KR960024690A - 정렬 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 노광 장치에서, 마스크 및 플레이트의 정렬-검출 광 성분을 서로 공간적으로 분리시킴으로써, 마스크 위치의 검출에 있어서 플레이트로부터의 빛의 영향을 거의 받지 않고 고도로 정확한 정렬을 할수 있는 정렬 방법에 관한 것이다. 본 발명의 노광 장치에, 정렬 광학계는 광속을 공급하는 광원 수단; 광속에 기초하여 소정의 광학계에 대한 제1기판 위의 가시 필드 영역에서 광속을 형성시키는 주사 광속 형성 광학계; 제1기판 위에 형성된 주사 광속을 소정 방향으로 광학적으로 주사하는 주사 수단; 제1기판 위에 형성된 주사 광속으로 광학적으로 주사하는 경우 발생되는 제1표지로부터의 회절 및 반사 광성분을 검출하는 제1검출 수단; 및 소정 광학계에 의해 그리고 제1표지로부터의 회절 및 반사 광 성분이 검출되는 경로와는 상이한 경로를 통해 소정 광학계에 의한 제2기판이 형성되는 주사 광속으로 광학적으로 주사하는 경우에 발생되는 제2표지로부터의 회절 및 반사 광 성분을 검출하는 제2검출 수단으로 이루어진다. 제1표지에 의해 회절된 투과 광 성분이 제2기판에 도달하는 것을 방지하기 위해서, 소정 광학계가 투과 광 성분을 차단한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 따르는 노광 장치의 구조를 개략적으로 도시한 도면.
Claims (15)
- 제1기판에서 형성된 패턴 영상이 투영 광학계에 의해 제2기판 위로 투영 및 전이되는 노광 장치에 있어서, 광원 시스템으로부터 공급된 광속에 기초하여 제1광학계에 대한 제1기판의 가시 필드 영역에서 상기 제1기판위에 형성된 격자형 제1표지를 포함하는 영역을 주사하는 주사 광속을 형성시키고 소정의 방향으로 상기 주사 광속을 광학적으로 주사하는 제1단계; 상기 제1단계에서 형성된 상기 주사 광속에 의해 형성된 상기 제1표지로부터 회절 및 반사 광 성분을 검출하는 제2단계; 상기 제1단계에서 형성된 상기 주사 광속에 기초하여 상기 제1광학계에 의해 상기 제2기판 위에 형성된 제2표지를 포함하는 영역을 주사하는 주사 광속을 주사하고 상기 제2표지로부터의 회절 및 반사 광 성분을 검출하며, λ가 상기 광원 시스템으로부터 공급된 빛의 파장을 나타내고, λ/p보다 작은 제3단계; 및 상기 제2단계에서 검출된 신호 및 상기 제3단계에서 검출된 신호에 기초하여 상기 제1 및 제2기판 사이의 위치 관계를 측정하는 제4단계로 이루어짐을 특징으로 하여, 상기 제1 및 제2기판을 서로 정렬하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1표지의 듀티 비율을 상기 제1표지가 회절되지 않고 통과한 다음 상기 제2표지에 도달하는 광성분의 강도가 소정값 보다 크지 않도록 선택함을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1광학계가 상기 투영 광학계와 동일함을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제1항에 있어서, 개구 스톱이 상기 제1광학계 안에 장착됨을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 개구 스톱이 가변 개구 크기를 가짐을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 투영 광학계가 상기 제1기판에 형성된 패턴의 등배 정립상을 상기 제2기판 위에 형성하기 위해 소정의 방향으로 배열된 복수의 투영 광학 유니트를 가짐을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 제1단계에서 형성된 상기 주사 광속이 상기 소정 방향의 양 말단부에 각각 장착된 상기 두 개의 투영 광학 유니트에 대하여 두 가시 필드 영역 각각에 형성됨을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제7항에 있어서, 상기 제1단계에서, 서로 공간적으로 분리되고 서로 상이한 주사 방향을 갖는 두 주사 광속이 상기 주사 광속에서와 같이, 상기 소정 방향의 하나의 말단부에 장착된 상기 투영 광학 유니트 중의 하나에 대한 상기 제1기판 위의 가시 필드 영역에 형성되며, 서로 공간적으로 분리되고 서로 상이한 주사 방향을 갖는 두 주사 광속이 상기 주사 광속에서와 같이, 상기 소정 방향의 다른 하나의 말단부에 장착된 상기 투영 광학 유니트 중의 하나에 대한 상기 제1기판 위의 가시 필드 영역에 형성됨을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제8항에 있어서, 상기 소정 방향의 하나의 말단부에 장착된 상기 투영 광학 유니트에 대한 상기 제1기판 위의 가시 필드 영역에 형성된 상기 두 주사 광속의 주사 방향이 서로 수직이며, 상기 소정 방향의 다른 하나의 말단부에 장착된 상기 투영 광학 유니트에 대한 상기 제1기판 위의 가시 필드 영역에 형성된 상기 두주사 광속의 주사 방향이 서로 수직임을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제1기판에서 형성된 패턴 영상이 투영 광학계에 의해 제2기판 위로 투영 및 전이되는 노광 장치에 있어서, 상기 투영 광학계에 대해 상대적으로 이동성으로 장착된 정렬 광학계로부터 상기 제1기판 위의 임의의 위치에 형성된 제1표지 및 상기 제2기판 위의 임의의 위치에 형성된 제1표지 및 상기 제2기판 위의 임의의 위치에 형성된 제2표지로 정렬 광 성분을 공급하는 제1단계; 상기 제1 및 제2표지로부터의 광 성분에 기초하여 검출수단에 의해 서로에 대해 상기 제1 및 제2기판의 상대적인 위치를 검출하는 제2단계; 및 상기 검출 수단에 의해 각각 상기 제1 및 제2표지의 위치에서 상기 정렬 광학계에 대한 상기 제1 및 제2기판의 촛점-일치 정보 데이타를 검출하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하여, 상기 제1 및 제2기판을 서로 정렬하는 방법.
