KR950006800B1 - 디하이드로벤젠-1, 4-유도체 - Google Patents

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사토 도모코
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Abstract

내용 없음.

Description

디하이드로벤젠-1, 4-유도체
제1도는 참고예에서 얻어진 4-펜틸사이클로헥세논의 적외선흡수스펙트럼이며,
제2도는 참고예 2에서 얻어진 4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥세논의 적외선 흡수스펙트럼이며,
제3도는 4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥세논의 이성체의 하나의 NMR스펙트럼을 나타내는 도면이며,
제4도는 4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥세논의 다른 이성체의 NMR스펙트럼을 나타내는 도면이다.
본 발명은 액정화합물에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 액정표시재료로서 유용한 액정화합물 및 이것을 함유하는 액정조성물 및 이 액정조성물을 이용한 액정표시장치에 관한 것이다.
액정의 전기광학효과를 이용한 액정표시장치는 시계, 전탁을 위시하여 워드프로세서, 텔레비젼등에 널리 이용되고 있다. 이 액정표시장치는 특허 액정물질의 광학적 이방성 및 유전이방성을 이용한 TN형(비틀림(torsion)네마틱형) 액정장치가 많이 사용되고 있다.
현재, 실용에 적합한 액정표시장치에 요구되는 특성에는 다음과 같은 것을 들 수 있다.
(1) 넓은 액정표시범위를 가지고 있을 것.
(2) 점성이 낮을 것.
액정셀의 응답특성은 점성과 깊은 관계가 있는 것이 명백하다. 결국 빠른 응답속도를 얻기 위하여는 저점성의 재료를 사용하지 않으면 안된다.
(3) 굴절율이방성(Δn)이 광학적특성에 합치하지 않으면 안된다.
액정표시의 시각특성 및 콘트라스트의 표시품질은 Δn에 관계하는 것이 크며, 고콘트라스트, 高視野角을 얻기위하여 적당히 Δn을 조정하지 않으면 안된다.
(4) 유전이방성(Δε)이 판넬구동방식에 합치하지 않으면 안된다.
예를들면 TN방식에서는 낮은 구동전압을 얻기 위하여는 Δε가 큰 것이 아니면 안된다.
(5) 화학적, 광학적 안정한 것일 것.
이상과 같은 각 특성을 전부 만족하는 단일의 액정화합물은 지금까지 발견되지 않고, 수종의 여러 특성을 가진 액정화합물 또는 비액정화합물을 혼합한 액정조성물을 사용하여 실용에 제공되고 있는 것이 현실이다.
종래, 액정화합물은 그 코아부(CORE 部)에 존재하는 화합물에 의하여 분류되어 있으며, 예를 들면, 코아에 벤젠을 가지는 화합물, 코아에 사이클로헥산을 가지는 화합물, 코아에 사이클로헥센을 가지는 화합물 코아에 피리미딘을 가지는 화합물, 코아에 디옥산을 가지는 화합물, 및 코아에 이들의 복수의 기를 가지는 화합물 등 수많은 화합물이 개발되어 사용되고 있으나, 이들을 조합하여 사용하여도 상기의 특성을 충분히 만족할 수 있는 것은 없고 더욱 새로운 액정화합물의 제공이 요구되어 왔다.
본 발명자들은 우수한 성질을 가지는 액정화합물을 얻기 위하여 많은 화합물을 합성하여, 그 액정특성을 널리 검토한 결과, 코아부분에 디하이드로벤젠을 가지는 화합물이 상기 요구에 만족되는 액정성분으로서 우수한 것임을 발견하여 본 발명을 완성하였다.
