KR960007534A - 신규한 아민 유도체, 그의 제조방법 및 항부정맥제로서의 용도 - Google Patents

신규한 아민 유도체, 그의 제조방법 및 항부정맥제로서의 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 항부정맥제로서 유용한 다음 일반식 (I)의 신규한 아민 유도체 및 그의 염, 그의 제조방법 및 그의 항부정맥제로서의 용도에 관한 것이다.
(I)
상기 식에서, A는 일반식 -(CH2)m-,-(CH2)m-O-,-(CH2)m-NH- 또는 -(CH2)m-SO2-의 그룹을 나타내며, 여기에서 -(CH2)m-부분의 임의의 수소 원자는 한개 이상의 하이드록시 그룹으로 치환될 수 있고, B는 일반식 -(CH2)n-,-NR7-(CH2)n- 또는 -CONH-(CH2)n-의 그룹을 나타내며, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, 저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 저급알카노일 저급알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 저급알킬, 저급알카노일아미노 또는 저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는, 동일한 할로겐 또는 저급알콕시를 나타내거나, R8a가 수소인 경우에 R8b는 저급알킬설포닐아미노 또는 할로겐을 나타내며, 단 R8a가 수소이고 R8b가 저급알킬설포닐아미노인 경우에 R1은 일반식의 그룹 또는 헤테로사이크릭 그룹을 나타내며, R은 저급알킬 또는 아릴 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 0 내지 3의 정수를 나타낸다.

Description

신규한 아민 유도체, 그의 제조방법 및 항부정맥제로서의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. 하기 일반식 (I)의 아민 유도체 및 그의 염:
    (I)
    상기식에서 A는 일반식 -(CH2)m-,-(CH2)m-O-,-(CH2)m-NH- 또는 -(CH2)m-SO2-의 그룹을 나타내며, 여기에서 -(CH2)m-부분의 임의의 수소 원자는 한개 이상의 하이드록시 그룹으로 치환될 수 있고, B는 일반식 -(CH2)n-,-NR7-(CH2)n- 또는 -CONH-(CH2)n-의 그룹을 나타내며, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, 저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 저급알카노일 저급알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 저급알킬, 저급알카노일아미노 또는 저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는, 동일한 할로겐 또는 저급알콕시를 나타내거나, R8a가 수소인 경우에 R8b는 저급알킬설포닐아미노 또는 할로겐을 나타내며, 단 R8a가 수소이고 R8b가 저급알킬설포닐아미노인 경우에 R1은 일반식의 그룹 또는 헤테로사이크릭 그룹을 나타내며, R은 저급알킬 또는 아릴 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 0 내지 3의 정수를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, C1-C6저급알킬, C1-C6저급알콕시, 알킬 부분의 탄소수가 1 내지 6인 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, C1-C6저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 5-원 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 알킬 부분의 탄소수가 1 내지 6인 저급알카노일, C1-C6저급알킬 또는 5-원 또는 6원-헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, C1-C6저급알킬, 또는 알킬부분의 탄소수가 1 내지 6인 저급알카노일아미노 또는 C1-C6저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는 각각 동일한 할로겐 또는 C1-C6저급알콕시를 나타내며, R은 C1-C6저급알킬 또는 페닐 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 C1-C6저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 이미다졸릴 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C6저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 2의 정수를 나타내고, n은 0 내지 2의 정수를 나타내는 화합물 및 그의 염.
  3. 제2항에 있어서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 플루오로, 클로로, 브로모, 요오드, 시아노, 메틸, 메톡시, 아세틸, 니트로, 하이드록시, 메틸설포닐옥시, 펜옥시메틸, 피롤릴 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 아세틸 또는 메틸을 나타내며, R9는 수소, 니트로, 아미노, C1-C3저급알킬 또는 알킬부분의 탄소수가 1 내지 6인 저급알카노일아미노를 나타내고, R8a및 R8b는 각각 동일한 클로로 또는 메톡시를 나타내며, R은 C1-C3저급알킬 또는 페닐 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 메틸을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 1-이미다졸릴 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸설포닐을 나타내며, m은 0 내지 2의 정수를 나타내고, n은 0 내지 2의 정수를 나타내는 화합물 및 그의 염.