- 제10항에 있어서, 상기 정렬 광 성분에 기초하여 상기 제1기판 위에 주사 광속을 형성하는 주사 광속 형성 광학계; 상기 제1기판 위에 형성된 주사 광속을 광학적으로 주사하는 주사 수단; 및 상기 투영 광학계에의해 상기 제1기판 위에 형성된 주사 광속에 의해 발생된 상기 제1표지로부터의 광 성분 및 상기 제2기판 위에 형성된 주사 광속에 의해 발생되는 상기 제2표지로부터의 광 성분을 광전기적으로 각각 검출하는 광전기 검출장치로 이루어지며, 상기 검출 수단이 상기 광전기 검출 장치로부터 얻어진 신호에 각각 기초하여 상기 정렬 광학계에 대한 상기 제1 및 제2기판의 촛점-일치 정보 데이타를 검출함을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제10항에 있어서, 상기 검출 수단이 상기 정렬 광 성분에 기초하는 조명 광속으로 상기 제1기판을 조명하는 조명 광학계; 상기 조명 광속에 대한 상기 제1표지로부터의 광 성분 및 상기 투영 광학계에 의해 상기 조명 광속에 대한 상기 제2표지로부터의 광 성분에 각각 기초하는 상기 제1 및 제2표지의 영상을 발생시키는 영상-발생 수단으로 이루어지며, 상기 검출 수단이 상기 영상-발생 수단으로부터 얻은 영상 신호에 기초하여 상기 정렬 광학계에 대해 상기 제1 및 제2기판의 촛점-일치 정보 데이타를 검출함을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제10항에 있어서, 상기 검출 수단이 상기 제2기판으로서 실질적으로 상기 평면 안에 형성된 기준 표지에 기초하여 미리 검출된 상기 투영 광학계의 영상 높이에 관한 상기 제2기판의 촛점-일치 정보 데이타를 저장하는 저장수단 및 상기 제2기판 위의 소정의 위치에서 상기 제2기판의 촛점-일치 정보 데이타를 검출하는 촛점 수단으로 이루어지며, 상기 검출 수단이 상기 촛점 수단으로부터 얻어진 상기 소정 위치의 촛점-일치 정보 데이타 및 상기 저장 수단에 저장된 촛점-일치 정보 데이타에 기초하여 상기 정렬 광학계에 대한 상기 제2기판의 촛점-일치 정보 데이타를 검출함을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제10항에 있어서, 상기 투영 광학계가 상기 제2기판 위에 상기 제1기판 위에 형성된 패턴의 등배 정립상을 형성하기 위해 소정 방향으로 배열된 복수의 투영 광학 유니트를 가짐을 특징으로 하는 정렬 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 제2단계에서, 상기 정렬 광학계가 상기 소정 방향에 수직인 하나의 방향으로 상기 투영 광학계에 대한 상기 제1 및 제2기판을 상대적으로 이동시키면서 서로에 대해 상기 제1 및 제2기판의 상대적인 위치를 검출하고 상기 제3단계 다음에, 상기 제1기판에 형성된 영상 패턴을 상기 투영 광학계에 의해 상기 제2기판 위로 투영 및 전사하며, 상기 제1 및 제2기판은 상기 소정 방향에 수직인 다른 방향으로 상기 투영 광학계에 대해 상대적으로 이동함을 특징으로 하는 정렬 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6323925A JPH08162399A (ja) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | 露光装置 |
| JP323925/1994 | 1994-12-01 | ||
| JP323926/1994 | 1994-12-01 | ||
| JP32392694A JP3553572B2 (ja) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | 露光装置 |
| JP6-323925 | 1994-12-01 | ||
| JP6-323926 | 1994-12-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960024690A true KR960024690A (ko) | 1996-07-20 |
| KR100362927B1 KR100362927B1 (ko) | 2003-08-21 |
Family
ID=49381564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950045391A KR100362927B1 (ko) | 1994-12-01 | 1995-11-30 | 정렬방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100362927B1 (ko) |
-
1995
- 1995-11-30 KR KR1019950045391A patent/KR100362927B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
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|---|---|
| KR100362927B1 (ko) | 2003-08-21 |
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