KR950029214A - 마이크로렌즈 제조방법 - Google Patents

마이크로렌즈 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR950029214A
KR950029214A KR1019940008860A KR19940008860A KR950029214A KR 950029214 A KR950029214 A KR 950029214A KR 1019940008860 A KR1019940008860 A KR 1019940008860A KR 19940008860 A KR19940008860 A KR 19940008860A KR 950029214 A KR950029214 A KR 950029214A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
microlens
substrate
forming
mask layer
layer
Prior art date
Application number
KR1019940008860A
Other languages
English (en)
Other versions
KR0140631B1 (ko
Inventor
심진섭
Original Assignee
문정환
금성일렉트론 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 문정환, 금성일렉트론 주식회사 filed Critical 문정환
Priority to KR1019940008860A priority Critical patent/KR0140631B1/ko
Publication of KR950029214A publication Critical patent/KR950029214A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0140631B1 publication Critical patent/KR0140631B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
    • H01L27/14685—Process for coatings or optical elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures
    • H01L27/14601—Structural or functional details thereof
    • H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
    • H01L27/14627—Microlenses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

본 발명은 마이크로렌즈 제조방법에 관한 것으로, 마이크로렌즈의 구면수차를 줄여 양호한 포커싱이 가능하도록 하기 위한 것이다.본 발명은 기판상에 구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정과, 상기 마이크로렌즈 상부에 마스크층을 형성하는 공정, 전면 비등방성식각을 행하는 공정, 상기 마스크층을 제거하여 비구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정으로 이루어진 마이크로렌즈 제조방법을 제공한다.

Description

마이크로렌즈 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래기술에 의한 반도체기판에 형성되는 CCD의 마이크로렌즈 제조방법을 도시한 도면, 제2도 종래기술에 의한 유리기판에 형성되는 CCD의 마이크로렌즈 제조방법을 도시한 도면, 제3도는 본 발명의 마이크로렌즈 제조방법을 도시한 도면, 제4도는 본 발명의 일실시예를 도시한 도면, 제5도는 본 발명의 다른 실시예를 도시한 도면.

Claims (8)

  1. 기판상에 구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정과, 상기 마이크로렌즈 상부에 마스크층을 형성하는 공정, 전면 비등방성식각을 행하는 공정, 상기 마스크층을 제거하여 비구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판은 반도체기판인 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 구면 형태의 마이크로렌즈는 기판상에 감광막을 도포한 후 이를 선택적으로 노광 및 현상한 다음 리플로우공정을 행하여 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 마스크층은 기판 상부에 감광막을 도포한 후, 이를 선택적으로 노광 및 현상하는공정에 의해 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 기판이 고체촬상소자의 상부코팅층인 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 상부코팅층은 상기 구면 형태의 마이크로렌즈층의 굴절율과 같거나 낮은 굴절율을 갖는 물질로 이루어진 것임을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
  7. 기판상에 구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정과, 상기 마이크로렌즈 상부에 마스크층을 형성하는 공정, 전면 비등방성식각을 행하는 공정, 상기 마스크층을 제거하는 공정, 상기 구면 형태의 마이크로렌즈층과 기판과의 식각선택비가 1 : 1이 되는 공정조건으로 상기 마이크로렌즈 및 기판을 전면 건식식각하여 비구면 형태를 갖는 마이크로렌즈를 형성하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 기판은 유리기판임을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019940008860A 1994-04-26 1994-04-26 마이크로렌즈 제조방법 KR0140631B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940008860A KR0140631B1 (ko) 1994-04-26 1994-04-26 마이크로렌즈 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940008860A KR0140631B1 (ko) 1994-04-26 1994-04-26 마이크로렌즈 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR950029214A true KR950029214A (ko) 1995-11-22
KR0140631B1 KR0140631B1 (ko) 1998-06-01

Family

ID=19381775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940008860A KR0140631B1 (ko) 1994-04-26 1994-04-26 마이크로렌즈 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0140631B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100731126B1 (ko) * 2005-12-28 2007-06-22 동부일렉트로닉스 주식회사 이미지 센서 및 이의 제조 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100731126B1 (ko) * 2005-12-28 2007-06-22 동부일렉트로닉스 주식회사 이미지 센서 및 이의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR0140631B1 (ko) 1998-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940020508A (ko) 반도체 칩 범프의 제조방법
US20100123817A1 (en) Optical element and manufacture method thereof
KR920013740A (ko) 고체촬상장치 및 그 제조방법
KR900005565A (ko) 개선된 패턴 형성방법
KR840006728A (ko) 집적회로 제조방법
KR950029214A (ko) 마이크로렌즈 제조방법
JPS5852820A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS5992567A (ja) 固体撮像素子用微小集光レンズの製造方法
KR970013393A (ko) 고체촬상소자 및 그의 제조방법
KR940016864A (ko) 고체 촬상소자 제조방법
JPS60166949A (ja) フオトマスク
JPH0474471A (ja) マイクロレンズの作製方法
JP2006337956A (ja) マイクロレンズアレイの製造方法
JPH04216553A (ja) 半導体製造用マスク
KR960039415A (ko) 고체촬상소자의 마이크로렌즈 제조방법
KR980006453A (ko) 고체 촬상소자의 구조 및 제조방법
JPH0412567A (ja) 固体撮像素子のマイクロレンズ製造方法
KR930008951A (ko) 렌즈형 마스크 제조방법
KR940015540A (ko) 고체 촬상 소자 제조 방법
KR100419971B1 (ko) 반도체소자 제조시의 패턴 형성을 위한 마스크 및 그 제조방법
JPH0899368A (ja) マイクロレンズアレイの製造方法
JPH1168075A (ja) 固体撮像装置およびその製造方法
JPH04165301A (ja) マイクロレンズおよびその製造方法
JPH03230511A (ja) パターンの形成方法
KR100935762B1 (ko) Ｃｍｏｓ이미지 센서의 마이크로 렌즈 형성용 마스크 및상기 마스크를 이용한 마이크로 렌즈 형성 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130227

Year of fee payment: 16

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140227

Year of fee payment: 17

EXPY Expiration of term