  4. 제1항에 있어서, A가 -(CH2)2-, -(CH2)-O-, -(CH2)-NH- 또는 -(CH2)2-SO2-의 그룹을 나타내고, B는 -(CH2)2-, -CONH-(CH2)2- 또는 -NH-(CH2)2-의 그룹을 나타내며, R1은 수소, 할로겐, 니트로, 1-피롤릴, 아세트아미도, 아미노, 디메틸아미노, 시아노, C1-C3저급알킬, 하이드록시, 메탄설포닐옥시 또는 메탄설폰아미도 그룹을 나타내고, R2는 수소, 니트로 또는 할로겐을 나타내며, R3는 수소 또는 니트로를 나타내고, R4는 수소, C1-C3저급알킬 또는 할로겐을 나타내며, R8a및 R8b는 각각 동일한 클로로 또는 메톡시를 나타내고, R9는 수소, C1-C3저급알킬, 아미노 또는 니트로를 나타내며, R은 C1-C3저급알킬 또는 페닐을 나타내고, X는 메탈설폰아미도, 1-이미다졸릴, 니트로 또는 아미노를 나타내는 화합물 및 그의 염.
  5. 제1항에 있어서, A가 -(CH2)-O-, -(CH2)2-O- 또는 -(CH2)2-NH-의 그룹을 나타내고, B는 -(CH2)2-의 그룹을 나타니며, R1은 수소, 할로겐, 니트로, 1-필롤릴, 아세트아미도, 아미노 또는 디메틸아미노를 나타내고, R2는 수소 또는 니트로를 나타내며, R3및 R4는 수소를 나타내고, R8a및 R8b는 각각 동일한 클로로 또는 메톡시를 나타내고, R9는 수소, 메틸, 에틸 또는 아미노를 나타내고, R은 메틸을 나타내며, X는 메탄설폰아미도, 1-이미다졸릴 또는 니트로를 나타내는 화합물 및 그의 염.
  6. 제1항에 있어서, 1-[4-메탄설포닐아미도-2-(1H-피롤-1-일)펜옥시]-2-[N-(3,4-디메톡시펜에틸)-N-메틸아미노]에탄 또는 그의 염인 화합물.
  7. 제1항에 있어서, 1-(2-아세트아미도-4-메탄설폰아미도펜옥시)-2-[N-(3,4-디메틸시펜에틸)-N-메틸아미노]에탄 또는 그의 염인 화합물.
  8. 제1항에 있어서, 1-(4-메탄설폰아미도펜옥시)-2-[N-(3,4-디클로로펜에틸)-N-메틸아미노]에탄 또는 그의 염인 화합물.
  9. (A) 하기 일반식 (Ⅱ)의 화합물 또는 그의 염을 하기 일반식 (Ⅲ)의 화합물 또는 그의 염과 반응시키거나, (B) 하기 일반식 (Ia)의 화합물 또는 그의 염을 환원시켜 하기 일반식 (Ib)의 화합물 또는 그의 염을 제조하거나, (C) 하기 일반식 (Ic)의 화합물 또는 그의 염을 알칸설포닐할라이드와 반응시켜 하기 일반식 (Id)의 화합물 또는 그의 염을 제조하거나, (D) 하기 일반식 (Ⅱ) 화합물 또는 그의 염을 하기 일반식 (Ⅳ)의 화합물 또는 그의 염과 반응시켜 하기 일반식 (Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염을 제조하고, 생성된 화합물 (Ⅴ)을 하기 일반식 (Ⅵ)의 화합물 또는 그의 염과 반응시켜 하기 일반식 (Ie)의 화합물 또는 그의 염을 제조하거나, (E) 하기 일반식 (Ⅶ)의 화합물 또는 그의 염을 하기 일반식 (Ⅷ)의 화합물 또는 그의 염과 반응시켜 하기 일반식 (If)의 화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하여 일반식 (I)의 아민 유도체 및 그의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서, A는 일반식 A는 일반식 -(CH2)m-, -(CH2)m-O-, -(CH2)m-NH- 또는 -(CH2)m-SO2-의 그룹을 나타내며, 여기에서 -(CH2)m-부분의 임의의 수소 원자는 한개 이상의 하이드록시 그룹으로 치환될 수 있고, B는 일반식 -(CH2)n-, -NR7-(CH2)n- 또는 -CONH-(CH2)n-의 그룹을 나타내며, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, 저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 저급알카노일, 저급알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 저급알킬, 저급알카노일아미노 또는 저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는 동일한 할로겐 또는 저급알콕시를 나타내거나, R8a가 수소인 경우에 R8b는 저급알킬설포닐아미노 또는 할로겐을 나타내며, 단 R8a가 수소이고, R8b가 저급알킬설포닐아미노인 경우에 R1은 일반식의 그룹 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R은 저급알킬 또는 아릴 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 0 내지 3의 정수를 나타니며, L은 반응성 이탈그룹이고, A'은 상기 A와 동일한 의미를 가지나, 단 -(CH2)m은 아니며, R10a및 R11a중의 하나는 수소이고, 다른 하나는 저급알킬설포닐이며, R1a, R2a, R3a, R4a, R9a및 Xa는 각각 상기의 R1, R2, R3, R4, R9및 X와 동일한 의미를 가지나, 이들 중의 적어도 하나는 아미노이다.