즉 본 발명의 제일의 목적은 다음 일반식(I)
[식중 -A는 1,4-디하이드로페닐렌을 나타내며, R은 수소원자, 알킬기 또는 트랜스-4-알킬사이클로헥실기를 나타내며, Z는 수소원자 또는 불소원자를 나타내며, Z가 수소원자인 때, X 및 Y는 각각 수소원자 또는 할로겐원자를 나타내며, R'는 수소원자, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기, 트리플루오로메톡시기, 시아노기, 알킬기 또는 불소원자를 나타내며, Z가 불소원자인 때에는, X는 수소원자, Y는 불소원자를 나타내며, R'는 수소원자, 시아노기, X는 수소원자, Y는 불소원자를 나타내며, R'는 수소원자, 시아노기, 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 -COO-B-R″기(여기에서 B는 할로겐원자로 치환되어도 좋은 1,4-페닐렌 또는 1,4-사이클로헥실렌기를 나타내며, R″는 시아노기, 할로겐원자, 알킬기 또는 알콕시기를 나타낸다)를 나타낸다.]로 표시되는 디하이드로벤젠-1,4-유도체를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 제2의 목적은 상기 디하이드로벤젠-1,4-유도체(I)를 함유하는 액정조성물을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 또다른 목적은 디하이드로벤젠-1,4-유도체(I)를 함유하는 액정조성물을 복수의 상대향(相對向)하는 셀중에 끼워넣어서 된 액정표시장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 디하이드로벤젠-1,4-유도체(I)에 있어서 R 및 R'의 알킬기중 바람직한 것은 탄소수 1-10의 알칼기이며, 또한, R', X 및 Y의 할록원자로서는 불소원자, 염소원자, 취소원자 등이다.
본 발명의 디하이드로벤젠-1,4-유도체(I)는 예를들면 다음에 방법에 따라 제조할 수 있다.
화합물(I)중, Z가 수소원자의 경우와 Z가 불소원자의 경우의 R'가 수소원자 또는 할로겐원자인 화합물[화합물(Ia)]는 예를들면 다음의 방법에 따라, 먼저 P-치환사이클로헥세논(II)에 그리나드시약(III)을 반응시켜서 1-하이드록시-4-치환사이클로헥센유도체(IV)로 한후, 이어서 이것을 탈수반응시켜서 합성한다.
(식중, A,R,R',X,Y 및 Z는 전술한 바와 같으며, 점선은 그 한편에 결합이 존재하는 이중결합이며 다른편은 결합이 존재하지 않는 단일결합인 것을 나타낸다.)
화합물(II)와 화합물(III)의 반응은 예를 들면 무수에테르, 테트라하이드로퓨란등의 에테르계 용매중, 통상의 그리나드반응의 조건에서 행할 수 있다.
반응종료 후, 반응혼합물의 염산, 포화 염화암모니움수용액 등을 가하여 가수분해하고 계속하여 반응생성물을 디에틸에테르 등으로 추출한 후, 수세, 건조, 용매제거 등으로 화합물(IV)이 얻어진다.
이와 같이하여 얻어진 화합물(IV)은 다시 톨루엔과 같은 불활성 용매 중에서 p-톨루엔설폰산 등에 의하여 탈수반응시키고, 이 반응생성물을 수세, 건조 후 용매를 감압제거하여, 예를들면 메탄올 등과 같은 극성 용매를 사용하여 재결정하는 등의 정제수단을 거쳐서 본 발명의 화합물(I)을 제조할 수 있다.
상기 방법의 출발원료인 화합물(II)는 신규화합물이며, 예를들면 다음과 같은 반응식에 따라서 모노케탈사이클로헥사논(V)에 그리나드시약(VI)을 작용시켜서 얻어진 화합물(VII)을 탈수반응시켜 4-치환사이클로헥세논케탈(VIII)로 하고, 다시 이 케탈을 분해하는 것에 의하여 제조할 수 있다.
(식중 R 및 점선은 전술한 바와 같다.)
더욱이, 화합물(VI)중, R이 알킬기인 것은 알킬브로마이드로부터 유도할 수 있으며, R이 트랜스-4-알킬사이클로헥실기인 것은 트랜스-4-알킬사이클로헥실브로마이드를 얻고 이로부터 화합물(VI)을 얻을 수가 있다.
화합물(V)와 화합물(VI)의 반응은 예를들면 무수 에테르, 테트라하이드로퓨란 등의 에테르계 용매 중에서 실시한다.
화합물(VII)는 이 반응혼합물을 포화 염화암모니움 등으로 가수분해한 가수분해 생성물을 예를들면 디에틸에테르 등의 용매로 추출하고 수세, 건조후 추출액으로 부터 용매를 제거하여 제조할 수 있다.
또한, 화합물(VIII)은 상기와 같이 얻어진 화합물(VII)에 예를들면 톨루엔 등과 같은 불활성 용매중 예를들면 유화수소칼륨 등을 작용시켜서 탈수하고 계속하여 탈수생성물을 수세, 건조 후 용매를 감압제거하여 얻어진다.
이와같이 하여 얻어진 화합물(VIII)은 벤젠, 톨루엔 등의 불활성용매중 염산, 황산, 플루오로초산 등의 강산으로 가수분해하고 계속하여 수세, 건조후 용매를 제거하고 다시 증류, 재결정 등의 관용의 수단으로 정제하여 화합물(II)를 얻을 수 있다.
