KR960002609B1 - 마그네틱 헤드용 코어의 제조방법 - Google Patents

마그네틱 헤드용 코어의 제조방법 Download PDF

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닛뽕 가이시 가부시끼가이샤
고하라 도시히또
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Abstract

내용 없음.

Description

마그네틱 헤드용 코어의 제조방법
제1도는 본 발명의 실시에 사용되는 장치의 일실시예의 개략도.
제2도는 알칼리금속 수산화물 수용액에 알루민산염 이온을 발생시키는 첨가제를 첨가하지 않은 경우와 첨가한 경우의 페라이트코어 트랙폭과 센더스트코어 트랙폭의 차이를 나타내는 그래프.
제3도는 알루민산염 이온을 발생시키는 첨가제량과 페라이트코어 트랙폭과 센더스트코어 트랙폭의 차이의 관계를 나타내는 그래프.
제4도는 본 발명의 제조방법에 사용되는 레이저빔의 파우어와 페라이트코어 트랙폭과 센더스트코어 트랙폭의 차이의 관계를 나타내는 그래프.
제5도는 레이저빔의 주사속도와, 페라이트코어 트랙폭과 샌더스트코어 트랙폭의 차이의 관계를 나타내는 그래프.
제6도는 알루민산염 이온을 발생시키는 첨가제량과, 페라이트코어 트랙폭과 센더스트코어 트랙폭의 차이의 관계 및 첨가제량과 갭바아에 형성되는 홈의 에칭깊이의 관계를 나타내는 그래프.
제7도는 알루민산염 이온을 발생시키는 첨가제량과, 페라이트코어 트랙폭과 센더스트코어 트랙폭의 차이의 관계 및 첨가제량과 갭바아의 표면에 형성되는 트랙의 폭의 치수정밀도의 관계를 나타내는 그래프.
제8a 내지 8g도는 또는 VTR 마그네틱 헤드용 페라이트/센더스트 합성코어의 제조에 적용되는 경우의 공정을 나타내는 사시도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : X-Y단 2 : 용기
3 : 시료호울더 4 : 갭바아(gapped bar)
5 : 알칼리금속 수산화물 수용액 6 : 마이크로미터
7 : 석영창 8 : 레이저빔
9 : 레이저원
본 발명은 마그네틱 헤드용 코어의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 열화학적 반응이 레이저빔에 의해 유도되는 레이저 유도에칭에 의해 형성된 트랙을 갖는 마그네틱 헤드용 코어의 제조방법에 관한 것이다.
근래, 플로피 디스크 드라이브(FDD), 리지드(rigid) 마그네틱 디스크 드라이브(RDD), VTR 등과 같은 마그네틱 기록매체는 꾸준히 고밀화되어, 마그네틱 헤드의 트랙폭은 더 높은 정밀도를 가지고서 더욱 좁아져 왔었다. 현재, 트랙폭은 VTR및 FDD에 대해서는 ±2㎛ 이하의 정밀도를, RDD에 대해서는 ±1㎛이하의 정밀도를 요한다.
이러한 자기헤드용 코어의 제조법으로서는, 일본국 특개소 제29,118/76, 212,617/82호 등에 개시되어 있는 트랙부의 공기중 레이저가공법이 알려져 있다. 또한, 일본특허출원 제117,726/80, 260,480/86호 등에는 센더스트 등과 같은 투자율이 높은 합금으로 제조된 마그네틱 헤드용 코어, 또는 페라이트 투자율이 높은 합금으로 구성된 마그네틱 헤드용 합성코어의 트랙을 공기중의 레이저가공법으로 가공되는 것이 개시되어 있다.
그러나 이러한 방법에 따르면, 피가공 재료의 온도가 재료가 용융점 온도이상에 도달하기 때문에 가공 표면에 공정 변형과 균열이 발생하여 마그네틱 헤드의 성질이 저하된다. 또한 열적변형 ; 균열 등과 같은 문제점뿐만 아니라, 용융 및 고체화된 물질 또는 용융 및 분산된 물질이 가공표면 및 그 부근에 고착되는 문제가 발생하여 가공 표면의 거칠기 또는 정밀도가 저하되어, 근래 강하게 요구되는 ±2㎛ 이하의 정밀도로 트랙을 가공할 수 없다.
