JPH11133608A - アイライン型フォトレジスト組成物 - Google Patents

アイライン型フォトレジスト組成物

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JPH11133608A
JPH11133608A JP10207025A JP20702598A JPH11133608A JP H11133608 A JPH11133608 A JP H11133608A JP 10207025 A JP10207025 A JP 10207025A JP 20702598 A JP20702598 A JP 20702598A JP H11133608 A JPH11133608 A JP H11133608A
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JP10207025A
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G Shelnatt James
ジェームズ・ジー・シェルナット
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】画像形成したフォトレジストを現像したときに
線成長が生じることがあり、側壁の明瞭度をより高くす
ることが求められているので、線成長をさらに減少させ
る組成物を提供する。 【解決手段】３２０〜４２０ｎｍの波長で放射線に付し
たとき、酸を生成するための放射線感光性成分、樹脂バ
インダー及び反応性オリゴマーを含有する、ネガ型光画
像形成性組成物。この組成物は、プリント基板及び集積
回路パッケージを構成する際に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、約３２０〜４２０ｎｍ
のアイライン（ｉ−ｌｉｎｅ）波長の露光により画像形
成ができる（ｉｍａｇｅａｂｌｅ）プリント回路に適用
するためのアイライン型フォトレジスト組成物（ｉ−ｌ
ｉｎｅ ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉ
ｏｎ）に関する。特に、本発明は、プリント回路のレジ
スト画像の線成長（ｌｉｎｅ ｇｒｏｗｔｈ）を予想外
に減少させ、そして予想よりも長い貯蔵寿命を有するフ
ォトレジスト組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】フォトレジストは、画像を基板に転写す
るために使用される感光性フィルムである。これは、液
体塗料として又はドライフィルム組成物として基板に塗
布されて、感光性レジスト物品となる。基板上でフィル
ムを形成した後、該フィルムは、パターン形成されたフ
ォトマスクを通して光などのような活性化エネルギー源
に露光されて、潜像を形成した後、現像される。フォト
マスクは、活性化放射線に対して不透明の領域と、活性
化放射線に対して透明な他の領域とを有する。不透明領
域と透明領域とのフォトマスクに於けるパターンによっ
て、画像を基板に転写するために使用することができる
所望の画像が輪郭づけ（ｄｅｆｉｎｅ）される。レジス
ト塗膜中の潜像パターンを現像することによって、レリ
ーフ画像が得られる。フォトレジスト塗膜を使用するこ
とは、例えば、デフォーレスト（ＤｅＦｏｒｅｓｔ）
「フォトレジストの材料及び方法（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉ
ｓｔＭａｔｅｒｉａｌｓ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓｅ
ｓ，ＭｃＧｒａｗ Ｈｉｌｌｂｏｏｋ Ｃｏｍｐａｎ
ｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９７５））」及びモロウ（Ｍ
ｏｒｅａｕ）「半導体リソグラフィー、原理、実用及び
材料（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｌｉｔｈｏｇｒａ
ｐｈｙ，Ｐｒｉｎｃｉｐａｌｓ，Ｐｒａｃｔｉｃｅｓａ
ｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９８８））」により、並び
に、米国特許第５，３６６，８４６号（この特許の全内
容を参照して本明細書に含める）に一般的に説明されて
いる。上記の特許第５，３６６，８４６号の教示は非常
に重要であるが、画像形成したフォトレジストを現像し
たときにレジストに線成長が生じることが見出されてき
た。それで、処理の間に実質的な線成長が無く、より良
い側壁の明瞭度（ｓｉｄｅｗａｌｌ ｄｅｆｉｎｉｔｉ
ｏｎ）となることについての必要性が生じている。本発
明による組成物は、現像の間のレジスト側壁の線成長を
さらに減少させる組成物を提供する。線成長は、マスク
によって輪郭づけられる（ｄｅｆｉｎｅｄ）所望の形状
を正確に再現し得ないエッチングされた線を生成する。
【０００３】また、当該技術をより良く理解するため
に、下記のものを参照されたい。米国特許第５，０３
４，３０４号、同第５，１２８，２３２号、同第４，１
８９，３２３号、同第３，９５４，４７５号、同第５，
０５７，３９７号、同第５，３４０，６９７号、同第
４，８２６，７５３号、同第５，１８０，６５３号、同
第５，３４０，６９７号、並びに、下記の特許又は公
報：カナダ特許第２，１００，３９２号、日本国特開昭
６３−０７５７３７号、同特開平０５−３０３１９６
号、同０５−２８１７２７号及びヨーロッパ特許出願第
０４５８３２５号、同第０５１９２９８号、同第０６２
１，５０９号、同第０４８３，６８９号、同第０４８
３，６９３号及び同第０，６７２，９５４号。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、光イメージン
グ工程後の処理の間に、線成長を減少させることと実質
的な可撓性（ｆｌｅｘｉｂｉｌｉｔｙ）とを示す硬化被
膜層を提供することを特徴の一部とする新規な放射線感
光性被膜組成物（ｒａｄｉａｔｉｏｎ ｓｅｎｓｉｔｉ
ｖｅ ｃｏａｔｉｎｇ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ）を
提供する。通常、本発明による組成物は、樹脂バインダ
ー、１個又は２個以上の内部架橋基を含有する反応性オ
リゴマー及び約３２０〜４２０ｎｍの波長で光活性性で
ある放射線感光性成分（光酸発生剤（ｐｈｏｔｏ ａｃ
ｉｄ ｇｅｎｅｒａｔｏｒ））からなる。このような物
質は、上記の波長の光エネルギーによって活性化されて
酸を生成する、置換トリアジン化合物又は置換オキサジ
アゾール化合物であってよい。本明細書で使用すると
き、「反応性オリゴマー」なる用語は、いくつかの繰り
返し単位（例えば、２〜５０個）を含有するポリマー分
子であり、トリアジン又はオキサジアゾール類によって
生成される光により発生する酸と接触したとき架橋でき
る部分を有する物質である。このような反応性オリゴマ
ーには、エポキシ化ブタジエン類（米国特許第５，３６
６，８４６号参照）、アセタール類、ビニルエーテル類
及び本明細書により当業者に明らかになるようなその他
