KR970051932A - 포토 리소그래피(Photo Rithography) 장치 - Google Patents

포토 리소그래피(Photo Rithography) 장치 Download PDF

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KR970051932A
KR970051932A KR1019950067039A KR19950067039A KR970051932A KR 970051932 A KR970051932 A KR 970051932A KR 1019950067039 A KR1019950067039 A KR 1019950067039A KR 19950067039 A KR19950067039 A KR 19950067039A KR 970051932 A KR970051932 A KR 970051932A
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KR
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micromirror
electrical signal
mirror
driven
wafer
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KR1019950067039A
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Inventor
윤종식
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

초소형 거울을 구비한 포토 리소그래피 장치에 관하여 기재되어 있다. 이 장치는 전기적 신호에 의하여 선택적으로 구동됨으로써 광원으로부터 입사되는 입사광을 선택적으로 웨이퍼의 감광막 상에 반사할 수 있는 초소형 거울을 구비한다. 이때, 광원과 초소형 거울 사이에 콘덴서 렌즈를 더 구비할 수 있으며, 초소형 거울과 웨이퍼의 감광막 상 사이에 콘덴서 렌즈를 더 구비할 수도 있다. 초소형 거울은 정전기력 또는 피에즈 전기적(Piezo electric) 특성을 이용한 전기적 신호에 의하여 구동할 수 있다. 한편, 초소형 거울은 알루미늄 플라티늄, 금 및 로듐의 물질군 중 어느 하나의 물질을 이용하여 경면을 형성할 수 있다. 이로써, 반도체 포토 리소그래피 공정에서 마스크를 사용하지 않아도 됨으로 식각적 및 경제적 잇점을 기대할 수 있다.

Description

포토 리스그래피(Photo Rithography)장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래의 포토 리소그래피 방식으로 감광막 패턴을 형성하는 과정을 설명하기 위한 단면도이다.

Claims (6)

  1. 반도체 제조에 이용되는 포토 리소그래피 장치에 있어서, 전기적 신호에 의하여 선택적으로 구동됨으로써 광원으로부터 입사되는 입사광을 선택적으로 웨이퍼의 감광막 상에 반사할 수 있는 초소형 거울을 구비한 것을 특징으로 하는 포토 리소그래피 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광원과 상기 초소형 거울 사이에 콘덴서 렌즈를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 포토 리소그래피 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 초소형 거울과 상기 웨이퍼의 감광막 상 사이에 콘덴서 렌즈를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 포토 리소그래피 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 초소형 거울은 정전기력을 이용한 전기적 신호에 의하여 구동하는 것을 특징으로 하는 포토 리소그래피 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 초소형 거울은 피세조 전기적(Piezo electric) 특성을 이용한 전기적 신호에 의하여 구동하는 것을 특징으로 하는 포토 리소그래피장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 초소형 거울은 알루미늄, 플라티늄, 금 및 로듐의 물질군 중 어느 하나의 물질을 이용하여 경면을 형성하는 것을 특징으로 하는 포토 리소그래피 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950067039A 1995-12-29 1995-12-29 포토 리소그래피(Photo Rithography) 장치 KR970051932A (ko)

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