한편, 일본국 특개소 제60,99585호, 정밀기계 학회 1985 봄 심포지움, 과학강의 논문(발표번호 4040) 그리고 엔지니어링 재료, 33, 번호 14(페이지 57~62)에서는, 마그네틱 헤드 가공과는 다른 분야에서 레이저 빔을 칼륨 수산화물 수용액내로 조사하는 레이저 유도 에칭에 의하여 페라이트, Si3N4, SiC 등과 같은 세라믹을 가공하는 3가지 방법이 개시되어 있다. 그러나 상기 인용문헌에 공개된 방법들은 마그네틱 헤드 가공에 요구되는 고정밀도를 얻을 수 없었다.
본 발명의 목적은 전술한 종래방법의 결점, 특히 마그네틱 헤드를 가공할때 마그네틱 헤드를 구성하는 센더스트가 부식되는 결점을 해소하고, 트랙폭을 레어저유도 에칭법을 고정밀도로 가공하여 고도의 신뢰도를 가진 마그네틱 헤드용 코어의 제조방법을 제공하는데 있다.
본 발명에 의하면, 페라이트와 센더스트로 제작되는 자기헤드용 합성코어의 트랙폭을 레이저 가공으로 형성하는 자기헤드용 코어의 제조방법에 있어서, 상기 레이저가공을 알루민산염 이온을 발생하는 첨가제를 첨가한 알칼리금속 수산화물 수용액에서 실시하는 것을 특징으로 하는 자기헤드용 코어의 제조방법이 제공된다.
상기의 방법에서, 레이저빔이 수용액에 알루민산염 이온을 발생하는 첨가제를 첨가한 알칼리금속 수산화물 수용액에 침전된, 코일선회구멍과 자기갭을 갖는 갭바아(gapped bar)의 표면에 조사되기 때문에, 바아를 구성하는 센더스트가 부식되지 않아 페라이트 트랙부의 트랙폭과 센더스트 트랙부의 트랙폭의 차이가 작은 고정밀트랙을 바아의 표면에 형성할 수 있다.
갭바아에 형성되어 트랙폭을 형성하는 홀의 치수정밀도에 대해서는 ±2㎛ 이하, 바람직하게는 ±1㎛ 이하를 요구하고 있다. 또한 페라이트 트랙부의 트랙폭과 센더스트 트랙부의 트랙폭의 차이를 2㎛ 이하, 바람직하게는 1㎛ 이하로 요구하고 있다.
본 발명의 방법에 사용되는 레이저유도 에칭법에서, 알칼리금속 수산화물 수용액은 갭바아의 표면을 에칭하여 홈을 만드는 에칭액의 기능을 한다. 페라이트와 센더스트의 주성분인 이온은 고온의 알칼리금속 수산화물 수용액에서 적절히 에칭된다.
그러나, 센더스트의 성분중 하나인 알루미늄은 알칼리금속 수산화물 수용액에서 과도하게 에칭된다. 그러므로, 페라이트와 센더스트로 제작된 갭바아를 알칼리금속 수산화물 수용액에서 에칭하면 갭바아를 구성하는 센더스트가 갭바아를 구성하는 페라이트보다 더 깊게 에칭된다. 따라서, 페라이트와 센더스트로 구성된 갭바아를 알칼리금속 수산화물 수용액에서 에칭할때, 갭바아를 구성하는 센더스트가 갭바아를 구성하는 페라이트보다 더 깊게 에칭된다. 따라서, 트랙센더스트코어 트랙폭이 트랙페라이트코어의 트랙폭보다 더 작아져 트랙의 치수정밀도가 저하하고 전술한 트랙요건도 달성될 수 없다. 본 발명에 따른 방법에서는, 알칼리금속 수산화물 수용액에서 알루민산염 이온을 발생하는 첨가제를 상기 수용액에 첨가하여 센더스트에 포함된 알루미늄이 과도하게 에칭되는 것을 방지함을 특징으로 한다. 그러므로, 본 발명에 의하면, 트랙페라이트코어와 트랙센더스트 트랙의 트랙폭 차이는 ±2㎛ 이하로 만들어질 수 있다.
