KR960036522A - 광로조절장치의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광로조절장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 투사형 화상표시장치에 채용되는 광로조절장치로서의 액츄에이티드 미러 어레이(Actuated Mirror Array)의 제조를 위해 현재 사용중인 마스크 콘택트 얼라이너(Mask Contact Aligner)의 개선없이 오정렬에 의한 식각 손실을 최소화시키는 방법에 관한 것이며, 본 발명에 따른 광로조절장치의 제조방법은 광로조절장치의 제조공정중에 멤브레인(27), 신호전극(31), 변형부(33) 및 반사막(35)이 차례로 적층되는 다층의 박막을 형성한 후, 콘택트 마스크 얼라이너를 사용하여 통상의 포토마스킹 방법으로 감광막 패턴 공정을 함에 있어서, 실제 얻고자하는 패턴의 크기보다 작은 마스크(40)를 사용하여 노광을 준비하는 제1공정과, 제1공정후 노광시 실제 얻고자하는 패턴보다 작게 감광막(30)을 패턴하는 제2공정과, 제2공정후 상기 패턴된 감광막을 열처리하여 유동성을 증가시켜서 실제 얻고자하는 패턴의 크기를 갖도록 플로우(flow)시키는 제3공정 및, 상기 제3공정후 식각 및 감광막을 제거하는 제4공정을 함유하여 이루어진 것을 특징으로 하여 기존에 사용중인 장비의 개선없이 오정렬에 의한 식각 손실을 최소화하여 공정시간을 단축하고 비용을 절감하므로 본 발명의 제조법에 의해 제조되는 제품의 수율을 향상시키는 효과가 있다.

Description

광로조절장치의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도(A)~(D)는 본 발명에 따른 광로조절장치의 제조 방법을 설명하기 위한 공정을 나타내는 측단면도이다.

Claims (1)

  1. 광로조절장치의 제조공정중 멤브레인, 신호전극, 변형부 및 반사막이 차례로 적층되는 다층의 박막을 형성한 후, 콘택트 마스크 얼라이너(Contact Mask Aligner)를 사용하여 통상의 포토마스킹 방법으로 감광막 패턴 공정을 함에 있어서, 실제 얻고자하는 패턴의 크기보다 작은 마스크(40)를 사용하여 노광을 준비하는 제1공정과, 제1공정후 노광시 실제 얻고자하는 패턴보다 작게 감광막(30)을 패턴하는 제2공정과, 제2공정후 상기 패턴된 감광막을 열처리하여 유동성을 증가시켜서 실제 얻고자하는 패턴의 크기를 갖도록 플로우(flow)시키는 제3공정 및, 상기 제3공정후 식각 및 감광막을 제거하는 제4공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광로조절장치의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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