  10. 제9항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅱ)의 화합물 또는 그의 염을 하기 일반식 (Ⅲ)의 화합물 또는 그의 염과 반응시킴을 특징으로 하여 일반식 (I)의 아민 유도체 및 그의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서 A는 일반식 A는 일반식 -(CH2)m-, -(CH2)m-O-, -(CH2)m-NH- 또는 -(CH2)m-SO2-의 그룹을 나타내며, 여기에서 -(CH2)m-부분의 임의의 수소 원자는 한개 이상의 하이드록시 그룹을 치환될 수 있고, B는 일반식 -(CH2)n-, -NR7-(CH2)n- 또는 -CONH-(CH2)n-의 그룹을 나타내며, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, 저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 저급알카노일, 저급알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 저급알킬, 저급알카노일아미노 또는 저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는 동일한 할로겐 또는 저급알콕시를 나타내거나, R8a가 수소인 경우에 R8b는 저급알킬설포닐아미노 또는 할로겐을 나타내며, 단 R8a가 수소이고, R8b가 저급알킬설포닐아미노인 경우에 R1은 일반식의 그룹 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R은 저급알킬 또는 아릴 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 0 내지 3의 정수를 나타내며, L은 반응성 이탈그룹이다.
  11. 제9항에 있어서, 하기 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염을 환원시켜 하기 일반식 (Ib)의 화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하는 일반식 (I)의 아민유도체 및 그의 염을 제조하는 방법.
    A는 일반식 A는 일반식 -(CH2)m-, -(CH2)m-O-, -(CH2)m-NH- 또는 -(CH2)m-SO2-의 그룹을 나타내며, 여기에서 -(CH2)m-부분의 임의의 수소 원자는 한개 이상의 하이드록시 그룹을 치환될 수 있고, B는 일반식 -(CH2)n-, -NR7-(CH2)n- 또는 -CONH-(CH2)n-의 그룹을 나타내며, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, 저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 저급알카노일, 저급알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 저급알킬, 저급알카노일아미노 또는 저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는 동일한 할로겐 또는 저급알콕시를 나타내거나, R8a가 수소인 경우에 R8b는 저급알킬설포닐아미노 또는 할로겐을 나타내며, 단 R8a가 수소이고, R8b가 저급알킬설포닐아미노인 경우에 R1은 일반식의 그룹 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R은 저급알킬 또는 아릴 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 0 내지 3의 정수를 나타낸다.
    R1a, R2a, R3a, R4a, R9a및 Xa는 각각 상기의 R1, R2, R3, R4, R9및 X와 동일한 의미를 가지나, 이들 중의 적어도 하나는 니트로이고, R1b, R2b, R3b, R4b, R9b및 Xb는 각각 상기의 R1,R2,R3,R4,R9및 X와 동일한 의미를 가지나, 이들 중의 적어도 하나는 아미노이다.
  12. 제9항에 있어서, 하기 일반식 (Ic)의 화합물 또는 그의 염을 저급알칸설포닐할라이드와 반응시켜 일반식 (Id)의 화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하여 일반식 (I)의 아민 유도체 및 그의 염을 제조하는 방법.