알칼리금속수산화물 수용액에서 알루민산염 이온을 발생시키기 위해 알칼리금속 수산화물 수용액에 첨가되는 첨가제로서는, 알루미늄, 수산화알루미늄, 질산알루미눔, 염화알루미늄, 황산알루미늄, 알루민산나트륨, 황산칼륨알루미늄, 황산나트륨알루미늄이 있다. 센더스트에 함유되어 있는 알루미늄의 과도한 에칭을 방지하는 효과는 전술한 첨가제중 1종 이상을 첨가하여 달성되는 것이다.
이하 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
[ (1) 장치의 구조 ]
제1도는 본 발명을 실시하는데 이용되는 장치의 실시예이다. 이 실시예에서 X-Y단 (1)위에 용기(2)가 배치되어 있다. 용기(2)에는 시료 호울더(3)와 가공될 갭바아(4)가 배열된다. 용기(2)는 수산화칼륨, 수산화나트륨 등의 알칼리금속 수산화물 수용액(5)으로 채워지며, 상기 수용액(5)에는 알루민산염 이온을 발생하는 첨가제가 첨가된다. 갭바아(4) 이상의 수용액(5)의 수면 높이는 마이크로미터(6)에 의해 위치가 조정되는 석영창(7)으로 조절된다. 수요액(5)의 수면높이를 너무 낮게 설정하면 수용액의 유량이 감소하여 수용액을 급격히 가열하기 때문에 기포가 발생하기 쉽다. 그러므로, 에칭깊이가 나빠져 치수정밀도가 저하된다. 수용액의 수면 높이를 200㎛ 이상으로 설정하면 그러한 영향은 거의 없다. 그러나 수면높이를 너무 높게 설정하면 레이저빔이 수용액을 통과하는 동안 레이저빔의 광량(光量)이 감소하여 에칭깊이가 나빠지거나 수용액이 상하향으로 유동하여 대류된다. 수용액이 대류되는 경우에는 에칭부에서 나오는 폐기물이나 기포가 대류에 의해 상승하여 레이저빔을 산란시키기 때문에 에칭깊이와 치수정밀도가 저하된다. 그러므로, 수용액의 수면높이는 최소한 200㎛, 바람직하게는 300~10,000㎛로 설정하는 것이 좋다.
또한, 석영창(7)는 수면높이를 조절하고 수면의 출렁거림을 방지하여 치수정밀도를 향상시키는 기능을 하다. 레이저빔(8)은 레이저원(9)에서 방출하여 렌즈시스템(10)과 석영창(7)을 통해 갭바아(4)에 조사된다. 그런다음 X-Y단 (1)을 이동시키면 소정패턴의 에칭이 실시된다.
[ (2) 에칭조건의 결정 ]
제2도의 그래프는 첨가제를 첨가하지 않는 농도 25중량%의 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛, 레이저파우어 80mW 및 주사속도 10㎛/sec의 레이저빔으로 갭바아를 에칭한 경우에 형성되는 페라이트코어 트랙과 센더스트코어 트랙의 트랙폭 차이와 첨가제로서 질산알루미늄 : 5중량%, 황산알루미늄 : 5중량%, 알루민산나트륨 : 5중량%, 황산칼륨알루미늄 : 5중량% 또는 염화알루미늄 : 5중량%를 첨가한 농도 25중량%의 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛, 레이저파우어 80mW 및 주사속도 10㎛/sec의 레이저빔으로 갭바아를 에칭한 경우에 형성되는 페라이트코어 트랙과 센더스트코어 트랙의 여러 트랙폭 차이를 나타내고 있다.
제2도로부터, 수용액에서 첨가제가 첨가되지 않는 경우는 트랙폭 차이가 3㎛ 이상인 반면 첨가제중 어느하나를 수용액에 첨가한 경우는 트랙폭 차이가 2㎛ 이하, 특히 첨가제로서 염화알루미늄을 첨가했을때 트랙폭 차이가 1㎛ 이하임을 알수 있다.
제3도의 그래프는 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛, 레이저파우어 90mW 및 주사속도 10㎛/sec의 레이저 빔으로 첨가제로서 염화알루미늄의 첨가량을 변화시켜가면서 갭바아를 에칭한 경우의 여러 트랙폭 차이를 나타내고 있다. 제3도에서 ○ 표시선은 농도 20중량%의 수산화칼륨 수용액에 첨가한 염화알루미늄량과 트랙폭 차이의 관계를 나타내고, □표시선은 농도 25중량%의 수산화칼륨 수용액에 첨가한 염화알루미늄량과 트랙폭 차이의 관계를 나타내고, △표시선은 농도 30%의 수산화칼륨 수용액에 첨가한 염화알루미늄량과 트랙폭 차이의 관계를 나타낸다.
