KR970003722A - 반도체 자기 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 높은 전압이 인가되더라도 자기 파괴가 일어나기 어려우며 돌입 전류에 대한 파괴 특성이 우수한 반도체 자기 및 그 제조 방법을 제공한다.
(Ba0.536Pb0.08Sr0.20Ca0.18Er0.004)TiO3+0.0004Mn+0.02SiO2의 조성이 되도록, BaCO3, SrCO3, Pb3O4, CaCO3, TiO2, Er2O3, MnCO3, 및 SiO2를 칭량하였다. 이들을 분쇄 혼합한 후, 탈수 건조하고, 1150℃에서 2시간 가소(假燒)하여 가소분을 얻었다. 이 가소분을 분쇄하고, 바인더를 혼합하여 조립하고, 건식 프레스로 직경 18㎜, 두께3.6㎜의 성형체를 제작하고, 1360℃에서 1시간 소정하고, 표 1에 나타낸 조건에 의해 냉각하고, 반도체 자기를 얻었다. 얻어진 반도체 자기의 양면에 단자 전극이 되는 음성을 나타내는 니켈층을 무전해 도금에 의하여 형성하고, 가장 외측에 은페이스트를 도포하여 600℃에서 30분간 베이킹하고, 정특성 서미스터로 하였다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 반도체 자기에 의해 얻어지는 정특성 서미스터의 일측의 주면에서 타측의 주면으로 단위 두께당의 저항값의 변화를 모식적으로 나타낸 도면이다.
Claims (5)
- 정(正)의 저항 온도 특성을 갖는 티탄산바륨계의 반도체 자기에 있어서, 상기 반도체 자기의 표면부와 중심부 사이의 저항값이 상기 반도체 자기의 표면부 혹은 중심부의 저항값보다도 높은 것을 특징으로 하는 반도체 자기.
- 제1항에 있어서, 상기 반도체 자기의 표면부와 중심부 사이의 저항값이 상기 표면부 혹은 상기 중심부의 저항값보다도 15~68% 높은 것을 특징으로 하는 반도체 자기.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 반도체 자기는, 산화납, 산화스트론튬, 산화칼슘을 포함하는 티탄산바륨계인 것을 특징으로 하는 반도체 자기.
- 정의 저항 온도 특성을 갖는 티탄산바륨계의 반도체 자기를 소성하는 공정에 있어서, 최고 소성 온도 도달후의 강온 과정에서 1100~1200℃ 사이에서 0.4~10시간 유지하는 것을 특징으로 하는 반도체 자기의 제조 방법.
- 정의 저항 온도 특성을 갖는 티탄산바륨계의 반도체 자기를 소성하는 공정에 있어서, 최고 소성 온도 도달후의 강온 과정에서 1100~1200℃ 사이에서 강온 속도를 1.0℃/분 이하로 서냉하는 것을 특징으로 하는 반도체 자기의 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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