KR960042205A - 다중 위상반전 마스크의 제조방법 - Google Patents

다중 위상반전 마스크의 제조방법 Download PDF

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KR960042205A
KR960042205A KR1019950011771A KR19950011771A KR960042205A KR 960042205 A KR960042205 A KR 960042205A KR 1019950011771 A KR1019950011771 A KR 1019950011771A KR 19950011771 A KR19950011771 A KR 19950011771A KR 960042205 A KR960042205 A KR 960042205A
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송영진
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문정환
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • G03F1/28—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof with three or more diverse phases on the same PSM; Preparation thereof

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Abstract

본 발명은 얼터네이팅 위상반전 마스크의 에지부분에서 브리지 패턴이 발생되는 것을 방지할 수 있는, 공정이 간단한 다중 위상반전 마스크의 제조방법에 관한 것으로서, 그 제조방법은 투광성의 기판을 차광영역과 투광영역으로 한정하는 공정과, 기판의 차광영역상에 차광층을 형성하는 공정과, 1쌍의 이웃하는 차광층상이의 투광영역상부에 걸쳐 위상시프터를 형성하는 공정과, 기판과 접촉된 위상시프터의 인극영역의 기판을 1차로 식각하는 공정과, 위상시프터와 1차로 식각된 기판사이의 기판을 2차로 식각하는 공정을 포함한다.

Description

다중 위상반전 마스크의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제8도는 본 발명의 실시예에 따른 다중 위상반전 마스크의 사시도.

Claims (6)

  1. 투광성 기판을 차광영역과 투광영역으로 한정하는 공정과, 기판의 차광영역상에 차광층을 형성하는 공정과, 1쌍의 이웃하는 차광층사이의 투광영역상부에 걸쳐 위상시프터를 형성하는 공정과, 기판과 접촉된 위상 시프터의 인근영역의 기판을 1차로 식각하는 공정과, 위상시프터와 1차로 식각된 기판사이의 기판을 2차로 식각하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 위상반전 마스크의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 1차 식각시 위상이 180°로 반전되는 두께만큼만 기판을 식각하는 것을 특징으로 하는 다중 위상반전 마스크의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 1차 식각공정은 이방성식각법을 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 다중 위상반전 마스크의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 2차 식각시 0°에서 180°로 점진적으로 위상이 반전되도록 기판을 등방성식각하는 것을 특징으로 하는 다중 위상반전 마스크의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 기판과 접촉된 위상시프터의 인근영역의 기판을 1차로 식각하는 공정은 차광층, 위상시프터와 기판상에 감광막을 도포하는 공정과, 차광층이 형성되어 있지 않고, 기판과 접촉되어 있는 위상시프터의 인근영역에 해당하는 기판을 노출시키는 공정과, 노출된 영역을 이방성식각하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 위상반전 마스크의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 위상시프터와 1차로 식각된 기판사이의 기판을 2차로 식각하는 공정을 차광층, 위상시프터와 1차로 식각된 기판을 포함하는 기판상에 감광막을 도포하는 공정과, 위상시프트와 1차로 식각된 기판사이의 기판을 노출시키는 공정과, 노출된 기판을 등방성식각하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 위상반전 마스크의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7597350B2 (en) 2006-12-04 2009-10-06 Hyundai Motor Company Curtain airbag for vehicle

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US7597350B2 (en) 2006-12-04 2009-10-06 Hyundai Motor Company Curtain airbag for vehicle

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