제3도로부터, 트랙폭 차이는 수용액에 첨가되는 첨가제량의 증가에 비례하여 점점 작아지면 이러한 경향은 수용액의 농도가 변하는 경우에서도 일어나는 것을 알 수 있다. 또한 첨가량을 일정하게 하면 트랙폭 차이는 수용액 농도의 감소에 비례하여 점점 작아지는 것으로 판명되었다.
전술한 바와 같이, 트랙폭 차이의 첨가되는 첨가제량의 증가에 따라 점점 작아지나 수용액의 농도에 의존한다. 그러므로, 바람직한 첨가제량의 범위는 수용액의 범위는 수용액의 농도에 따라 변한다.
예를들면, 0.5중량%의 첨가제를 첨가한 농도 20중량%의 수산화칼륨 수용액에서 갭바아의 표면에 1㎛ 이하의 트랙폭 차이가 얻어질 수 있다. 그러나, 0.5중량%의 처가제를 첨가한 경우의 농도 30중량%의 수산화칼륨 수용액에서는 1㎛ 이하의 트랙폭 차이가 갭바아의 표면에 얻어질 수 없다. 한편, 농도 20중량% 또는 25%중량의 수용액에 4중량%의 첨가제를 첨가한 경우 갭바아의 트랙폭 차이는 1㎛ 이하가 된다.
그러나, 수용액에 4중량%의 첨가제를 첨가한 경우의 농도 30중량%의 수용액에서는 그러한 갭바아를 얻을 수 없다. 또한, 첨가제량을 9중량%로 증가시킨 경우 20중량%, 5중량% 및 30중량%의 수용액에서 트랙폭 차이가 1㎛ 이하인 갭바아를 얻을 수 있다.
그러므로, 소정의 트랙폭 차이를 갖는 갭바아를 얻기 위한 첨가제의 적량은 알칼리금속 수산화물 수용액의 농도를 고려하여 선택하여야 한다. 즉, 첨가제로서 염화알루미늄이 첨가된 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛, 레이저파우어 90mW 및 주사속도 10㎛/sec의 레이저빔으로 갭바아를 에칭할 경우, 첨가되는 염화알루미늄량의 적정범위는 농도 20중량%의 수산화칼륨 수용액의 경우 0.5중량%, 농도 25중량%의 수산화칼륨 수용액의 경우 2중량%, 그리고 농도 30중량%의 수산화칼륨 수용액의 경우 6.5중량%이다.
제4도의 그래프는 갭바아의 표면에 조사되는 레이저빔의 레이저파우어을 변화시킨 경우 갭바아의 표면에 형성되는 여러 트랙폭 차이를 나타낸다. 알루민산염 이온을 발생시키는 첨가제로서 6중량%의 수산화칼륨을 첨가한 농도 25중량%의 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛와 주사속도 10㎛/sec 의 레이저빔으로 갭바아를 에칭한다. 제4도로부터 트랙폭 차이는 레이저빔의 레이저파우어의 증가에 따라 점점 커짐을 알 수 있다.
또한, 트랙폭 차이는 갭바아의 표면에 조사되는 레이저빔의 레이저파우어에 의존한다. 예를들면, 수용액, 첨가제, 레이저빔의 직경 및 주사속도를 기준으로한 상기의 조건하에서, 레이저파우어가 85mW일때 트랙폭 차이가 1㎛ 이하인 갭바아를 얻을 수 있으나, 95mW일때는 그러한 트랙폭 차이를 얻을 수 없다. 그러므로, 알칼리금속 수산화물 수용액에 첨가되는 첨가제량은 갭바아의 표면에 조사되는 레이저빔의 레이저파우어를 고려하여 결정하여야 한다.
제5도의 그래프는 알루민산염 이온을 발생시키는 첨가제로서 9중량%의 염화알루미늄을 첨의한 농도 25중량%의 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛와 레이저 파우어 85mW는 그대로 두고 레이저빔의 주사속도를 변화시킨 레이저빔으로 갭바아를 에칭한 경우의 여러 트랙폭 차이를 나타내고 있다. 제5도로부터, 트랙폭 차이는 레이저 빔의 주사속도의 증가에 따라 점점 작아짐을 알 수 있다.