더욱이, 화합물(II)와 함께 다음의 식(II')
(식중, R″는 수소 이외의 기인 R로부터 수소원자를 1개 제거한 것이다.)로 표시되는 화합물이 부산물로서 생성하나, 이것도 본 발명의 화합물제조의 원료로 되기 때문에 분리, 제거할 필요가 없다.
다음에 화합물(I)중, Z가 불소원자의 경우에는 R'가 카르복실기인 화합물[화합물(Ib)]은 다음의 식에 따라, 화합물(Ia)와 n-부틸리튬과 반응시켜서 화합물(X)를 합성하고, 이후에 화합물(IX)와 고형탄산을 반응시키는 것에 의하여 제조할 수 있다.
(식중, R 및 A는 전술한 바와 같다.)
이 반응은 예를들면 테트라하이드로퓨란 등의 에테르계 용매 중, 화합물(Ia)에 n-부틸리튬의 헥산용액을 가하고 계속하여 고형탄산을 가하고, 다시 묽은 염산수용액을 가하고, 수세, 건조 후 용매를 감압제거하고, 재결정 등의 수단으로 정제하여 제조할 수 있다.
다음에 화합물(I)중, Z가 불소원자의 경우에는 R'가 사이노기인 화합물[화합물(Ic)]는 다음의 식에 따라, 화합물(Ib)에 티오닐클로라이드, 암모니아, 티오닐클로라이드를 이 순서로 반응시키는 것에 의하여 상당하는 벤조일클로라이드 및 벤즈아마이드를 경유하여 제조할 수 있다.
(식중, R 및 A는 전술한 바와 같다.)
이 반응은 화합물(Ib)를 티오닐클로라이드에 용해시켜서 환류한 후, 티오닐클로라이드를 감압제거하고 다음에 암모니아수를 가하여 석출하는 결정을 취하고 이것을 재결정 등으로 정제하여 벤즈아마이드를 얻는다. 다음에 이것을 티오닐클로라이드에 용해시키고 환휴한 후 티오닐클로라이드를 감압제거하고, 재결정등의 방법으로 정제하여 제조할 수 있다.
다음에 화합물(I)중, Z가 불소원자의 경우는 R'가 알칼기인 화합물[화합물(Id)]를 다음식에 따라, 화합물(IX)에 칼리움 t-부톡사이드와 요드화알킬을 작용시켜서 제조할 수 있다.
(식중, R1은 알킬기를 나타내며, R 및 A는 전술한 바와 같다.)
이 반응은 예를들면 테트라하이드로퓨란 등의 에테르계 용매 중에서 화합물(IX)에 칼리움 t-부톡사이드와 요드화알킬을 가하고 반응종료 후, 반응생성물을 묽은 염산수용액 및 포화아황산수소나트륨 수용액을 가하고, 다시 포화탄산나트륨 수용액으로 세정하고 수세, 건조후 용매를 감압제거하여 재결정 등으로 정제하는 방법으로 제조할 수 있다.
다음에 화합물(I)중, Z가 불소원자의 경우는 R'이 알콕시기인 화합물[화합물(Ie)]는 다음식에 따라, 먼저 화합물(Ib)에 황산, 질화나트륨을 반응시켜서 화합물(X)를 합성한다. 다음에 이 화합물(X)에 황산 아질산나트륨을 반응시켜서 디아조니움염(XI)으로 하고, 다시 가수분해하고, 그 후에 알킬브로마이드(XII)를 반응시켜서 제조한다.
(식중, R4은 알킬기를 나타내며, R 및 A는 전술한 바와 같다.)
다음에 화합물(I)중, Z가 불소원자의 경우는 R'이 -COO-B-R″기인 화합물[화합물(If)]는 다음식에 따라서, 화합물(Ib)에 식(VIII)로 표시되는 4-치환페놀유도체 또는 4-치환사이클로헥세놀을 작용시켜서 에스테르화하는 것에 의하여 제조할 수 있다.
(식중, R, R″, A 및 B는 전술한 바와 같다.)
4-치환페놀유도체의 예로서는, 4-알킬페놀, 4-시나오페놀, 4-플루오로페놀, 4-알콕시페놀, 3-플루오로-4-시아노페놀, 3-클로로-4-시아노페놀, 3,4-디클로로페놀, 3,5-디플루오로-4-시아노페놀등 또는 4-치환사이클로헥사놀의 예로서는 4-알킬사이클로헥사놀등을 각각 들 수 있다.