    A는 일반식 A는 일반식 -(CH2)m-, -(CH2)m-O-, -(CH2)m-NH- 또는 -(CH2)m-SO2-의 그룹을 나타내며, 여기에서 -(CH2)m-부분의 임의의 수소 원자는 한개 이상의 하이드록시 그룹을 치환될 수 있고, B는 일반식 -(CH2)n-, -NR7-(CH2)n- 또는 -CONH-(CH2)n-의 그룹을 나타내며, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, 저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 저급알카노일, 저급알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 저급알킬, 저급알카노일아미노 또는 저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는 동일한 할로겐 또는 저급알콕시를 나타내거나, R8a가 수소인 경우에 R8b는 저급알킬설포닐아미노 또는 할로겐을 나타내며, 단 R8a가 수소이고, R8b가 저급알킬설포닐아미노인 경우에 R1은 일반식의 그룹 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R은 저급알킬 또는 아릴 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 0 내지 3의 정수를 나타내며, R10a및 R11a중의 하나는 수소이고, 다른 하나는 저급알킬설포닐이다.
  13. 제9항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅱ)의 화합물 또는 그의 염을 하기 일반식 (Ⅳ)의 화합물 또는 그의 염과 반응시켜 하기 일반식 (Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염을 제조하고, 생성된 화합물 (Ⅴ)를 하기 일반식 (Ⅵ)의 화합물 또는 그의염과 반응시켜 하기 일반식 (Ie)의 화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하여 일반식 (I)의 아민 유도체 및 그의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서, A는 일반식 A는 일반식 -(CH2)m-, -(CH2)m-O-, -(CH2)m-NH- 또는 -(CH2)m-SO2-의 그룹을 나타내며, 여기에서 -(CH2)m-부분의 임의의 수소 원자는 한개 이상의 하이드록시 그룹을 치환될 수 있고, B는 일반식 -(CH2)n-, -NR7-(CH2)n- 또는 -CONH-(CH2)n-의 그룹을 나타내며, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, 저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 저급알카노일, 저급알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 저급알킬, 저급알카노일아미노 또는 저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는 동일한 할로겐 또는 저급알콕시를 나타내거나, R8a가 수소인 경우에 R8b는 저급알킬설포닐아미노 또는 할로겐을 나타내며, 단 R8a가 수소이고, R8b가 저급알킬설포닐아미노인 경우에 R1은 일반식의 그룹 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R은 저급알킬 또는 아릴 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 0 내지 3의 정수를 나타내며, L은 반응성 이탈그룹이고, A'는 상기 A와 동일한 의미를 가지나, 단 -(CH2)m-은 아니다.
  14. 제9항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅶ)의 화합물 또는 그의 염을 하기 일반식 (Ⅷ)의 화합물 또는 그의 염과 반으시켜 하기 일반식 (If)의 화합물 또는 그의 염을 제조함을 특징으로 하여 일반식 (I)의 아민 유도체 및 그의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서, A는 일반식 A는 일반식 -(CH2)m-, -(CH2)m-O-, -(CH2)m-NH- 또는 -(CH2)m-SO2-의 그룹을 나타내며, 여기에서 -(CH2)m-부분의 임의의 수소 원자는 한개 이상의 하이드록시 그룹을 치환될 수 있고, B는 일반식 -(CH2)n-, -NR7-(CH2)n- 또는 -CONH-(CH2)n-의 그룹을 나타내며, R1, R2, R3및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 저급알킬, 저급알콕시, 저급알카노일, 니트로, 하이드록시, 저급알킬설포닐옥시, 펜옥시메틸, 헤테로사이클릭 그룹 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R5및 R6은 각각 독립적으로 수소, 저급알카노일, 저급알킬 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R9는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 저급알킬, 저급알카노일아미노 또는 저급알킬아미노를 나타내고, R8a및 R8b는 동일한 할로겐 또는 저급알콕시를 나타내거나, R8a가 수소인 경우에 R8b는 저급알킬설포닐아미노 또는 할로겐을 나타내며, 단 R8a가 수소이고, R8b가 저급알킬설포닐아미노인 경우에 R1은 일반식의 그룹 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, R은 저급알킬 또는 아릴 그룹을 나타내고, R7은 수소 또는 저급알킬을 나타내며, X는 일반식의 그룹, 니트로, 시아노 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 여기에서 R10및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 저급알킬설포닐을 나타내며, m은 0 내지 3의 정수를 나타내고, n은 0 내지 3의 정수를 나타내며, L은 반응성 이탈그룹이다.
  15. 약제학적으로 허용되는 담체와 함께 적어도 하나의 제1항 내지 8항중의 어느 한항에 따르는 일반식 (I)의 화합물 또는 그의 염을 활성성분으로 함유함을 특징으로 하는 항부정맥제 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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