그러므로, 첨가제량의 적정 범위를 갭바아의 표면에 조사되는 레이저빔의 주사속도에 따라 변화한다. 예를들면, 주사속도가 15㎛/sec일때 트랙폭 차이가 0.5㎛ 이하인 갭바아를 얻을 수 있으나, 주사속도가 10㎛/sec일때는 그러한 갭바아를 얻을 수 없다. 그러므로, 소정의 트랙폭 차이를 갖는 갭바아를 얻기 위한 첨가제의 적량은 알칼리금속 수산화물 수용액의 농도. 갭바아의 표면에 조사되는 레이저빔의 레이저 파우어는 물론 레이저빔의 주사속도도 고려하여 결정하여야 한다.
제3도에 도시한 바와 같이, 첨가제량이 많을수록 센더스트에 포함된 알루미늄의 에칭이 덜 된다. 즉, 갭바아의 표면에 형성된 트래폭의 차이는 알칼리금속 수산화물 수용액에 첨가되는 첨가제량의 증가에 따라 점점 작아진다. 그러나, 첨가제를 수용액에 너무 많이 첨가하면 페라이트코어의 에칭도 역시 억제되기 때문에 소정의 에칭 깊이를 얻을 수 없는 동시에 갭바아의 표면에 형성된 홈이 치수정밀도가 저하된다. 따라서, 첨가제의 적량은 소정의 트랙폭 차이, 에칭깊이 및 치수정밀도를 고려하여 결정하여야 한다.
제6도의 그래프는 알루민산염 이온을 발생시키는 첨가제로서 질산알루미늄을 그 첨가량을 변화시키면서 농도 29중량%의 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛, 레이저파우어 80mW 및 주사속도 10㎛/sec의 레이저빔으로 갭바아를 에칭한 경우의 여러 트랙폭 차이와 에칭깊이를 나타내고 있다. 제6도에서, ○표시선은 첨가제량과 트랙폭 차이를 나타내고, △ 표시선은 첨가제량과 홈의 에칭깊이의 관계를 나타낸다.
제6도로부터, 트랙폭 차이는 첨가제량이 어떤 지점까지 증가하기는 점점 작아지나 그 지점을 초과한 후에는 트랙폭 차이의 변화는 일정함을 알 수 있다. 또한, 에칭 깊이는 첨가제량이 어떤 지점까지 증가할때까지는 일정하나 그 지점을 초과한 후에는 첨가제량의 증가에 따라 낮아진다.
전술한 바와 같이, 트랙폭 차이와 에칭깊이는 알칼리금속 수산화물 수용액에 첨가되는 첨가제량의 변동, 즉 첨가제의 적량이 소정의 트랙폭 차이와 홈의 에칭깊이에 따라 변화함에 따라 변화된다.
예를들면, 수용액에 1.4중량%의 첨가제를 첨가한 경우 5㎛ 이상의 에칭깊이를 얻을 수 있으나 2㎛ 이하의 트랙폭 차이를 얻을 수 없다. 4.1중량%의 첨가제를 첨가한 경우 5㎛ 이상의 에칭깊이와 2㎛ 이하의 트랙폭깊이를 얻을 수 있다. 6.7중량%의 첨가제를 첨가한 경우 5㎛ 이상의 에칭깊이와 1㎛ 이하의 트랙폭 차이를 얻을 수 있다. 10중량%의 첨가제를 첨가한 경우 1㎛ 이하의 트랙폭 차이는 얻을 수 있으나 5㎛ 이상의 에칭깊이는 얻을 수 없다.
첨가제로서 질산알루미늄을 첨가한 농도 29중량%의 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛, 레이저파우어 80mW 및 주사속도 10㎛/sec의 레이저빔으로 갭바아를 에칭할 경우, 2㎛의 트랙폭 차이 및 5㎛의 에칭 깊이를 얻기 위한 첨가제적정 범위는 2~9중량%이고, 1㎛의 트랙폭 차이 및 5㎛의 에칭깊이를 얻기위한 첨가제량의 적정범위는 6.5~9중량%이다.
