KR960015087A - 중합체 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 중합체 사슬에서 하기 일반식(I) 내지 (IV)의 구조 반복 단위를 포함하는 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된 분자량(Mw) 5.5×103내지 105의 중합체에 관한 것이다 :
상기 식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬, 비치환 또는 메틸로 치환된 C3-C6시클로알킬, 또는 비치환 또는 1이상의 할로겐 원자 또는 1이상의 C1-C4알콕시, 시아노 또는 니트로기에 의해 치환된 페닐 또는 나프틸이고, R3, R4, R5및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이며, R7,R8,R9및 R10은 각각 독립적으로 수소, C1-C6알킬, C1-C6알콕시 또는 할로겐이고, w, x, y 및 z은 1이상의 수이며, 지수 Q는 하기와 같이 보호기를 포함하는 구조단위 총수를 구조단위 총수로 나누어서 얻는 것으로, 0.5 이상 0.9이하이다;
이같은 중합체는 인쇄 기판, 인쇄 회로 및 집적회로의 제조에 적합하다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (12)
- 중합체 사슬에서 하기 일반식(I) 내지 (IV)의 구조 반복 단위를 포함하는 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된 분자량(Mw) 5.5×103내지 105의 중합체 :상기 식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬, 비치환 또는 메틸로 치환된 C3-C6시클로알킬, 또는 비치환 또는 1이상의 할로겐 원자 또는 1이상의 C1-C4알콕시, 시아노 또는 니트로기에 의해 치환된 페닐 또는 나프틸이고, R3,R4,R5및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이며, R7,R8,R9및 R10은 각각 독립적으로 수소, C1-C6알킬, C1-C8알콕시 또는 할로겐이고, w, x, y 및 z은 1이상의 수이며, 지수 Q는 하기와 같이 보호기를 포함하는 구조단위 총수를 구조단위 총수로 나누어서 얻는 것으로, 0.5 이상 0.9이하이다 :
- 제1항에 있어서, 지수Q가 01.5 이상 0.8이하인 중합체.
- 제1항에 있어서, 중합체 사슬에서 일반식(V) 내지 (VIII)의 구조반복단위를 포함하는 중합체 :상기 식에서, R1-R10, w, x, y 및 z는 제1항에서 정의한 바와 같다.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬 또는 비치환 C3-C6시클로알킬 또는 페닐이고, R3-R6및 R7-R10이 수소인 중합체.
- 제4항에 있어서, R1및 R2가 각각 독립적으로 에틸, 시클로프로필, 시클로헥실 또는 페닐인 중합체.
- 제1항에 있어서, 지수 Q가 0.5이상 0.7이하이고, R1및 R2가 각각 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬 또는 비치환 C3-C6시클로알킬 또는 페닐인 중합체.
- 성분(A) 및 (B) 총량을 기준으로 하기 성분(A)와 (B)를 포함하는 복사선-민감성 조성물: (A) 제1항에 따른 중합체 80 내지 99.9중량% (B) 화학선 복사에 노출시 산을 형성하는 물질 0.1 내지 20중량%.
- 제7항에 있어서, 성분(A) 및 (B)총량을 기준으로 하기 성분(A)와 (B)를 포함하는 복사선-민감성 조성물: (A) 제1항에 따른 중합체 90 내지 99.8중량%, (B) 화학선 복사에 노출시 산을 형성하는 물질 0.2 내지 10중량%.
- 제7항에 있어서, 성분(A) 및 (B)이외에 성분(C)로서 유기 용매를 추가로 포함하는 복사선-민감성 조성물.
- 제7항에 있어서, 성분(A) 및 (B)의 총량을 기준으로 성분(D)로서 종래의 첨가제 0.01 내지 40중량%를 추가로 포함하는 복사선-민감성 조성물.
- 하기 단계에 의한 포지티브 이미지의 제조방법 : I.) 제7항에 따른 복사선-민감성 조성물로 기판을 코팅함. II.) 코팅된 기판을 소정 패턴으로 화학선에 노출함 그리고, III.) 포지티브-작용성 포토레지스트용 현상액으로 노출된 기판을 현상함.
- 제7항에 따른 조성물을 사용하여 제조된 인쇄 기판, 인쇄 회로 또는 집적 회로.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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