の物質が含まれる。
【０００５】実質的に非反応性である樹脂バインダーを
本発明による組成物中では好適に使用することもできる
が、好ましい樹脂バインダーとしては、該組成物中の１
種又は２種以上の成分と光により活性されて架橋（ｐｈ
ｏｔｏａｃｔｉｖａｔｅｄｃｒｏｓｓｌｉｎｋｉｎｇ）
をすることができる反応性ポリマーが挙げられる。種々
の樹脂バインダーを使用することができ、好適な反応性
樹脂としては該組成物中の１種又は２種以上の他の成分
と反応することができる官能基を含有するもの、例え
ば、反応性の水素原子を含有する樹脂などである。一般
的に好ましい反応性樹脂はフェノール樹脂である。架橋
剤成分に関しては、種々の架橋剤を使用することができ
る。好ましい架橋剤には、エポキシ含有物質、メラミン
類、尿素類、グアナミン類のようなアミンベースの架橋
剤、及び、これらの混合物が含まれる。このような架橋
剤は、樹脂バインダー及び反応性オリゴマーを架橋して
重合した網状組織を形成させる。本発明による組成物
は、液体塗布組成物及びドライフィルムとして使用する
ために好適である。
【０００６】本発明による組成物は、種々の応用におい
て有用性がある。そのため、本発明には、レリーフ画像
を形成する方法、基板上にイメージングされた誘電体層
を形成する方法並びにプリント回路基板、付加（ａｄｄ
ｉｔｉｖｅ）プリント回路、多層プリント回路、高密度
プリント回路、可撓性（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）回路、表面
マウントデバイス（ｓｕｒｆａｃｅ ｍｏｕｎｔ ｄｅ
ｖｉｃｅｓ）、マルチチップモジュール、シーケンシャ
ルビルド（ｓｅｑｕｅｎｔｉａｌ ｂｕｉｌｄ）及びそ
の他の物品の製造方法を含む、本発明による組成物を使
用する方法が含まれる。本発明はさらに、本発明による
組成物で塗布された基板からなる新規な製造物を提供す
る。
【０００７】本明細書で使用される用語「架橋」、「架
橋すること」及びその他のこれに類する用語は、本発明
による組成物中の１種又は２種以上の成分による、本発
明による組成物の現像液に対する溶解度を減少させるよ
うないかなる反応をも包含するものとする。
【０００８】上記にあるような生成物は、最初に光化学
的に固化され、不必要な領域が除去され、残留する有機
物質が熱的に完全に固化される、即ち、その最終状態に
まで硬化される。
【０００９】本発明による組成物は、一般的に、樹脂バ
インダー、酸感受性架橋性オリゴマー（ａｃｉｄ ｓｅ
ｎｓｉｔｉｖｅ ｃｒｏｓｓｌｉｎｋａｂｌｅ ｏｌｉ
ｇｏｍｅｒ）、及び、約３２０〜４２０ｎｍの波長にお
いて放射線を該組成物に向けた後に酸を生成する放射線
活性化成分からなる。好ましくは、この組成物は反応性
オリゴマーに加えてさらに架橋剤成分を含有する。
【００１０】該樹脂バインダー成分は非反応性樹脂を含
有していてもよく、または、好ましくは、該樹脂バイン
ダーは、光化学的にまたは熱的に該組成物中の１種又は
２種以上の成分と光開始架橋（ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａ
ｔｅｄ ｃｒｏｓｓｌｉｎｋｉｎｇ）を受けることがで
きる反応性樹脂である。該樹脂バインダーは、好ましく
は、本発明による組成物に対しアルカリ性水溶液での現
像可能性（ａｑｕｅｏｕｓ ａｌｋａｌｉｎｅ ｄｅｖ
ｅｌｏｐａｂｉｌｉｔｙ）となる。したがって、好まし
い樹脂バインダーとしては、アルカリ性水溶液で現像可
能性を与えることができるヒドロキシル又はカルボン酸
塩のような極性官能基を含有する樹脂が含まれる。さら
に、該樹脂バインダー成分は、好ましくは、該組成物の
塗布層の未露光部分をアルカリ性水溶液現像性にするた
めに十分な濃度でこの組成物中に使用される。
【００１１】本明細書で使用するときの用語「非反応性
樹脂」は、本発明による組成物の光活性化の際に該組成
物中の１種又は２種以上の成分とは実質的に重合しない
樹脂を示す。このように、組成物を硬化させる際に、非
反応性樹脂バインダーは一般的に該組成物の重合性成分
（群）の中に閉じ込められることになる。好適な非反応
性樹脂には、例えば、ウレタン、シリコーン、アクリル
樹脂等が含まれる。該樹脂バインダー成分は、好適に
は、非反応性樹脂バインダーと反応性樹脂バインダーの
両方を含有していてよい。
【００１２】反応性樹脂バインダーは、好適に、該組成
物中の１種又は２種以上の成分と共に光開始架橋を受け
る種々の物質のいずれであってもよい。このような、好
適な樹脂には、１個又は２個以上の反応性単位、例え
ば、反応性の水素原子を含有する官能基を含有するもの
が含まれる。フェノール樹脂が特に好適な反応性樹脂で
あり、好ましくは、該組成物の被膜層をアルカリ性水溶
液又はアルカリ性半水溶液（ｓｅｍｉ−ａｑｕｅｏｕｓ
ａｌｋａｌｉｎｅ ｓｏｌｕｔｉｏｎ）により現像性
にするために十分な濃度で使用される。好適なフェノー
ル樹脂には、例えば、ノボラック樹脂、アルケニルフェ
ノールのホモポリマー及びコポリマー、部分水素化ノボ
ラック及びポリ（ビニルフェノール）樹脂並びにＮ−ヒ
ドロキシフェニル−マレイミドのホモポリマー及びコポ
リマーのような、当該技術分野で公知のフェノールアル
デヒド縮合物が含まれる。
【００１３】本発明による組成物のための反応性樹脂と
して適しているフェノール樹脂の中で、フェノールホル
ムアルデヒドノボラックが、該ノボラックがアルカリ性
水溶液現像性の光イメージング被膜組成物を形成するこ
とができることから、好ましい材料となる。これらの樹
脂は、デフォーレスト（ＤｅＦｏｒｅｓｔ）著「フォト
レジストの材料及び方法（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ Ｍ
ａｔｅｒｉａｌｓ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ，Ｍｃ
Ｇｒａｗ Ｈｉｌｌ Ｂｏｏｋ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｎｅ
ｗ Ｙｏｒｋ，Ｃｈ．２，１９７５）」、モロウ（Ｍｏ
ｒｅａｕ）著「半導体リソグラフィー、原理、実用及び
材料（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｌｉｔｈｏｇｒａ
ｐｈｙ，Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ，Ｐｒａｃｔｉｃｅｓ
ａｎｄＭａｔｅｒｉａｌｓ，Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，Ｃｈｓ．２ ａｎｄ ４，１９
８８）」並びにノップ及びピラト（Ｋｎｏｐ ａｎｄ
Ｐｉｌａｔｏ）「フェノール樹脂（Ｐｈｅｎｏｌｉｃ
Ｒｅｓｉｎｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ，１９
８５）」（これらの教示するノボラック及びその他のフ
ェノール樹脂の製造及び使用は、本明細書でも参照され
ている）のような多数の刊行物中に開示された公知の方
法に従って製造される。
【００１４】さらに詳細には、ノボラック樹脂は、フェ