제7도의 그래프는 알루민산염 이온을 발생시키는 첨가제로서 질산알루미늄을 첨가한 농도 23중량%의 수산화칼륨 수용액에서 빔직경 4㎛, 레이저파우어 80mW 및 주사속도 10㎛/sec의 레이저빔으로 갭바아를 에칭한 경우 페라이트코어의 트랙부의 여러 치수정밀도와 트랙폭 차이를 나타내고 있다. 제7도에서, ○표시선은 첨가제량과 트랙폭 차이의 관계를 나타내고, △표시선은 첨가제량과 치수정밀도의 관계를 나타낸다.
제7도로부터, 트랙폭 차이는 첨가제량이 어느 지점까지 중가하기까지는 점점 작아지나, 첨가제량이 그 지점을 초과하여 수용액에 첨가되면 트랙폭 차이의 변동은 일정하게 된다.
또한, 페라이트코어의 트랙의 치수정밀도는 첨가제량이 어느 지점까지 증가하기까지는 일정하지만, 첨가제량이 그지점을 초과하여 수용액에 첨가되면 저하된다. 이와같이, 페라이트코어 트랙의 트랙폭 차이와 치수정밀도가 수용액에 첨가되는 첨가제량의 변동에 따라 변화하기 때문에 첨가제의 적량은 페라이트코어 트랙의 소정의 트랙폭 차이와 치수정밀도에 따라 변화된다.
예를들면 1.5중량%의 첨가제로 수용액에 첨가하는 경우, 페라이트코어 트랙의 치수정밀도 ±1㎛ 가 얻어지나, 트랙폭 차이 1㎛ 이하는 얻어지지 않는다. 4.4중량%으 첨가제를 첨가하는 경우 페라이트코어 트랙의 치수정밀도 ±1㎛ 이하와 트랙폭 차이 1㎛ 이하가 얻어진다. 7.1중량%의 첨가제를 첨가하는 경우 페라이트코어 트랙의 치수정밀도 ±1㎛ 이하와 트랙폭 차이 0.5㎛ 이하가 얻어진다. 9.7중량%의 첨가제를 첨가하는 경우 페라이트코어 트랙의 트랙폭 차이는 0.5㎛ 이하이나 치수정밀도 ±1㎛ 이하의 얻어지지 않는다.
즉, 첨가제로서 질산알루미늄을 첨가한 농도 23중량%의 수산화칼륨 용액에서 갭바아를 에칭하는 경우, 페라이트코어 트랙이 트랙폭 차이 1.5㎛ 이하 및 치수정밀도±1.5㎛의 갭바아를 얻기 위한 첨가제의 적량은 1.5~10중량%이고, 트랙폭 차이 1㎛ 이하 및 치수정밀도 ±1㎛ 이하의 갭바아를 얻기 위한 첨가제의 적량을 4~7중량%이다.
제3 내지 7도에 도시된 바와 같이, 알루민산염 이온을 발생시키기 위한 첨가제의 적량은 알칼리금속 수산화물 수용액의 농도, 레이저빔의 레이저파우어 및 주사속도, 페라이트코어 트랙의 소정의 트랙폭 차이, 에칭깊이 및 치수정밀도에 따라 변화된다.
따라서, 첨가제량의 범위는 페라이트코어 트랙의 소정의 트랙폭 차이, 에칭깊이 및 치수정밀도에 따라 첨가제의 종류, 수용액의 농도, 레이저빔의 레이저파우더, 주사속도 및 빔직경을 총제적으로 고려하여 결정하여야 한다.
[ (3) 마그네틱 헤드용 코어의 제조 ]
제8a 내지 8g도는 VTR 마그네틱 헤드용 코어의 제조에 본 발명에 적용된 경우의 공정을 나타내는 흐름도이다. 시초 단계인 제8a도에 도시된 바와 같이, 페라이트바아(11a)와 코일권선구멍(12)을 가진 페라이트 바아(11b)를 준비한다.
각 바아(11a,11b)의 마주보는 면(13,13)에 제8b도와 같이 두께 5㎛의 센더스트로 만든 막(14)을 형성한다. 또 페라이트 바아(11a)의 막(14)에 제8c도와 같이 소정의 갭길이와 같은 두께로 SiO2층 같은 비자성층(15)을 형성한다.
