KR960005763A - 노광 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 생산성의 저하를 초래함이 없이 마스크의 패턴을 양호하게 기판상에 전사하는 노광 장치에 관한 것이다. 본 발명에 있어서, 투영 광학계에 대하여 마스크와 기반을 이동시키면서 노광을 행하는 노광 장치는, 마스크(M)상을 조명하는 제1조명 광학계(ILb)와 제1조명 광학계와는 상이한 영역의 마스크상을 조명하는 제2조명 광학계(ILb)와 제1조명 광학계에 의해 조명된 마스크의 정립상을 기반(P)상에 형성하는 제1투명 광학계(PLa)와, 제2조명 광학계에 의해 조명된 마스크의 정립상을 기판상에 형성하는 제2투명 광학계(PLb)를 가진다. 여기서, 제1 및 제2조명 광학계에는, 조명 영역을 이동시키는 조명 영역 이동 수단(101a,102a,101b,102b)이 설정된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 실시예를 개략적으로 예시한 모식도이다.
제2도는 실시예에 있어서의 조명 광학계의 주요부를 예시한 단면도이다.
제3도는 마스크 상에 있어서의 조명 영역의 배치를 나타내는 평면도이다.
제4도는 실시예에 있어서의 투영 광학계의 단면도이다.
제5도는 플레이트 상에 있어서의 노광 영역의 배치를 나타내는 평면도이다.
제6도는 조명 영역 이동 수단 또는 노광 영역 이동 수단의 변형예를 예시하는 도면이다.
제7도는 시야 조리개의 변형예를 예시하는 도면이다.
제8도는 시야 조리개의 변형예를 예시하는 도면이다.
제9도는 시야 조리개의 변형예를 예시하는 도면이다.
Claims (7)
- 제1물체와 제2물체를 일정 방향으로 이동시키면서, 조명 광학계에 의해 상기 제1물체를 조명하고, 상기 조명 광학계에 대한 위치가 고정된 투영 광학계에 의해 상기 제1물체의 상을 상기 제2물체에 투영 노광하는 노광 장치에 있어서, 상기 조명 광학계는, 상기 제1물체 상에 제1조명 영역을 형성하는 제1조명 광학계와, 상기제1물체상에 상기 제1조명 영역과는 상이한 제2조명 영역을 형성하는 제2조명 광학계를 가지며, 상기 투영 광학계는, 상기 제1조명 광학계에 의해 조명된 상기 제1물체의 정립상을 상기 제2물체상에 형성하는 제2투영 광학계는, 상기 제2조명 광학계에 의해 조명된 상기 제1물체의 정립상을 상기 제2물체상에 형성하는 제2투영 광학계를 가지며, 상기 제1조명 광학계는, 상기 제1물질상의 제1조명 영역을 상기 제1투영 광학계에 대하여 이동시키는 제1조명 영역 이동 수단을 가지며, 상기 제2조명 광학계는, 상기 제1물체상의 제2조명 영역을 상기 제2투영 광학계에 대하여 이동시키는 제2조명 영역 이동 수단을 가진 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2조명 광학계는 상기 제1물체와 공역인 위치에 설치된 시야 조리개를 각각 가지며, 상기 제1조명 영역 이동 수단은, 상기 제1조명 광학계의 상기 시야 조리개와 상기 제1물체와의 사이의 광로중에 배치되고, 또한 상기 제1물체상에 형성되는 상기 시야 조리개의 상을 상기 제1물체의 면내 방향으로 이동시키는 광학 부재를 가지며, 상기 제2조명 영역 이동 수단은, 상기 제2조명 광학계의 상기 시야 조리개와 상기 제1물체와의 사이의 광로중에 배치되고, 또한 상기 제1물체상에 형성되는 상기 시야 조리개의 상을 상기 제1물체의 면내 방향으로 이동시키는 광학 부재를 가진 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제1조명 영역 이동 수단은, 상기 제1조명 광학계의 광축에 수직인 2매의 평행 평면판을 가지며, 상기 각 평행 평면판은 서로 직교하는 축에 있어서 각각 회동 가능으로 되어 있고, 상기 제2조명 영역 이동 수단은, 상기 제2조명 광학계의 광축에 수직인 2매의 평행 평면판을 가지며, 상기 각 평행 평면판은 서로 직교하는 축에 있어서 각각 회동 가능으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제1조명 영역 이동 수단은, 상기 제1조명 광학계의 광로중의 상기 제1물체와 공역인 위치에 설정되고, 또한 상기 제1조명 광학계의 광축에 대하여 이동 가능하게 설치된 시야 조리개를 가지며, 상기 제2조명 영역 이동 수단은, 상기 제2조명 광학계의 광로중의 상기 제1물체와 공역인 위치에 설정되고, 또한 상기 제2조명 광학계의 광축에 대하여 이동 가능하게 설치된 시야 조리개를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 및 제2투영 광학계는 각각 상기 제1물체측에 있어서의 광축과 상기 제2물체측에 있어서의 광축과의 위치 관계를 변화시키는 노광 영역 이동 수단을 가진 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 노광 영역 이동 수단은, 상기 광축에 수직인 2매의 평행 평면판을 가지며, 상기 각 평행 평면판은 서로 직교하는 축에 있어서 각각 회동 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1물체가 노광용 마스크이며, 상기 제2물체가 피노광 기판인 것을 특징으로 하는 노광 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17789894A JP3610597B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 露光装置及び方法 |
JP177898/1994 | 1994-07-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960005763A true KR960005763A (ko) | 1996-02-23 |
KR100374910B1 KR100374910B1 (ko) | 2003-05-09 |
Family
ID=16038995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950022693A KR100374910B1 (ko) | 1994-07-29 | 1995-07-28 | 노광장치 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3610597B2 (ko) |
KR (1) | KR100374910B1 (ko) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3791037B2 (ja) * | 1996-02-28 | 2006-06-28 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
TW446829B (en) * | 1998-09-25 | 2001-07-21 | Nippon Kogaku Kk | Image formation position adjusting device, exposure system, image formation adjusting method and exposure method |
JP2003149740A (ja) * | 2001-11-16 | 2003-05-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光投影装置 |
JP4211272B2 (ja) * | 2002-04-12 | 2009-01-21 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法 |
JP4237727B2 (ja) * | 2004-04-30 | 2009-03-11 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP4583827B2 (ja) * | 2004-07-21 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成装置および画像形成方法 |
CN110998453A (zh) * | 2017-06-19 | 2020-04-10 | 萨斯微技术光子系统公司 | 在光学系统中的放大率补偿及/或光束导向 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06118341A (ja) * | 1991-11-11 | 1994-04-28 | Topcon Corp | 走査型投影装置 |
JPH0629189A (ja) * | 1992-07-13 | 1994-02-04 | Hitachi Ltd | 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置 |
JPH0653113A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-02-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 走査投影露光装置 |
-
1994
- 1994-07-29 JP JP17789894A patent/JP3610597B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-07-28 KR KR1019950022693A patent/KR100374910B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0845819A (ja) | 1996-02-16 |
JP3610597B2 (ja) | 2005-01-12 |
KR100374910B1 (ko) | 2003-05-09 |
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