ノールとアルデヒドとの熱可塑性縮合生成物である。ノ
ボラック樹脂を生成するための、アルデヒド、特にホル
ムアルデヒドとの縮合のために好適なフェノール類の例
としては、フェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾー
ル、ｐ−クレゾール、２，４−キシレノール、２，５−
キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレ
ノール、チモール及びこれらの混合物等が含まれる。酸
触媒縮合反応によって、約５００〜１００，０００ダル
トンの分子量の好適なノボラック樹脂が生成することに
なる。好ましいノボラック樹脂にはクレゾールホルムア
ルデヒド縮合生成物が含まれる。
【００１５】他の好ましい反応性樹脂は、ポリ（ビニル
フェノール）樹脂である。ポリ（ビニルフェノール）
は、カチオン性触媒の存在下において、対応するモノマ
ーのブロック重合、エマルジョン重合又は溶液重合によ
って生成させることができる熱可塑性材料である。ポリ
（ビニルフェノール）樹脂の製造のために使用されるビ
ニルフェノール類は、例えば、市販のクマリン類又は置
換クマリン類を加水分解し、続いて得られたヒドロキシ
桂皮酸類を脱カルボキシル化することによって製造する
ことができる。有用なビニルフェノール類はまた、対応
するヒドロキシアルキルフェノールの脱水により又は置
換若しくは非置換ヒドロキシベンズアルデヒドとマロン
酸との反応から得られるヒドロキシ桂皮酸の脱カルボキ
シル化により製造することができる。このようなビニル
フェノールから製造された好ましいポリ（ビニルフェノ
ール）樹脂は、約２，０００〜約１００，０００ダルト
ンの範囲の分子量を有する。ポリ（ビニルフェノール）
樹脂の製造方法は、また、米国特許第４，４３９，５１
６号（参照して本明細書に含める）に記載されている。
【００１６】他の適当な反応性樹脂には、構造がノボラ
ック樹脂及びポリ（ビニルフェノール）樹脂に類似して
いる、フェノール単位と非芳香族環式アルコール単位と
を含有するポリマーがある。このようなコポリマー樹脂
は、１９９０年１２月１２日の公開日を有するヨーロッ
パ特許出願公開第０４０１４９９号（参照して本明細書
に含める）に記載されている。
【００１７】適当なフェノール系反応性樹脂の追加すべ
き種類には、Ｎ−ヒドロキシフェニルマレイミドのホモ
ポリマー及びコポリマーが含まれる。このような材料は
ヨーロッパ特許出願公開第０２５５９８９号の第２頁第
４５行から始まり第５頁第５１行まで続く部分（参照し
て本明細書に含める）に開示されている。
【００１８】本発明による組成物の樹脂成分の濃度は比
較的広い範囲内で変化させてよく、一般的に、該樹脂成
分は組成物の全固体の約３０〜６０以上の重量％であ
る。一般的に、反応性樹脂は、組成物の全固体の約０
（非反応性樹脂のみを使用する場合）〜６０重量％以上
の濃度で、組成物中に使用される。本明細書で使用する
とき、用語「組成物の全固体」は、溶媒（ｓｏｌｖｅｎ
ｔ ｃａｒｒｉｅｒ）以外の組成物の全成分を示す。
【００１９】本発明による組成物の他の成分は、好まし
くは、１個又は２個以上の内部エポキシド基を含有する
エポキシ化ポリブタジエンのような反応性オリゴマーで
ある。このエポキシ化ポリブタジエンには、好適に、１
個又は２個以上の内部エポキシ官能基に加えて他の反応
性の基が含有されていてもよい。例えば、このブタジエ
ンには、１個又は２個以上のビニル基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基又は側鎖及び／若しくは末端エポキ
シ基が含有されていてよい。
【００２０】本発明による組成物の特に好ましいエポキ
シ化ポリブタジエンは、下記の式（Ｉ）：
【００２１】
【化１１】
【００２２】で表されるものである。Ｒ及びＲ１は、そ
れぞれ独立に、水素、置換又は非置換アルキル、置換又
は非置換アリール並びにヒドロキシ、エポキシ又はアル
キレン基、例えば、２〜１０個の炭素原子、さらに好ま
しくは２個の炭素原子を有するアルキレン基のような反
応性基からなる群から選択される。好適なアルキル基に
は、１〜約１０個の炭素原子、さらに好ましくは１〜約
６個の炭素原子を有するものが含まれる。フェニルが好
適なアリール基である。アルキル基及びアリール基は、
例えば、アリール、アルキル、アルキレン、ハロ、アル
コキシ又はヒドロキシによって任意に置換されていても
よい。式（Ｉ）の基Ｒ２は、好ましくは、ブタジエン主
鎖に対する炭素側鎖としてのビニル基を形成するアルキ
レン炭素である（即ち、Ｒ２はＣＨ２＝である。）が、
式（Ｉ）のポリブタジエンは、１個又は２個以上のブタ
ジエンの単位について、基Ｒ２が前記したアルキレン炭
素以外であるように変性されていてもよい。例えば、こ
のようなアルキレン基は、Ｒ２がメチルのようなアルキ
ル炭素であるように飽和されていてもよい。上記式
（Ｉ）の値ｎは、好適には２以上であり、さらに好まし
くはｎは約１０と２５との間の値であり、さらに好まし
くはｎは約２０と２５との間の値である。
【００２３】上記式（Ｉ）のポリブタジエンは、好まし
くは、少なくとも約４０００の分子量（重量平均）を有
し、好ましくは約４０００と８０００との間の分子量を
有し、さらに好ましくは約５０００と６０００との間の
分子量を有する。
【００２４】式（Ｉ）のポリブタジエンは、幾つかの方
法で製造することができる。例えば、市販のポリブタジ
エンを選択的に酸化して、内部エポキシド基を得ること
ができる。一般的に、ポリ１，３−ブタジエン類が使用
される。末端基を変化させて、ヒドロキシのような反応
性基を含有するポリブタジエンを含むポリブタジエン類
は、ビーエフ・グッドリッチ社（ＢＦ Ｇｏｏｄｒｉｃ
ｈ）、ニッソー社（Ｎｉｓｓｏ）及び日本合成ゴム株式
会社のような販売会社から入手できる。好適な反応条件
下で、内部アルキレン基は、側鎖ビニル基（即ち、上記
のＲ２がアルキレン炭素である場合）よりも親電子置換
反応に対して反応性であろう。それで、ポリブタジエン
の内部炭素−炭素二重結合は、水及びテトラヒドロフラ
ンのような実質的に非求核性溶媒又はトルエン若しくは
キシレンのような芳香族溶媒の存在下において、Ｃｌ２
又はＢｒ２のようなハロゲンとの反応によってハロヒド
リンに転化することができる。次いで、該ハロヒドリン
のアルカリ処理によってエポキシドを生成させることが
できる。ハロヒドリンを経由して内部エポキシドを生成
させるための好適な塩基には、カリウムｔ−ブトキシド
のようなアルコキシド及び水酸化ナトリウムのような水
酸化物が含まれる。該ハロヒドリンの生成において、ポ
リブタジエン中のより反応性のあるジ置換内部ビニル基
への付加を制限するために、化学量論的当量のハロゲン
を使用しなくてはならない。
【００２５】また、ポリブタジエンの内部アルキレン基
の直接酸化を使用して、本発明のエポキシ化ポリブタジ
エンを生成させることができるであろう。例えば、市販
のポリブタジエンを適当な溶媒と混合し、適当な酸化剤
と反応させて、エポキシド基を得ることができる。適当
な酸化剤には、過安息香酸、メタクロロ安息香酸、過酢