그후 이들 바아(11a,11b)를 제8d도와 같이 유리 접착제로 서로 접착시켜 마그네틱갭(15)을 형성한다. 그런다음 상기 준비된 갭바아(4)를 제1도의 장치에 설치하고, 레이저파우어 150mW, 주사속도 10㎛/sec, 집광된 레이저빔 직경 4㎛, 농도 25중량%의 수산화칼륨 수용액, 첨가제로서의 염화알루미늄 농도 8중량%, 수면높이 500㎛의 조건하에서 제8e도와 같이 갭바아(4)에 트랙폭(13)을 형성하는 다수의 홈(16)을 가공한다.
그후 제8f도와같이 가공된 홈(16)에 유리(17)을 넣고 소정의 치수로 연마한다. 최종적으로 가공된 갭바아에서 소정의 폭을 갖는 코어을 절단한다. 이와 같이하여 제8g도에 도시된 VTR 마그네켁 헤드용 코어(18)를 얻는다.
이렇게 얻은 마그네틱 헤드용 코어(18)는 미세크랙 또는 고체화된 용융물질의 부착이 없고 센더스트코어의 트랙폭과 페라이트코어의 트랙폭의 차이가 아주 작은 고정밀트랙이 형성되므로 품질이 매우 우수하다.
또한, 본 발명은 VTR 마그네틱 헤드용 코어의 제조방법에 극한하지 않고, RDD, FDD등의 여러 마그네틱 헤드용 코어에도 적절히 적용될 수 있다. 또 본 발명은 트랙의 가공에 국한하지 않고 코일권선 구멍의 가공, 공기 지지면의 가공 등 페라이트재료, 센더스트재료 및 페라이트와 센더스트의 복합 재료의 여러 공정에도 적절히 이용될 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 제조방법에 의하면 알루민산 염이온을 발생시키기 위한 소정량의 첨가제를 첨가한 소정농도의 알칼리금속 수산화물 수용액에서 소정의 레이저빔을 소정의 주사속도로 조사함으로써 센더스트의 부식없이 고도의 정밀도로 갭바아에 폭이 좁은 트랙을 형성할 수 있으므로, 품질이 우수한 마그네틱 헤드용 코어를 제조할 수 있다.

Claims (3)

  1. 페라이트와 센더스트로 구성되는 마그네틱 헤드용 합성 코어의 트랙폭을 레이저 가공으로 형성하는 제조방법에 있어서, 알루미늄산염 이온을 발생시키기 위한 첨가제중 1종 이상을 첨가한 알칼리금속 수산화물 수용액에서 레이저유도에칭으로 가공하는 것을 특징으로 하는 마그네틱 헤드용 합성 코어의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 알칼리금속 수산화물 수용액은 수산화칼륨 수용액인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 첨가제는 알루미늄, 수산화 알루미늄, 질산알루미늄, 염화알루미늄, 황산알루미늄, 알루민산나트륨, 황산칼륨알루미늄 및 황산나트륨알루미늄인 것을 특징으로 하는 제조방법.
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5588152A (en) * 1990-11-13 1996-12-24 International Business Machines Corporation Advanced parallel processor including advanced support hardware
US5963746A (en) * 1990-11-13 1999-10-05 International Business Machines Corporation Fully distributed processing memory element
EP0485690B1 (en) * 1990-11-13 1999-05-26 International Business Machines Corporation Parallel associative processor system
US5630162A (en) * 1990-11-13 1997-05-13 International Business Machines Corporation Array processor dotted communication network based on H-DOTs
US5794059A (en) * 1990-11-13 1998-08-11 International Business Machines Corporation N-dimensional modified hypercube
US5713037A (en) * 1990-11-13 1998-01-27 International Business Machines Corporation Slide bus communication functions for SIMD/MIMD array processor
US5765015A (en) * 1990-11-13 1998-06-09 International Business Machines Corporation Slide network for an array processor
US5590345A (en) * 1990-11-13 1996-12-31 International Business Machines Corporation Advanced parallel array processor(APAP)
US5625836A (en) * 1990-11-13 1997-04-29 International Business Machines Corporation SIMD/MIMD processing memory element (PME)
US5815723A (en) * 1990-11-13 1998-09-29 International Business Machines Corporation Picket autonomy on a SIMD machine
US5734921A (en) * 1990-11-13 1998-03-31 International Business Machines Corporation Advanced parallel array processor computer package
US5617577A (en) * 1990-11-13 1997-04-01 International Business Machines Corporation Advanced parallel array processor I/O connection
US5828894A (en) * 1990-11-13 1998-10-27 International Business Machines Corporation Array processor having grouping of SIMD pickets
US5765012A (en) * 1990-11-13 1998-06-09 International Business Machines Corporation Controller for a SIMD/MIMD array having an instruction sequencer utilizing a canned routine library
US5966528A (en) * 1990-11-13 1999-10-12 International Business Machines Corporation SIMD/MIMD array processor with vector processing
US5963745A (en) * 1990-11-13 1999-10-05 International Business Machines Corporation APAP I/O programmable router
