이나 옥살산 등의 하나이상의 용해제를 포함한다.

출구용 도관(10)은 공급탱크(8)을 입구펌프(12)에 접속시켜 준다. 펌프(12)의 출구는 시스템 제너레이터(14)의 입구용도관(13)에 접속되거나 제거될 방사상 폐기물을 갖는 다른 장치에 접속되어 있다. 출구용도관 (16)은 시스템 제너레이터(14) 내부에서 순환되는 오염제거용액 출구 펌프(18)로 보낸다. 펌프(18)의 출구는 순서적으로 주전극 입구용 도관(19)에 접속되어 있다. 밸브(20)은 전극 셀(25a, 25b) 내부에 사용된 오염제거용액의 흐름을 제어하기위해 주전극 입구용 도관(19)에 포함된다.

전극 입구용 도관(19)는 그 도관을 전극셀(25a)의 입구용 도관(24)에 접속시키기 위한 T-조인트(22)를 포함한다. 도관(19)로부터 나온 사용된 오염제거용액의 흐름에서 전극셀(25a)를 격리시키기 위한 입구용 도관(24)에는 상부흐름 격리 밸브(26)이 포함된다. 전극셀(25a)의 출구단부에는 공급탱크(8)의 입구로 이어지는 도관(41)에 차례로 접속되어 있다. 출구용 도관(2)은 하부흐름 격리밸브(30)을 포함한다. 격리밸브(26, 30)이 모두 폐쇄되었을 때, 전극셀(25a)는 완전히 시스템(3)의 오프-라인이 된다. 차등압력센서(32a)는 그 내부에 설치된 전극(45)와 관련된 압력 강하를 모니터하도록 입구용 도관(24)와 출구용 도관(28)에 걸쳐 접속되어 있다.

제2전극셀(25b)는 L-조인트(33)을 통해서, 벼열 상태로 전극 입구용 도관(19)에 접속되어 있다. L-조인트(33)은 입구용 도관(24)와 같이 입구용 도관(34)에 접속되어 있는데, 그 도관(34)는 또한 상부 흐름 격리밸브(36)을 포함한다. 셀(25b)의 출구는 또한 전술한 출구용 도관(28)과 같이 출구용 도관(38)을 포함하는데, 그 도관(38)은 하부흐름 격리밸브(40)을 포함한다. 공급탱크(8)로 이어지는 입구용 도관(41)은 각각 L-조인트(42)와 L-조인트(43)을 경유하여 전극셀(25a) 및 (25b)의 출구용 도관에 접속되어 있다. 또한 공급탱크 입구용 도관(41)에는 마이크로웨이브 건조유니트(44)가 접속되어 있다. 유니트(44)는 전극(45)가 소모된 후 전극셀(25a, 25b) 내부에서 케이스로 둘러싸인 전극(45, 가상선으로 도시)를 건조시키는데 사용된다. 마이크로웨이브 건조유니트(44)는 L-조인트(48)을 통해서 방사성 폐기물을 다시 입구용 도관(41)로 유도하기 위하여 출구용 도관(46)을 포함한다.

동작에 있어서, 전극셀(25a, 25b) 모두는 정상적으로 온라인상에서 동작한다. 그러나, 셀(25a, 25b) 각각은 시스템(3)상의 로우드를 적어도 순간적으로 조절할 수 있다. 정상적으로 약 1V 내지 10V 사이의 직류전압이 셀(25a)와 셀(25b) 각각에 배치된 전극(45)에 인가되는데, 정확한 전압은 사용된 특정 킬레이트의 이온 친화력에 좌우된다. 그러나, 전극(45)의 캐소우드를 형성하는 흑연입자를 도금시키는 방사성 금속 이온의 량에 의해 압력차이(차등 입력센서 32a, 32b로 도시)가 증가함에 따라, 오염제거용액과 흑연입자 사이의 표면접촉 감소량을 보상하기 위해 상기 전압은 약간 상승된다. 압력센서(32a) 또는 (32b)중 어느 하나가 압력강하를 나타내면 즉, 셀(25a) 또는 (25b)중 어느 하나에서 전극(45)가 다 소모되면 그 셀은 그 입구 및 출구도관에 배치된 격리 밸브(26, 30) 또는 (36, 40)을 폐쇄시킴으로써 격리된다. 임의 하나의 셀내의 전극(45)가 대체됨에 따라, 순간적으로 다른 셀은 시스템을 로우드시킨다. 방금전에 셀(25a), (25b) 중 어느 하나내의 전극(45)가 대체된 경우에 펌프(18)는 전극내에 응결된 임의의 흑연입자덩어리를 브레이크 업시키기 위해 작동되어야 하는데 이에 의해 전극(45)의 건조 및 회화를 촉진시킨다.