酸及びトリフルオロ過酢酸のような過酸、水酸化ナトリ
ウム及び過酸化水素（３０重量％水溶液）のようなアル
カリ性酸化剤又はＡｇのような適当な触媒の存在下で反
応混合物にＯ２ガスをバブリングさせてなる実質的に中
性での酸化が含まれる。
【００２６】この内部エポキシ化ポリブタジエンは好ま
しくは、硬化の前及び後で組成物の他の成分と混和性で
ある。硬化の際に他の成分と混和性であるエポキシ化ポ
リブタジエンは、組成物を硬化させる際に透明な塗布層
を形成するであろう。他方、混和性でないポリブタジエ
ンは、不透明な硬化した塗布層、例えば、乳白色の塗布
層を与えるであろう。理論に結び付けられることを望む
ものではないが、透明な硬化した塗布層は、組成物の重
合性成分の実質的に均一な分布からなる重合した網状組
織を形成すると信じられる。
【００２７】内部エポキシ化ポリブタジエン成分の濃度
は、比較的広い範囲内で変化させることができ、一般的
に、内部エポキシ化ポリブタジエンは、組成物の全固体
の少なくとも約１０重量％、さらに一般的に全固体の約
１０〜６０以上の重量％、尚さらに一般的に組成物の全
固体の約２５〜５５重量％の濃度で使用される。
【００２８】本発明の組成物にさらに、ノボラック樹脂
と混合されてメシル化されたヒドロキシル基の少量部分
を有するポリビニルフェノール樹脂が含有される。
【００２９】前記の樹脂及びエポキシ化ポリブタジエン
成分に加えて、このフォトレジストには、約３２０〜４
２０ｎｍの波長の活性化放射線により光分解を受けて、
強いハロゲン酸を生成する光酸生成化合物が含有されて
いる。適当な酸生成化合物は、下記の式ＩＩ：
【００３０】
【化１２】
【００３１】（式中、Ｐは置換若しくは非置換のフェニ
ル基又は置換若しくは非置換のナフチル基であり、そし
て各Ｘは同じでも異なっていてもよく、それぞれハロゲ
ン原子、好ましくはＣｌ又はＢｒを表わす。）で表され
るハロメチル−ｓ−トリアジン類である。好ましくは、
ＸがＣｌ又はＢｒであるとき、Ｐは、次式、
【００３２】
【化１３】
【００３３】で表される基である。
【００３４】また、好ましいハロメチル−ｓ−トリアジ
ンは、下記の式ＩＩＩ：
【００３５】
【化１４】
【００３６】［式中、Ｑは臭素又は塩素であり、Ｐは−
ＮＨＲ、−ＮＲ２又は−ＯＲ（式中、Ｒはフェニル又は
低級アルキル（低級アルキルは６個までの炭素原子を有
するアルキル基を意味する）である）であり、ｎは１〜
３の整数であり、そしてＷは、任意に置換された芳香族
若しくは複素環又は次式ＩＶ：
【００３７】
【化１５】
【００３８】（式中、Ｚは酸素又は硫黄であり、そして
Ｒ１は水素、低級アルキル又はフェニル基である）で表
される基である。］で表される化合物である。勿論、Ｗ
が芳香族又は複素環であるとき、この環は任意に置換さ
れていてよい。置換基の網羅的記載を意図しているので
はないが、下記のものが挙げられる。即ち、クロロ、ブ
ロモ、フェニル、低級アルキル（６個以下の炭素原子を
有するアルキル）、ニトロ、フェノキシ、アルコキシ、
アセトキシ、アセチル、アミノ及びアルキルアミノ。
【００３９】上記のようなｓ−トリアジン化合物は、約
３２０〜約４２０ｎｍの波長の活性化線を照射されたと
き、フリーラジカルを発生するものである。このため
に、この化合物はアイライン波長内での本発明に於ける
感光性組成物中の光開始剤として有用である。
【００４０】このｓ−トリアジン化合物は、ある種のメ
チル−ハロメチル−ｓ−トリアジンとある種のアルデヒ
ド又はアルデヒド誘導体との縮合反応生成物である。こ
れは、前記引用した米国特許第３，９５４，４７５号に
開示されている方法により及び若林（Ｗａｋａｂａｙａ
ｓｈｉ）ら、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ、４２
巻、２９２４−３０頁（１９６９年）の教示に従って製
造することができる。
【００４１】本発明に於いて光酸発生剤として使用する
ために適したハロゲン化トリアジンの特別の例には、例
えば、２−［１−（３，４−ベンゾジオキソリル）］−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，２，５−トリ
アジン、２−［１−（２，３−ベンゾジオキソリル）］
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［１−（３，４−ベンゾジオキソリ
ル）］−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，
５−トリアジン、２−［１−（２，３−ベンゾジオキソ
リル）］−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−（２−フリルエチリデン）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリ
アジン、２−［２−（５−メチルフリル）エチリデン］
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−（４−メチルフリル）エチリデ
ン］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５
−トリアジン、２−［２−（３−メチルフリル）エチリ
デン］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，
５−トリアジン、２−［２−（４，５−ジメチルフリ
ル）エチリデン］−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−１，３，５−トリアジン、２−［２−（５−メトキシ
フリル）エチリデン］−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−（４−メト
キシフリル）エチリデン］−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−（３−
メトキシフリル）エチリデン］−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−
（４，５−ジメトキシフリル）エチリデン］−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−フリルエチリデン］−４，６−ビス（トリブ
ロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−
（５−メチルフリル）エチリデン］−４，６−ビス（ト
リブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２
−（４−メチルフリル）エチリデン］−４，６−ビス
（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−
［２−（３−メチルフリル）エチリデン］−４，６−ビ
ス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２
−［２−（４，５−ジメチルシフリル）エチリデン］−
４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリ
アジン、２−［２−（５−メトキシフリル）エチリデ
ン］−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５
−トリアジン、２−［２−（４−メトキシフリル）エチ
リデン］−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［２−（３−メトキシフリ
ル）エチリデン］−４，６−ビス（トリブロモメチル）
−１，３，５−トリアジン、２−［２−（４，５−ジメ
トキシフリル）エチリデン］−４，６−ビス（トリブロ
モメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−ト
リス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−１，３，５
−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロ
ロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−フェニル−
４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリ
アジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−
（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリブロモ
メチル）−１，３，５−トリアジン、２−（１−ナフチ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５
−トリアジン、２−（１−ナフチル）−４，６−ビス
（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−
（４−メトキシ−１−ナフチル）−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−
メトキシ−１−ナフチル）−４，６−ビス（トリブロモ
メチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロロ
フェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−スチ
リル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５
−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（ト
リブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−
（３，４，５−トリメトキシスチリル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−
（３，４，５−トリメトキシスチリル）−４，６−ビス
（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−
（３−クロロ−１−フェニル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（３−ク
ロロフェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−
１，３，５−トリアジン等々が含まれる。
【００４２】本発明で使用するために適した３２０〜４
２０ｎｍで活性化される他の光酸発生剤には、次式Ｖ：
【００４３】
【化１６】
【００４４】（式中、ＸはＣｌ又はＢｒであり、特に、
ＸはＣｌが好ましい。）で表される実質的オキサジアゾ
ール類が含まれる。
【００４５】アイライン露光のために使用することがで
きる他のトリアジン型の光酸生成物は、ヨーロッパ特許
出願第０，４５８，３２５号に開示され、米国特許第
５，３６６，８４６号に教示されている。
【００４６】本明細書に開示された酸発生剤化合物は、
単独又は混合物で使用することができる。酸発生剤の量
は、特定のアルカリ可溶性樹脂の１００重量部当たり、
約０．０１〜５重量部、好ましくは０．１〜３重量部で
変化させることができる。酸発生剤の量が０．０１重量
部より少ないとき、レジストパターンを形成することが
困難であり、この量が５重量部を越えるとき、基板から
レジストを剥がすことが困難になる。
【００４７】上記のものに加えて、光増感剤成分（ａ
ｓｐｅｃｔｒａｌ ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ
ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ）をネガ型フォトレジスト組成物中
に含有させることができる。
【００４８】好ましい光増感剤は、アントラセン、ジフ
ェニルアントラセンのような置換アントラセン化合物、
フェナントレン又は次式：
【００４９】
【化１７】
【００５０】で表されるイソプロピルチオキサントンの
ようなチオキサントン類である。
【００５１】少なくとも２個のビニルエーテル基を含有
する化合物は、本明細書に開示されたような光酸発生剤
化合物を含有してなる組成物のための適当な架橋剤であ
る。少なくとも２個のビニルエーテル基を有する化合物
の例には、脂肪族、環式脂肪族、芳香族又は芳香脂肪族
（ａｒａｌｉｐｈａｔｉｃ）ジオールのジビニルエーテ
ルが含まれる。このような物質の例には、１〜１２個の
炭素原子を有する脂肪族ジオール、ポリエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ポリブチレングリコー
ル、ジメチロールシクロヘキサン等々のジビニルエーテ
ルが含まれる。特別の例には、エチレングリコール、ト
リメチレン−１，３−ジオール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、レゾルシノール、ビス
フェノールＡ等々のジビニルエーテルが含まれる。本発
明の組成物には、架橋剤としてメラミン類が含有されて
いてよく、又は組成物には２種若しくは３種以上の異な
った架橋剤が含有されていてよい。
【００５２】組成物中の１種又は２種以上の架橋剤の濃
度は、比較的広い範囲内で変化させることができる。当
業者に認められるように、適当な濃度は、架橋剤の反応
性及び組成物の特定の塗布のような要因と共に変化する
であろう。一般的に、１種又は２種以上の架橋剤の適当
な濃度は、組成物の全固体の約５〜３０重量％、好まし
くは全固体の約１０〜２０重量％である。
【００５３】本発明による組成物中に、染料、充填材、
湿潤剤、難燃剤等々のような他の添加剤が任意に含有さ
れていてよい。適当な充填材は、サイプラス・ケミカル
社（Ｃｙｐｒｕｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）によって商品名
「タルク（ＴＡＬＣ）」で販売されている製品であり、
適当な染料は、チバ・ガイギー社（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇ
ｙ）から入手できるオラソール・ブルー（Ｏｒａｓｏｌ
Ｂｌｕｅ）である。
【００５４】現像後の熱硬化は、約１２０℃〜１８０
℃、好ましくは１２０℃〜１４０℃の範囲内の温度で、
約２０〜１２０分の時間行うことができる。熱硬化は未
反応成分を硬化させ、塗布層の可撓性を促進し、塗布層
の基板への接着を強化することができる。塗布層はま
た、塗料工業に於いてよく知られている方法によってＲ
Ｆ又はマイクロ波エネルギーを使用して後硬化させるこ
ともできる。
【００５５】本発明による組成物は、フレキシブル回路
の製造に於けるフレキシブル光イメージング性カバー塗
料として非常に有用である。フレキシブル回路の一般的
な製造方法は、標準的な手順（例えば、印刷及びエッチ
ング）によって、フレキシブル基板材料をエッチングし
て回路層を形成し、フォトレジストを剥離し、続いてこ
の基板材料表面を洗浄することからなっている。まず、
本発明による組成物を、この洗浄した表面に塗布する。
この組成物は、種々の塗布手段、例えば、ローラコーテ
ィング又はスクリーンコーティングによって、基板材料
に適当に塗布することができる。次いで、塗布された塗
布層を画像形成し、現像して、例えば、はんだパッド用
の開口部を設ける。次いで、塗布した基板材料を、公知
の手順に従って処理し、使用することができる。このよ
うなフレックス回路応用のために、光画像形成性組成物
は好ましくは、より難燃性の組成物塗布層を提供するた
めに臭素化フェノール樹脂バインダーからなっている。
当業者に明らかなように、臭素化フェノール樹脂は、樹
脂フェノール単位の少なくとも一部が、１個又は２個以
上の利用可能な環位置でブロモ置換されている樹脂であ
る。
【００５６】本発明による組成物はまた、前記及び米国
特許第４，９０２，６１０号に記載されているような連
続積層方法により製造された多層プリント回路基板用の
誘電体内部層（ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ ｉｎｎｅｒｌａ
ｙｅｒｓ）として有用であろう。例えば、本発明による
組成物を第一回路層の上に塗布し、次いでこの塗布層に
画像形成して、相互連結（ｉｎｔｅｒｃｏｎｎｅｃｔｉ
ｏｎｓ）を規定する（ｄｉｆｉｎｅ）開口を設け、次い
で１個又は２個以上の他の基板層を次々と画像形成した
組成物層の上に形成して、２個又は３個以上の回路機構
の層を有する回路基板を形成する。第一の回路層は、塗
布層の画像形成した開口の手段により、基板の他の回路
層と電気的接続ができるであろう。誘電体内部層の一般
的な塗布は、６ミル幅導電体を有する予備洗浄した回路
機構基板の上の本発明の光画像形成性組成物の２ミルの
層の塗布、前記のような露光及び現像の手段による塗布
層中の３ミル直径のバイアアパーチャー（ｖｉａ ａｐ
ｅｒｔｕｒｅｓ）の形成並びに光誘電体層（ｐｈｏｔｏ
ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ ｌａｙｅｒ）の後現像硬化から
なる。このバイアアパーチャーは、下側にある導電体の
幅内の所定の部位に配置されている。このアパーチャー
は、従来の多層基板製造方法で行われているようにホー
ルを個々にドリルで開けるのではなくて、同時に形成す
ることができる。さらに、このアパーチャーは、このよ
うな連続製作工程に於いて、ドリル開けによって行うこ
とができるよりも顕著に小さくすることができる。例え
ば、光形成バイアアパーチャーは、２ミルのように小さ
い直径で設けることができる。さらに、正方形及びスロ
ットを含むどのような形状のバイアアパーチャーも、画
像形成し、現像することができる。次いでこの通路（ｖ
ｉａ）を、回路機構導電体の第二層をメッキするとき同
時に、無電解銅でメッキすることができる。
【００５７】本発明による組成物の他の応用には、無電
解メッキした光形成通路の手段により、パッドがプリン
ト回路基板の下側の回路層に相互連結されている、表面
パッドマウント（ｓｕｒｆａｃｅ ｐａｄ ｍｏｕｎ
ｔ）のための外層として使用することが含まれる。本発
明による組成物はまた、プリント回路製造方法のような
フルビルド・アディティブ・メッキ方法（ｆｕｌｌ−ｂ
ｕｉｌｄ ａｄｄｉｔｉｖｅ ｐｌａｔｉｎｇ ｐｒｏ
ｃｅｓｓ）に於けるレジストとして使用することができ
る。フルビルド・アディティブ回路製造方法について、
無電解メッキ回路構造導電体間の絶縁体として、永久光
画像形成性誘電体マスクを使用することが非常に望まし
い。さらに、光画像形成性マスクは、微細な線解像度が
可能で、水現像性であり、マスク上への不必要な外来の
銅析出無しに、長時間高温度で高ｐＨ無電解銅メッキ液
を全構成するためのレジストとして機能するはずであ
る。
【００５８】
【実施例】下記の限定されない実施例は、本発明を説明
するためのものである。
【００５９】実施例１〜１２ 本発明の４種の異なった光画像形成性組成物を、下記の
表１に特定されたような量で成分を混合することによっ
て製造した。表格子の中に記載した量は、特定した組成
物の全重量（溶媒を含む）基準の重量部で表わす。
【００６０】
【表１】
【００６１】上記の表１に記載した成分に加えて、２−
エチル−９，１０−ジメトキシアントラセンを、組成物
のそれぞれの光増感剤として、特定した組成物の全重量
基準で１重量部の濃度で使用した。
【００６２】組成物のそれぞれで使用した溶媒は、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテートであっ
た。組成物のそれぞれは、約４２重量％固体で配合し
た。
【００６３】上記の表１に於いて用いた各記号は下記の
物質を表わす。樹脂バインダーＡは、約１１，０００の
分子量（重量平均）を有するクレゾール−ホルムアルデ
ヒドノボラックである。
【００６４】Ｂは、約１４５〜１５５゜の融点及び約５
５００の分子量（重量平均）を有するｍ−クレゾール−
ホルムアルデヒドである。
【００６５】Ｃは、約５２００の分子量（重量平均）を
有するポリ（ビニルフェノール）樹脂である。
【００６６】Ｄは、約１３７００の分子量（重量平均）
を有するポリ（ビニルフェノール）樹脂である。
【００６７】Ｅは、フェノール性アルコール単位及び非
芳香族環式アルコール単位を含有し、約５２００の分子
量（重量平均）を有する部分水素化ポリビニルフェノー
ル樹脂である。
【００６８】Ｆは、下記のモノマー混合物、即ち、メタ
クリル酸約１２重量部、ヒドロキシ−エチルメチルアク
リレート８重量部、ブチルアクリレート４０重量部及び
メチルメタクリレート４９重量部のフリーラジカル重合
によって生成されたポリアクリレートである。
【００６９】ジビニルエーテルは、例えば、ＢＳＡＦ及
びＩＳＰによって製造された、ＢＤＤＶＥ、ＤＶＥ−
２、ＤＶＥ−３、ＤＶＥ−４、ＥＳＤＶＥ、ＨＤＤＶ
Ｅ、ＣＨＤＶＥ、ＤＶＥ−４、ＤＥＳ２００−ＤＶＥ及
びＰＴＨＦ２９０−ＤＶＥから選択することができる。
【００７０】この組成物中に使用したエポキシブタジエ
ンは、アトケム・ノース・アメリカ社（Ａｔｏｃｈｅｍ
Ｎｏｒｔｈ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ．）（ペンシル
