KR960039938A - 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법 - Google Patents

광로 조절 장치의 에어갭 형성방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광로 조절 장치의 제조공정시 액츄에이터들을 한정하도록 패터닝하고 세척한 후 건조하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 있어서, 상기 광로 조절 장치의 희생막을 제거하는 단계와, 상기 희생막을 제거한 후 광로 조절 장치를 세척한 후 진공건조하여 상기 희생막 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 광로 조절 장치를 진공 건조한 후에 보호막을 제거하는 단계와, 상기 보호막을 제거한 후 광로 조절 장치를 세척한 후 진공건조하여 상기 보호막 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계를 구비한다. 따라서, 본 발명은 희생막과 보호막을 제거할 때 진공상태에서 생성된 물과 식각 잔유물을 기화시켜 구동기판과 액츄에이터간의 스티킹이 발생되는 것을 방지하므로써 식각율을 향상하여 불량율을 최소화할 수 있다.

Description

광로 조절 장치의 에어갭 형성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 광로 조절 장치의 에어갭을 형성하기 위해 사용되는 건조장치의 개략도, 제4도는 본 발명에 따른 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법의 순서도.

Claims (4)

  1. 광로 조절 장치(53)의 제조공정시 액츄에이터(55)들이 한정되도록 패터닝하고 세척한 후 건조하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 있어서, 상기 광로 조절 장치(53)의 희생막을 제거하는 단계(200)와, 상기 희생막을 제거한 후 광로 조절 장치(53)를 세척한 후 진공건조하여 상기 희생막 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계(205)와, 상기 광로 조절 장치(53)를 진공 건조한 후에 보호막(59)을 제거하는 단계(210)와, 상기 보호막(59)을 제거한 후 광로 조절 장치(53)를 세척한 후 진공건조하여 상기 보호막(59) 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계(215)를 구비하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 희생막을 불산용액으로 제거한 후 광로 조절 장치(53)를 탈이온수(deionized water)으로 세척하는 것을 더 구비하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 보호막(59)이 포토레지스터인 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 보호막(59)을 산소(O2) 플라즈마(plasma)로 제거하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950010582A 1995-04-21 1995-04-29 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법 KR0154927B1 (ko)

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