화합물(Ib)와 화합물(XIII)의 반응은 예를 들면 염화메틸렌 등의 용매 중에서, N,N-디사이클로헥실카르보디이미드 등의 에스트레화제를 가하여 에스테르화반응을 행하여 반응종료후 석출한 결정을 여과하고 그 모액을 칼럼 등에 의하여 정제하고 용매를 제거하는 것에 의하여 행할 수 있다.
상기와 같이 제조된 본 발명의 화합물(I)에 있어서, A로 표시되는 디하이드로페닐기는 출발원료에 이성체가 존재하고, 또한 반응 도중 또는 반응 후에 있어서 그 2중 결합의 위치가 변하는 것이 있기 때문에, 다음과 같은 이성체의 혼합물로서 얻을 수 있으나 주요한 이성체는 앞의 양자이다.
그러나, 실용산, 액정화합물로서 이들의 혼합물을 사용하는 것은 하등의 문제가 없다. 이들의 이성체는 공지의 분리정제수단, 예를 들면 액체크로마토그라피 등에 의하여 분리하는 것이 가능하다.
다음에, 상기와 같이 하여 얻어진 본 발명의 화합물의 액정으로서의 성질을 다른 액정화합물과 비교한 결과를 표 1에 나타낸다.
(실험액정화합물)
본 발명의 액정 :
1-펜틸-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
비교액정 1 :
1-펜틸-4-(4-플루오로페닐)벤젠
비교액정 2 :
1-펜틸-4-(4-플루오로페닐)사이클로헥산
비교액정 3 :
1-펜틸-4-(4-플루오로페닐)-1-사이클로헥산
본 발명의 액정 2 :
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
비교액정 4 :
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)벤젠
비교액정 5 :
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)-1-사이클로헥산
비교액정 6 :
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)-1-사이클로헥센
본 발명의 액정 3 :
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(3,4-디클로로페닐)디하이드로벤젠
비교액정 7 :
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)벤젠
비교액정 8 :
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)사이클로헥산
비교액정 9 :
1-(4-트랜스-펜틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)-1-사이클로헥센
[표 1]
표 1에 나타난 결과로부터 명백한 바와 같이, 본 발명의 화합물(I)은 공지의 액정화합물에 비하여 네마틱액정온도범위가 넓은 것이기 때문에, TN형 액정조성물의 구성성분으로서 다른 액정물질과 조합하여 유리하게 사용할 수가 있다.
본 발명의 화합물(I)은, 많은 공지의 액정화합물이나 액정조성물과 조합하여 사용할 수도 있으며, 이러한 액정물질 및 조성물의 예로서는 다음의 식으로 표시되는 액정화합물 및 액정조성물을 들 수 있다.
(식중, R은 수소 또는 알킬기를, R'는 알킬, 알콕시, 할로겐 또는 시아노기를, X는 할로겐원자를 나타낸다.)
현재 실용화되어 있는 액정표시장치의 구동전압은, 역치전압 Vth와 깊은 관계가 있으며, 역치전압 Vth는 유전이방성 Δε의 1/2승에 역비례하는 관계에 있는 것은 잘 알려져 있다. 결국, 액정표시장치에는 유전이방성 Δε가 정(正)인 액정조성물이 사용되고 있다.
유전이방성 Δε이 정인 것을 사용하여 액정조성물을 작성하면, 역치전압을 별로 낮추지는 않기 때문에, 유전이방성 Δε이 정인 액정화합물이 얻어지는 것이다.
또한 액정표시장치의 응답속도는 판넬갭(pannel gap) d에 가장 강하게 의존하나, 고속화를 위해서는 액정재료에도 낮은 점성이 요망된다. 전압인가시의 작동시간(t on)과 전압차단시의 정지시간(t off)은
t on=niid2(ε0ΔεV2-Kπ2)-1, t off=niid22K
로 주어진다. 여기에서 K=K11+(K 33-2 K 22)/4로, nii는 점성의 파라메타, Δε는 유전율의 이방성이다. 따라서, 보다 빠른 응답속도의 것을 얻기위한 액정조성물을 구성하기 위하여서는 지점도의 액정화합물이 불가결하게 된다.