ベニア州、フィラデルフィア（Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉ
ａ））から、商品名ポリビーディー６０５樹脂（Ｐｏｌ
ｙ ｂｄ ６０５ Ｒｅｓｉｎ）で得られるエポキシ化
ポリブタジエンであり、前記定義した式（Ｉ）（式中、
Ｒ及びＲ１は共にヒドロキシルであり、Ｒ２は側鎖ビニ
ル基を形成するアルキレン炭素である）の化合物であっ
た。このポリブタジエンは、約５５００の分子量及び約
２６０のエポキシ当量を有していた。
【００７１】この組成物中に使用したメラミンは、アメ
リカン・サイアナミド社（ＡｍｅｒｉｃａｎＣｙａｎａ
ｍｉｄ）から商品名サイメル（Ｃｙｍｅｌ）３０３で入
手できるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂であった。
【００７２】この組成物中に使用した酸発生剤は、次
式：
【００７３】
【化１８】
【００７４】のトリアジンＢとして知られている化合物
であった。
【００７５】実施例１３−レリーフ画像の形成 上記実施例１〜４の組成物のそれぞれを、マイエル（Ｍ
ｅｉｅｒ）ロッドによって、片側銅被覆プラスチック積
層物の銅表面上に、約２２〜２８ミクロンのドライフィ
ルム厚さまで別々に塗布する。組成物を塗布する前に、
基板の銅表面を軽石ベースのスクラブクリーナー（Ｓｃ
ｒｕｂ Ｃｌｅａｎｅｒ）２８（シプレイ社（Ｓｈｉｐ
ｌｅｙ Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手可能）できれいに擦
り、続いて擦った銅表面を水洗浄し、乾燥する。塗布し
た液体塗膜を、９０℃の新鮮空気循環対流オーブン内で
３０分間乾燥する。次いで、塗布した部分をそれぞれ、
より高い露光線量が必要であった実施例５の組成物で塗
布した部分を除いて、２５０ｍＪ／ｃｍ２露光線量を使
用してミミル（Ｍｉｍｉｒ）光源で露光する。実施例１
〜４のそれぞれの組成物を、広帯域露光に付す。露光に
続いて、塗布した部分を９０℃で２０分間後露光ベーク
する。冷却した後、露光した塗布層を、現像液３０３Ａ
（シプレイ社から入手できる水性水酸化ナトリウム現像
液）で約３０〜３５℃で浸漬現像する。次いで、現像し
た塗布層を１３５℃又は１６０℃で６０分間硬化させ
る。
【００７６】実施例１４ 商品名カプトン（ＫＡＰＴＯＮ）で販売されているポリ
イミドの接着剤無し銅被覆フィルムを、エッチングして
銅を除去した。上記実施例１の組成物をこのカプトンフ
ィルムに塗布して、約２０〜２５ミクロンのフィルム厚
さを得る。塗布したフィルムを、米国特許第５，３４
０，６９７号の実施例１８（参照して本明細書に含め
る）に記載されている方法により、露光し、現像し、そ
して硬化させた。
【００７７】実施例１５ 実施例２及び３の組成物をそれぞれ、別々の銅被覆プラ
スチック積層物の上に塗布し、米国特許第５，３４０，
６９７号の実施例１８（参照して本明細書に含める）に
記載されている方法により、乾燥し、露光し、強化ベー
クし、現像しそして硬化させる。次いで、硬化させた組
成物層を、かみそりの刃で網状模様に切断する。
【００７８】実施例１６−フルビルド・アディティブ・
メッキ １オンス銅被覆エポキシ積層物基板をエッチングし、そ
れによって微小孔を有する粗くしたエポキシ表面をむき
出しにする。次いで、この基板を、無電解触媒溶液キャ
タポジット（ＣＡＴＡＰＯＳＩＴ）４４（シプレイ社か
ら入手可能）中に５分間浸漬し、続いて処理した基板を
水洗浄し、乾燥する。＃４４マイエルロッドの手段によ
り、実施例３の組成物を別々の触媒化銅被覆基板に塗布
し、乾燥し、画像露光し、１００℃で１５分間強化後露
光ベークし、３０３Ａ現像液（シプレイ社）で現像し、
洗浄し、乾燥し、そして１４０℃で６０分間硬化させ
て、回路構造パターンで触媒化エポキシを露出した１．
１ミル深さのトレンチを得る。次いで、この部品を、ア
クセラレータ（Ａｃｃｅｌｅｒａｔｏｒ）１９Ａ（シプ
レイ社から入手可能）中に５分間浸漬して、パラジウム
／錫メッキ触媒を加速し、水洗浄し、次いでフルビルド
無電解銅浴中に、注目するトレンチに１ミル厚さ（約２
５ミクロン）が析出するまで入れる。このメッキ浴は約
７０℃で運転され、１時間当たり２．２ミクロンで銅を
析出する。
【００７９】実施例１７ 実施例１〜１２に記載されたような組成物のそれぞれ
を、マイラー（ＭＹＬＡＲ）（登録商標）銘柄のポリエ
ステルフィルムのようなポリエステルフィルムの上に塗
布し、乾燥する。次いで、この乾燥した組成物をポリエ
チレンカバーシートで覆って、実施例１３〜１６に記載
したようにして使用できるドライフィルムフォトレジス
トを製造する。
【００８０】使用に際し、ポリエチレンシートを除去
し、フォトレジスト組成物を、継続形成通過の間に銅表
面にロール積層する。例えば、ドライフィルムフォトレ
ジストの使用を開示している、米国特許第４，９９２，
３５４号及び同第５，２１３，９４５号を参照された
い。
【００８１】上記の本発明の説明は単にその例示であ
り、変形及び修正が、特許請求の範囲に記載したような
本発明の範囲又は精神から逸脱することなく実施するこ
とができることが理解されるであろう。
フロントページの続き (71)出願人 596156668 455 Ｆｏｒｅｓｔ Ｓｔｒｅｅｔ，Ｍａ ｒｌｂｏｒｏｕｇｈ，ＭＡ 01752 Ｕ. Ｓ．Ａ

Claims (35)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 置換トリアジン化合物又は置換オキサジ
    アゾール化合物からなる光酸発生剤、１個又は２個以上
    の架橋基を含有する反応性オリゴマー及び樹脂バインダ
    ーを組み合わせてなる、約３２０〜約４２０ｎｍの波長
    で光画像形成性であるアイラインネガ型光画像形成性組
    成物。
  2. 【請求項２】 光酸発生剤が、次式： 【化１】 （式中、ＸはＣｌ又はＢｒである。）で表される化合物
    である請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 ＸがＣｌである請求項２に記載の組成
    物。
  4. 【請求項４】 光酸発生剤が、次式： 【化２】 （式中、ＸはＣｌ又はＢｒである。）で表される化合物
    である請求項１に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 ＸがＣｌである請求項３に記載の組成
    物。
  6. 【請求項６】 ＸがＢｒである請求項３に記載の組成
    物。
  7. 【請求項７】 組成物がさらに架橋剤を含有されている
    請求項１に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 オリゴマーが、下記の式： 【化３】 （式中、Ｒ及びＲ１は、それぞれ独立に、水素、置換又
    は非置換アルキル、置換又は非置換アリール、エポキ
    シ、ヒドロキシ、及び、アルキレンからなる群から選択
    され、 Ｒ２は、アルキレン及びアルキルからなる群から選択さ
    れ、そして、 ｎは２以上の整数である。）で表される化合物である請
