KR950029214A - 마이크로렌즈 제조방법 - Google Patents
마이크로렌즈 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR950029214A KR950029214A KR1019940008860A KR19940008860A KR950029214A KR 950029214 A KR950029214 A KR 950029214A KR 1019940008860 A KR1019940008860 A KR 1019940008860A KR 19940008860 A KR19940008860 A KR 19940008860A KR 950029214 A KR950029214 A KR 950029214A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- microlens
- substrate
- forming
- mask layer
- layer
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 7
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 abstract 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
- H01L27/14685—Process for coatings or optical elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
- H01L27/14627—Microlenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
본 발명은 마이크로렌즈 제조방법에 관한 것으로, 마이크로렌즈의 구면수차를 줄여 양호한 포커싱이 가능하도록 하기 위한 것이다.본 발명은 기판상에 구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정과, 상기 마이크로렌즈 상부에 마스크층을 형성하는 공정, 전면 비등방성식각을 행하는 공정, 상기 마스크층을 제거하여 비구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정으로 이루어진 마이크로렌즈 제조방법을 제공한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래기술에 의한 반도체기판에 형성되는 CCD의 마이크로렌즈 제조방법을 도시한 도면, 제2도 종래기술에 의한 유리기판에 형성되는 CCD의 마이크로렌즈 제조방법을 도시한 도면, 제3도는 본 발명의 마이크로렌즈 제조방법을 도시한 도면, 제4도는 본 발명의 일실시예를 도시한 도면, 제5도는 본 발명의 다른 실시예를 도시한 도면.
Claims (8)
- 기판상에 구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정과, 상기 마이크로렌즈 상부에 마스크층을 형성하는 공정, 전면 비등방성식각을 행하는 공정, 상기 마스크층을 제거하여 비구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 기판은 반도체기판인 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 구면 형태의 마이크로렌즈는 기판상에 감광막을 도포한 후 이를 선택적으로 노광 및 현상한 다음 리플로우공정을 행하여 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 마스크층은 기판 상부에 감광막을 도포한 후, 이를 선택적으로 노광 및 현상하는공정에 의해 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 기판이 고체촬상소자의 상부코팅층인 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
- 제5항에 있어서, 상기 상부코팅층은 상기 구면 형태의 마이크로렌즈층의 굴절율과 같거나 낮은 굴절율을 갖는 물질로 이루어진 것임을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
- 기판상에 구면 형태의 마이크로렌즈를 형성하는 공정과, 상기 마이크로렌즈 상부에 마스크층을 형성하는 공정, 전면 비등방성식각을 행하는 공정, 상기 마스크층을 제거하는 공정, 상기 구면 형태의 마이크로렌즈층과 기판과의 식각선택비가 1 : 1이 되는 공정조건으로 상기 마이크로렌즈 및 기판을 전면 건식식각하여 비구면 형태를 갖는 마이크로렌즈를 형성하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 기판은 유리기판임을 특징으로 하는 마이크로렌즈 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940008860A KR0140631B1 (ko) | 1994-04-26 | 1994-04-26 | 마이크로렌즈 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940008860A KR0140631B1 (ko) | 1994-04-26 | 1994-04-26 | 마이크로렌즈 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR950029214A true KR950029214A (ko) | 1995-11-22 |
KR0140631B1 KR0140631B1 (ko) | 1998-06-01 |
Family
ID=19381775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019940008860A KR0140631B1 (ko) | 1994-04-26 | 1994-04-26 | 마이크로렌즈 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0140631B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100731126B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2007-06-22 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 이미지 센서 및 이의 제조 방법 |
-
1994
- 1994-04-26 KR KR1019940008860A patent/KR0140631B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100731126B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2007-06-22 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 이미지 센서 및 이의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR0140631B1 (ko) | 1998-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR940020508A (ko) | 반도체 칩 범프의 제조방법 | |
US20100123817A1 (en) | Optical element and manufacture method thereof | |
KR920013740A (ko) | 고체촬상장치 및 그 제조방법 | |
KR900005565A (ko) | 개선된 패턴 형성방법 | |
KR840006728A (ko) | 집적회로 제조방법 | |
KR950029214A (ko) | 마이크로렌즈 제조방법 | |
JPS5852820A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS5992567A (ja) | 固体撮像素子用微小集光レンズの製造方法 | |
KR970013393A (ko) | 고체촬상소자 및 그의 제조방법 | |
KR940016864A (ko) | 고체 촬상소자 제조방법 | |
JPS60166949A (ja) | フオトマスク | |
JPH0474471A (ja) | マイクロレンズの作製方法 | |
JP2006337956A (ja) | マイクロレンズアレイの製造方法 | |
JPH04216553A (ja) | 半導体製造用マスク | |
KR960039415A (ko) | 고체촬상소자의 마이크로렌즈 제조방법 | |
KR980006453A (ko) | 고체 촬상소자의 구조 및 제조방법 | |
JPH0412567A (ja) | 固体撮像素子のマイクロレンズ製造方法 | |
KR930008951A (ko) | 렌즈형 마스크 제조방법 | |
KR940015540A (ko) | 고체 촬상 소자 제조 방법 | |
KR100419971B1 (ko) | 반도체소자 제조시의 패턴 형성을 위한 마스크 및 그 제조방법 | |
JPH0899368A (ja) | マイクロレンズアレイの製造方法 | |
JPH1168075A (ja) | 固体撮像装置およびその製造方法 | |
JPH04165301A (ja) | マイクロレンズおよびその製造方法 | |
JPH03230511A (ja) | パターンの形成方法 | |
KR100935762B1 (ko) | Cmos이미지 센서의 마이크로 렌즈 형성용 마스크 및상기 마스크를 이용한 마이크로 렌즈 형성 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130227 Year of fee payment: 16 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140227 Year of fee payment: 17 |
|
EXPY | Expiration of term |