그다음 소모된 전극(45)는 그 전극에서 모든 액류 및 방사성 폐기물을 제거하기 위해서 마이크로웨이브 건조 유니트(44)내에 배치된다. 그러한 건조단계에 의해 쉽게 이해되는 바와 같이 전극(45)의 균일한 회화를 촉진시킨다.

본 발명의 장치(1)의 회화 및 캡슐화 시스템(5)는 용액재생시스템(3)에 의해 생성된 소모 흑연 전극(45)를 연소시키기 위한 소각로(50)을 포함한다. 양호한 실시예에 있어서, 소각로(50)은 종래기술에 알려진 타입인 유체화층 타입 소각로이다. 이와는 달리 소각로(50)은 미합중국, 펜실바니아, 피츠버그 소재 O' Conner Combustor Works에 의해 제조되는 모델 RC60아니 RC120의 냉벽형 회전 연소 기인, 회전 가마형 소각로가 될 수 있다. 어떤 형태의 소각로를 사용하는지간에 불필요하게 최종 방사성 애쉬의 량을 증가시키는 클링커의 형성을 최소로 하는 흑연전극(45)을 균일하게 연소시킨다. 그러나, 이러한 두가지 형태중에서, 유체화층 소각로를 사용하는 것이 다소 양호한데, 이는 상기의 특별한 타입의 소각로로 인해 클링커 형성이 최소로 될 수 있기 때문이다. 소각로(50)은 그 상부에 벤츄리형 세정기(54)에 접속된 출구형 연도를 포함한다.

세정기(54)는 탄소 전극(45)을 연소시킴에 의해 생성된 이산화탄소 및 다른 개스내에 포함된 방사성 입자를 제거하는데, 이는 연도출구(55)를 빠져나온 개스가 상기와 같은 방사성 입자를 갖지 않게 하기 위함이다. 세정기(54)는 연도 내부를 통해 흐르는 연도개스를 통해서 물로 인한 미스트를 스프레잉시킴에 의해 동작한다. 상기의 물은 물유입 도관(58)에 접속된 저수고(56)으로부터 나온다. 물방울이 연도개스를 통해 스프레이된 후, 이러한 물방울(및 연도개스로부터 제거된 방사성 입자)은 배수도관(60)을 통해 시멘트 혼합 스테이숀(62)로 흘러들어가는 드레인에서 모인다. 이러한 물(방사능이 소량 함유된)은 소각로(50)에 의해 생성된 방사성 애쉬를 캡슐화시키기 위한 시멘트 기질을 형성하도록 침전혼합물과 혼합된다. 시멘트 혼합 스테이숀(62)에 의해 생성된 비경화성 그라우트(grout)는 도관(64)를 통해서 캡슐화 스테이숀(66)으로 흘러들어간다. 캡슐화 스테이숀(66)은 소각로 출구용 도관(68)을 통해서 소각로(50)에 의해 생성된 모든 방사성 애쉬를 수용하는데, 그 애쉬는 예를들면, 55갤론(208리터) 드럼이내의 애쉬를 모음으로서 캡슐화된 다음, 압축되어 시멘트 혼합 스테이숀(62)에 의해 생성된 그라우트로부터 시멘트 기질내에 매설된다.