    求項１に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 オリゴマーが、下記の式： 【化４】 （式中、ｎは約１０〜２５の整数である。）で表される
    化合物である請求項１に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 樹脂バインダーが、（１）ノボラック
    樹脂、（２）ポリ（ビニルフェノール）樹脂、（３）フ
    ェノール単位及び環式アルコール単位を含有する樹脂、
    並びに、（４）臭素化フェノール樹脂からなる群から選
    択される、請求項１に記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 組成物がさらに光増感剤を含有してな
    る請求項１に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 組成物がアルカリ性水溶液又はアルカ
    リ性半水溶液中で現像可能である請求項１に記載の組成
    物。
  13. 【請求項１３】 基板上に画像を形成した被膜層を形成
    する方法において、 （ａ）基板上に請求項１に記載の組成物の被膜層を塗布
    する工程、 （ｂ）該被膜層に露光して、被膜層内に潜像を生成する
    工程、及び、 （ｃ）該露光した被膜層を現像して、レリーフ画像を生
    成する工程、からなる被膜層に画像を形成する方法。
  14. 【請求項１４】 現像の前に露光した被膜層を熱的に処
    理する工程を含む請求項１３に記載の方法。
  15. 【請求項１５】 現像したレリーフ画像を熱的に硬化さ
    せる工程を含む請求項１３に記載の方法。
  16. 【請求項１６】 組成物がさらに架橋剤を含有してなる
    請求項１３に記載の方法。
  17. 【請求項１７】 ２又は３以上の回路機構の層を有する
    回路基板の形成方法において、光誘電体の被膜層を第一
    の回路層の上に塗布し、該被膜層は、相互連結を規定す
    る光画像形成による開口部を有し、光画像形成による開
    口部の少なくとも数個の壁を無電解メッキし、当該光誘
    電体の被膜層が請求項１に記載の組成物からなり、そし
    て、該被膜層の上に第二の回路層を次々と形成し、該第
    二回路層が、該被膜層の光画像形成による開口部によっ
    て、前記第一回路層と電気的に接続できるようにするこ
    とからなる回路基板の形成方法。
  18. 【請求項１８】 組成物がさらに架橋剤を含有してなる
    請求項１７に記載の方法。
  19. 【請求項１９】 その表面の少なくとも一部の上に、請
    求項１に記載の組成物からなる光イメージングした組成
    物（ｐｈｏｔｏｉｍａｇｅｄ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏ
    ｎ）を有する基板からなる製造物。
  20. 【請求項２０】 光イメージングした組成物がさらに架
    橋剤を含有してなる請求項１９に記載の製造物。
  21. 【請求項２１】 基板が、２又は３以上の回路層からな
    るプリント回路基板であり、各回路層が、請求項１に記
    載の組成物を用いて光画像形成された誘電体組成物の被
    膜層によって隣接する回路層から分離され、当該被膜層
    が相互連結を規定する光画像形成による開口部を有し、
    当該光画像形成による開口部の少なくとも数個の壁が無
    電解メッキされており、そして、当該光画像形成による
    開口部において回路基板の回路層の間の電気的な接続が
    できる請求項１９に記載の製造物。
  22. 【請求項２２】 光酸生成（ｐｈｏｔｏａｃｉｄ ｐｒ
    ｏｄｕｃｉｎｇ）置換トリアジン化合物又は置換オキサ
    ジアゾール化合物、１個又は２個以上の内部エポキシド
    基からなるポリブタジエン、光増感剤、架橋剤及び樹脂
    バインダーを組み合わせてなる、約３２０〜約４２０ｎ
    ｍの波長で光による画像形成ができるアイラインネガ型
    光イメージング性組成物。
  23. 【請求項２３】 光酸発生剤が、次式： 【化５】 （式中、ＸはＣｌ又はＢｒである。）で表される化合物
    である請求項２２に記載の組成物。
  24. 【請求項２４】 光酸発生剤が、次式： 【化６】 （式中、ＸはＣｌ又はＢｒである。）で表される化合物
    である請求項２２に記載の組成物。
  25. 【請求項２５】 ＸがＣｌである請求項２３又は２４に
    記載の組成物。
  26. 【請求項２６】 ＸがＢｒである請求項２３又は２４に
    記載の組成物。
  27. 【請求項２７】 オリゴマーが、下記の式： 【化７】 （式中、Ｒ及びＲ１は、それぞれ独立に、水素、置換又
    は非置換アルキル、置換又は非置換アリール、エポキ
    シ、ヒドロキシ、及び、アルキレンからなる群から選択
    され、 Ｒ２は、アルキレン及びアルキルからなる群から選択さ
    れ、そして、 ｎは２以上の整数である。）で表される化合物である請
    求項２２に記載の組成物。
  28. 【請求項２８】 オリゴマーが、下記の式： 【化８】 （式中、ｎは約１０〜２５の整数である。）で表される
    化合物である請求項２７記載の組成物。
  29. 【請求項２９】 樹脂バインダーが、（１）ノボラック
    樹脂、（２）ポリ（ビニルフェノール）樹脂、（３）フ
    ェノール単位及び環式アルコール単位を含有する樹脂、
    （４）臭素化フェノール樹脂、並びに、（５）ポリアク
    リレートからなる群から選択される請求項２２に記載の
    組成物。
  30. 【請求項３０】 アルカリ性水性溶媒中で現像可能であ
    る請求項２２記載の組成物。
  31. 【請求項３１】 オリゴマーが、下記の式： 【化９】 （式中、Ｒ及びＲ１は、それぞれ独立に、水素、置換又
    は非置換アルキル、置換又は非置換アリール、エポキ
    シ、ヒドロキシ、及び、アルキレンからなる群から選択
    され、 Ｒ２は、アルキレン及びアルキルからなる群から選択さ
    れ、そして、 ｎは２以上の整数である。）で表される化合物である請
    求項１に記載の組成物。
  32. 【請求項３２】 オリゴマーが、下記の式： 【化１０】 （式中、ｎは約１０〜２５の整数である。）で表される
    化合物である請求項３１記載の組成物。
  33. 【請求項３３】 樹脂バインダーが、（１）ノボラック
    樹脂、（２）ポリ（ビニルフェノール）樹脂、（３）フ
    ェノール単位及び環式アルコール単位を含有する樹脂、
    （４）臭素化フェノール樹脂並びに（５）ポリアクリレ
    ートからなる群から選択される請求項１に記載の組成
    物。
  34. 【請求項３４】 光誘電体層がドライフィルムとして適
    用される請求項１７に記載の方法。
  35. 【請求項３５】 光誘電体層が液体として適用される請
    求項１７に記載の方法。
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