KR960030293A - 전계 방출 표시 장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

전계 방출 표시 장치 및 그 제조 방법 Download PDF

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KR960030293A
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Abstract

본 발명은 전계 방출 표시 장치(field emission display) 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 상세하게는 평판 표시 장치(flat panel display)에 적용할 수 있도록 형성된 수많은 마이크로-팁에서 방출되는 방출 전류의 균일성(uniformity)을 대폭 개선할 수 있는 전계 방출 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
즉, 본 발명에 따른 전계 방출 표시 장치 및 그 제조 방법은 스트라이프 상의 음극들의 가장자리를 식각하고 그 식각된 부분에 저항체를 형성함으로써, 팁이 형성될 부분의 홀 에칭시 발생되는 과도 에칭 및 거치름 등의 문제를 개선할 수 있어 팁의 접착력이 저하되지 않으므로 공정수율을 90%까지 향상시킬 수 있고, 또한 수 많은 마이크로-팁에서 방출되는 전자들의 균일성이 외각과 중심에서 약 ±5% 이내로 유지시킬 수 있는 장점이 있다.

Description

전계 방출 표시 장치 및 그 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 다른 전계 방출 표시 장치의 수직 단면도이며, 제3도는 본 발명에 다른 전계 방출 표시 장치의 평면도이다.

Claims (11)

  1. 소정의 간격으로 서로 대향되게 배치된 전면 기판 및 배면 기판; 상기 전면 및 배면 기판 상의 각 내측면에 서로 교차하는 방향으로 스트라이프 상으로 형성된 양극 및 음극; 상기 음극 가장자리의 소정 부분을 식각하고 형성된 저항체; 상기 음극이 형성된 상기 배면 기판 상에 어레이 구조로 다수 형성된 전계 방출용의 마이크로-팁들; 상기 마이크로-팁들을 에워싸도록 형성된 절연체층; 상기 마이크로-팁들의 상부에 전계 방출이 가능하도록 하는 개구를 가지도록 절연체층 상에 형성된 게이트; 상기 양극이 형성된 전면 기판 상에 형성된 화상 표시용의 형광체층; 상기 형광체층과 상기 절연체층 사이의 진공의 공간을 유지하기 위한 스페이서;를 구비하여 된 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치.
  2. 배면 기판 상에 스트라이프 상의 투명 음극들을 형성하는 단계; 상기 음극들 가장자리의 소정 부분을 식각하고, 이 식각된 영역에 저항체들을 형성하는 단계; 상기 음극들이 형성된 상기 배면 기판 상에 절연체층및 게이트 전극층을 순차적으로 적층하는 단계; 상기 절연체층 및 게이트 전극층에 소정의 직경을 갖는 홀들을소정의 간격으로 일정하게 형성하는 단계; 상기 홀들 내부에 전계 방출용 팁들을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 음극은 ITO를 3000Å 두께로 스트라이프 상으로 형성하여 된 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  4. 제2항에 있어서, 상기 절연체층은 SiO2또는 Al2O3를 1㎛ 두께로 형성하여 된 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  5. 제2항에 있어서, 상기 게이트층은 Mo 또는 Cr을 3000Å 두께로 형성하여 된 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  6. 제2항에 있어서, 상기 홀들은 그 직경을 1±0.2㎛ 범위로 형성한 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  7. 제2항에 있어서, 상기 홀들은 리액티브 이온 에칭법을 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  8. 제2항에 있어서, 상기 홀들은 상기 게이트 전극층 밑의 절연체층이 더 식각된 언더컷으로 형성되도록 2단계로 식각하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  9. 제2항에 있어서, 상기 저항체는 박막 형성 공정 또는 후막 형성 공정을 사용하여 형성된 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 박막 형성 공정은 에칭 단계 및 PECVD법을 이용하여 저항체를 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 후막 형성 공정은 에칭 단계 및 스크린 프린팅법을 이용하여 저항체를 인쇄하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시 장치의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950001583A 1995-01-27 1995-01-27 전계방출표시장치및그제조방법 KR100351068B1 (ko)

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