제2A, 2B 및 2C도를 참조하면, 각 전극셀(25a, 25b)내부에 포함된 전극(45)는 원통형 모양이고, 각 셀(25a, 25b)는 케이싱 벽(67) 내부에 밀집하여 배치되어 있다. 상기 케이싱(도시하지 않음)의 균형이 유지됨으로써 기계적 구성은 전극(45)가 비교적 용이하게 제거되어 케이싱벽(67)에 삽입가능하게 될 수 있다. 전극(45)는 1 내지 5㎜의 크기를 갖는 흑연 입자층으로 형성된 캐소우드(69)를 포함한다. 상기와 같은 입자의 팩형층이 사용되는 반면, 양호한 실시예의 층은 반유체형 층이다. 그러한 반유체형 층에 있어서, 흑연 입자는 입구펌프(18)을 작동시킴으로써 교반된다. 상기와 같은 교반 작용에 의해 입자들이 방사성 이온으로 도금되는 경우, 그 입자들이 서로 응결되어야만하는 성향을 막을수가 있어, 오염제거용액과 이러한 입자들의 외부면 사이에 넓은 표면 영역을 유지할 수 있다. 이러한 넓은 표면 영역을 효과적으로 이용함으로써 전극(45)가 보다 효과적으로 접속될뿐만 아니라, 그 수명을 연장시킬 수 있다. 캐소우드(69)를 둘러싸는 것은 약 1 내지 5㎜ 크기의 반유체형 흑연층으로 양호히 형성된 환상 애노드(71)이다. 애노드(71)을 형성하는 유체형층을 함유하고, 또한 전극(45)의 구조를 완전하게 하기 위해서, 애노드(71)은 침수성 나일론메시(73)에 의해 둘러싸인다. 캐소우드 및 애노드사이에서 쇼트회로가 형성되는 것을 방지하고 또한, 캐소우드(69)를 형성하는 유체형 흑연입자층을 함유하기 위해서, 캐소우드(69)는 폴리프로필렌펠트(75)로 감겨진다. 다른 물질이 메시(73) 및 펠트(75)를 형성하는데 사용될 수 있지만, 나일론 및 폴리프로필렌이 양호한데, 이는 이들이 쉽게 연소될 수 있기 때문이다. 분말형 흑연이 양호한 실시예에서 사용되기는 하지만, 폴리아세틸렌 등의 전기 전도성 플라스틱 입자가 또한 사용된다.

양호한 실시예에 있어서 원통형 전극은 높이대 직경가로 세로비가 1 또는 그 이상이다. 작은 가로세로비에 의해서는 전극(45)을 통해 소모된 오염제거용액의 이동시간이 충분치 않아서, 전극단면의 비교적 소형부분을 통한 용액의 다량의 흐름을 소망스럽지 못하게 "채널링(Channelling)"시킨다.

전해형 오염제거장치 및 캡슐화 공정

Claims (25)

