KR960026318A - 웨이퍼 건조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 소자의 제조공정에 관한 것으로 특히 반도체의 오염물질을 제거하기 위하여 실시하는 습식세정 후 용이하게 건조할 수 있도록 하는 웨이퍼 건조 공정에 관한 것으로 웨이퍼의 습식 세정 후에 반드시 필요한 건조공정에 있어서 기존에 널리 사용되고 있는 스핀드라이어는 입자 제오염의 가능성이 높다는 문제점을 해소하기 위하여 입자 재오염을 최소화할 수 있는 건조공정으로 널리 사용되고 있는 “Marangoni drying”방법을 더욱 더 효과적으로 수행할 수 있도록 한 웨이터 건조방법으로서 본 발명에서는 휘발성이 강한 소수성(hydrophobic)의 유기 용매를 공정상에 첨가하므로써 건조 공정의 효율을 더욱 증대시킬 수 있도록 함을 특징으로 하는 것임.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 웨이퍼 건조 공정도.
Claims (5)
- 웨이퍼 건조공정에서 휘발성이 강한 소수성 유기 용매를 증기상이나 액상으로 첨가하므로써 세정액 표면에 Air/소수성 유기 용매/Alcohol/Water의 계면이 형성되도록 하여 수행함을 특징으로 하는 웨이퍼 건조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 소수성 유기용매는 저분자량의 Hydrocarbon류,Carbonfloride류, 그리고 기타 용매를 포함하며, 물에 녹지않고 표면에 부유하는 특성을 가지는 유기 용매임을 특징으로 하는 웨이퍼 건조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 알콜류는 Marangoni dry 방법에 사용되는 Orgnic liquid 임을 특징으로 하는 웨이퍼 건조방법.
- 제1항에 있어서, 친수성의 웨이퍼 표면을 적시지 않으므로 액표면에 존재하는 입자들이 웨이퍼를 액속에서 인출시 웨이퍼 표면으로 제오염되는 것을 효과적으로 방지할 수 있도록 소수성(疏水性)의 유기 용매를 세정액표면애 부유시켜 줌을 특징으로 하는 웨이퍼 건조방법.
- 제1항에 있어서, 휘발성이 큰 유기용매를 세정액 표면에 부유시켜 웨이퍼 표면의 잔류Alcohol/Water의 증기압을 상승시키게 되어 보다 잘 제거될 수 있게 하므로 친수성의 웨이퍼 표면을 보다 깨끗하게 건조시키도록 함을 특징으로 하는 웨이퍼 건조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940036356A KR0155305B1 (ko) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | 웨이퍼 건조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1019940036356A KR0155305B1 (ko) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | 웨이퍼 건조방법 |
Publications (2)
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KR960026318A true KR960026318A (ko) | 1996-07-22 |
KR0155305B1 KR0155305B1 (ko) | 1998-12-01 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR0155305B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020016533A (ko) * | 2000-08-25 | 2002-03-04 | 가네꼬 히사시 | 반도체 웨이퍼의 건조 방법, 건조용 혼합물, 및 건조기 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100532950B1 (ko) * | 2003-04-16 | 2005-12-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 웨이퍼 습식 세정 방법 |
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1994
- 1994-12-23 KR KR1019940036356A patent/KR0155305B1/ko not_active IP Right Cessation
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KR20020016533A (ko) * | 2000-08-25 | 2002-03-04 | 가네꼬 히사시 | 반도체 웨이퍼의 건조 방법, 건조용 혼합물, 및 건조기 |
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Publication number | Publication date |
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KR0155305B1 (ko) | 1998-12-01 |
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