US5765011A (en) * 1990-11-13 1998-06-09 International Business Machines Corporation Parallel processing system having a synchronous SIMD processing with processing elements emulating SIMD operation using individual instruction streams
US5809292A (en) * 1990-11-13 1998-09-15 International Business Machines Corporation Floating point for simid array machine
JP2642039B2 (ja) * 1992-05-22 1997-08-20 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション アレイ・プロセッサ
US5413672A (en) * 1992-07-22 1995-05-09 Ngk Insulators, Ltd. Method of etching sendust and method of pattern-etching sendust and chromium films
US7271209B2 (en) 2002-08-12 2007-09-18 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Fibers and nonwovens from plasticized polyolefin compositions
US8003725B2 (en) 2002-08-12 2011-08-23 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Plasticized hetero-phase polyolefin blends
US7998579B2 (en) 2002-08-12 2011-08-16 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Polypropylene based fibers and nonwovens
US7531594B2 (en) 2002-08-12 2009-05-12 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Articles from plasticized polyolefin compositions
US8192813B2 (en) 2003-08-12 2012-06-05 Exxonmobil Chemical Patents, Inc. Crosslinked polyethylene articles and processes to produce same
US8389615B2 (en) 2004-12-17 2013-03-05 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Elastomeric compositions comprising vinylaromatic block copolymer, polypropylene, plastomer, and low molecular weight polyolefin
US8513347B2 (en) 2005-07-15 2013-08-20 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Elastomeric compositions
US9452495B1 (en) * 2011-07-08 2016-09-27 Sixpoint Materials, Inc. Laser slicer of crystal ingots and a method of slicing gallium nitride ingots using a laser slicer

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2869267A (en) * 1957-02-28 1959-01-20 Turco Products Inc Method of etching aluminum and aluminum alloys
US3356550A (en) * 1964-03-16 1967-12-05 Boeing Co Chemical milling of aluminum alloys
US3300349A (en) * 1964-04-15 1967-01-24 Boeing Co Chemical milling process and related solutions for aluminum
US3475241A (en) * 1966-02-08 1969-10-28 Aluminum Co Of America Process of making aluminum printing plates
JPS61260408A (ja) * 1985-05-14 1986-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気ヘッドのトラック加工方法
SU1320260A1 (ru) * 1986-02-05 1987-06-30 Ворошиловградский машиностроительный институт Раствор дл химической обработки деталей из алюминиевых сплавов
US4751779A (en) * 1986-04-02 1988-06-21 Ds Scanner Co., Ltd. Method of producing a core for magnetic head
DE3751551T2 (de) * 1986-08-08 1996-05-30 Quantum Corp Lithographisches Verfahren unter Anwendung von Laser zur Herstellung von elektronischen Elementen und ähnlichen.
JPS63270483A (ja) * 1987-04-27 1988-11-08 Nec Corp 薄膜除去方法
JPH0719347B2 (ja) * 1988-09-24 1995-03-06 日本碍子株式会社 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法
US4982065A (en) * 1989-03-07 1991-01-01 Ngk Insulators, Ltd. Method of producing a core for magnetic head

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0731780B2 (ja) 1995-04-10
DE69024288T2 (de) 1996-07-11
DE69024288D1 (de) 1996-02-01
EP0416939B1 (en) 1995-12-20
KR910006918A (ko) 1991-04-30
US5041189A (en) 1991-08-20
EP0416939A2 (en) 1991-03-13
EP0416939A3 (en) 1992-08-12
JPH0395709A (ja) 1991-04-22

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