1. 오염제거용액에 용해된 처리방사성 금속 이온을 제거 및 준비하기 위한 방법에 있어서, 상기 이온을 전극(45)에 도금하기 위해 연소성 물질로 구성된 침투성 전극(45)를 통해서 상기 용액을 순환시키는 단계 ; 상기 전극(45)의 량을 줄이기 위해 그 도금전극(45)를 연소시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 방사성 금속 이온 제거 및 준비 방법.
2. 제1항에 있어서, 연소이전에 상기 도금전극(45)를 건조시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 전극(45)는 연소가 완전히 이루어진후 상기 전극(45)의 고체량의 감소를 일으키는 개스성 혼합물을 연소시 형성하는 물질로 구성된 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 전극(45)는 실질적으로 탄소를 구성하는 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 전극(45)는 미립자 흑연층으로 된 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 미립자 흑연층(45)는 유체형인 것을 특징으로 하는 방법.
7. 제5항에 있어서, 상기 미립자 흑연층(45)는 팩형인 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제3항에 있어서, 전극(45)를 연소시킴에 의해 형성된 개스는 그 개스에 포함된 방사성 입자를 제거하기 위한 용액으로 제거되는 것을 특징으로 하는 방법.
9. 제8항에 있어서, 시멘트 기질을 형성하기 위해 시멘트 형성 복합물로서 상기 개스를 제거하는데 사용되는 세정 용액을 혼합시키는 단계 ; 상기 전극이 연소된후에 남아있는 고체 덩어리를 캡슐화 시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제1항에 있어서, 상기 전극(45)는 실질적으로 탄소로 구성되고, 상기 용액이 상기 전극을 통해 순환됨으로써 상기 용액으로부터 불순물을 여과시키는 기능을 하는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 제10항에 있어서, 상기 전극(45)는 전기 전도성 플라스틱 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 전극(45)는 폴리아세틸렌으로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제10항에 있어서, 상기 용액은 상기 용액을 오염시키는 윤활유를 사용하는 펌프 수단(12, 18)에 의해 순환되며, 상기 탄소전극(45)는 상기 오염 윤활유를 여과시키는 기능을 하는 것을 특징으로 하는 방법.
14. 제1항에 있어서, 상기 도금전극(45)는 클링커 형성을 최소로 하기 위해 유체층 소각로에서 연소되는 것을 특징으로 하는 방법.
15. 제2항에 있어서, 연소이전에 상기 전극을 건조시키는 단계는 마이크로웨이브 수단(44)에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
16. 제1항에 있어서, 상기 이온을 에틸렌디아민 테트라아세트산, 니트릴로트리아세트산, 트랜스, 1, 2-디아미노사이클로헥산 테트라아세트산, 옥시비스(에틸렌디아민테트라아세트산) 및 그 혼합물로 구성된 그룹중에서 선택된 킬레이트를 포함하는 오염제거용액에서 용해되는 것을 특징으로 하는 방법.
17. 오염제거용액으로부터 방사성 금속 이온을 제거하고, 그것을 캡슐화시키기 위한 장치(1)에 있어서, 상기 용액으로부터 상기 금속 이온을 도금시키기 위한 제거가능, 침투성 캐소우드(69)를 구비한 전극(45)과, 상기 캐소우드(69)가 상기 이온함유 캐소우드 고체덩어리를 애쉬로 줄이기 위해 실질적으로 상기 이온으로 도금된 후 상기 침투성 캐소우드(69)를 가열시키기 위한 소각로 수단(50)을 포함하는데, 상기 캐소우드는 회화시 개스성 혼합물을 형성하는 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 방사성 금속 이온 제거 및 캡슐화 장치.
18. 제17항에 있어서, 상기 캐소우드(69)가 제거되어 가열되기 이전에 상기 캐소우드(69)를 건조시키기 위한 수단(44)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 장치(1).
19. 제17 또는 제18항에 있어서, 상기 캐소우드(69)는 탄소입자층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치(1).
20. 제17항에 있어서, 상기 소각로수단(50)은 상기 캐소우드(69)를 연소시키는 회전가마(50)인 것을 특징으로 하는 장치(1).
21. 제17항에 있어서, 개스성 혼합물에 포함된 임의의 방사성 입자를 제거하기 위해 용액으로서 상기 캐소우드(69)를 가열시킴에 의해 생성된 그 개스성 혼합물을 제거시키기 위한 수단(54)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 장치(1).
22. 제17항, 제18항, 제20항, 또는 제21항중 어느 한 항에 있어서, 상기 애쉬를 캡슐화시키기 위해 시멘트 기질을 혼합하기 위한 수단(62)를 추가로 포함되는 것을 특징으로 하는 장치(1).
23. 제21항에 있어서, 세정용액은 상기 혼합수단(62)에 접속된 상기 제거수단(54)에 포함된 상기 개스성 혼합물을 제거하는데 사용되며, 또한 상기 시멘트 기질을 형성하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 장치(1).
24. 제17항, 제18항, 또는 제20항중 어느 한 항에 있어서, 상기 전극(45)의 상기 침투성 캐소우드(69)는 거의 원통형이며 애노드(71)에 의해 둘러싸이며 상기 애노드(71)과 캐소우드(69)는 반침투성막(175)에 의해 분리되는 것을 특징으로 하는 장치(1).
25. 제17항에 있어서, 상기 캐소우드(69)가 거의 이온으로 도금된 경우를 결정하기 위해 침투성 전극(69)을 순환하는 용액에 있어서의 압력 차이를 측정하기 위한 수단(32a, 32b)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 장치(1).

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