또한, 실용화되어 있는 액정조성물은 통상, 실온부근에 액정을 가지는 화합물과 실온보다 높은 온도영역에 액정을 가지는 화합물과를 혼합하여 조정한다. 액정표시 장치가 옥외에서 사용되기 위하여서는 -40도 내지 90도의 온도범위에서 안정하게 존재하지 않으면 안된다.
또한 유전이방성 굴절율이방성의 온도의조성, 결국 N-I점 부근에서는 급격한 변화가 일어나기 때문에, N-I점이 높은 액정재료가 필요하게 된다.
본 발명의 화합물(I)의 페닐코아부분
이 전자흡입인기의 경우, 유전이방성 Δε이 정을 나타낸다.
예를들면, 1-펜틸-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠은 Δε이 정하며, 또한 모노트로픽으로 네마틱相을 나타내며, 저점성이기 때문에 다른 액정혼합물과 혼합하여 저점성의 액정소성물을 얻을 수가 있다.
또한, 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠도 Δε가 정이며, 더욱 74도 내지 159도라는 넓은 액정온도범위를 나타내며, 더욱이 저점성이기 때문에, 다른 액정혼합물과 혼합하여 넓은 온도범위의 저점성액조성물을 얻을 수가 있다.
한편, 페닐코아부분이 전자공여기의 경우, 넓은 액정온도범위를 나타내는 저점성의 화합물을 얻을 수가 있다.
예를들면, 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠은 C-S점(결정-스멕틱相轉移溫度) 60도, S-N점(스메틱상-네마틱相轉移溫度) 118도, N-I점(네마틱상-등방성액체전이온도) 190도 등 상당히 넓은 액정온도범위를 나타내며, 더욱이 저점성이기 때문에, 다른 액정혼합물과 혼합하여 넓은 온도범위의 저점성액정조성물을 얻을 수가 있다.
또한, 본 발명의 화합물(I)은 광범위의 액정물질과의 상호용해성이 큰 것이며, 액정조성물의 구성물질로서 광범위의 액정물질과 조합시켜서 사용되어, 그 성질의 개선에 극히 유용한 것이다.
다음에 실시예와 참고예를 들어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하나, 본 발명은 이들 실시예에 의하여 하등의 제약을 받는 것은 아니며, 본 명세서에서 사용된 온도는 모두 섭씨온도이다.
[참고예 1]
금속마그네슘분말 11.5g에 펜틸브로마이드 60.4g을 무수 에테르 200ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 15-20도에서 적가한다. 실온에서 1시간 반응시켜서 펜틸마그네슘브로마이드를 생성시킨다. 이 생성된 그리나드 시약 중에 1,4-사이클로헥산디온-(2,2-디메틸-1,3-디프로필렌)모노케탈 66g을 교반하면서 -10내지 0도에서 적가한 후, 실온에서 다시 1시간 반응시킨다. 반응 종료 후 포화 염화암모니움 수용액 500ml를 서서히 적가한 후, 디에틸에테르를 추출하였다. 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산소다를 가하여 추출액을 건조시킨다.
이것을 여과하여 여액으로부터 용매를 감압제거하여 4-펜틸-4-하이드록시사이클로헥세논-(2,2-디메틸-1,3-디프로필렌)케탈의 조생성물을 얻는다.
이 생성물을 톨루엔 200ml에 용해시키고 이 용액에 황산수소칼륨 0.7g을 가한후 교반하면서 환류하여 반응에 의하여 생성하는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 23시간 행한 후, 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화탄산나트륨, 포화식염수로 차례로 세정한후 무수 황산나트륨으로 건조시킨 후 톨루엔을 감압제거하였다. 얻어진 반응생성물을 n-헥산으로 재결정하여 결정을 여별시킨 후, 그 모액을 실리카겔칼람을 통하여 정제한 후, n-헥산을 감압제거하여 4-펜틸사이클로헥세논-(2,2-디메틸-1,3-디프로필렌) 케탈 44g을 얻었다.
다음에 이 화합물을 디에틸에테르 40ml에 용해한 후 트리플루오로초산 88ml와 물 8.8ml의 용액 중에 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 다시 2시간 반응시킨다. 반응 종료 후 중성으로 될 때까지 포화탄산나트륨 수용액을 가하고, 디에틸에테르층을 초화식염수로 세정하고, 무수 황산나트륨으로 건조시킨 후 디에틸에테르를 감압제거하고 감압증류로 정제하여 4-펜틸사이클로헥세논 16g을 얻는다. 얻어진 4-펜틸사이클로헥세논의 적외선흡수스펙트럼을 제1도에 나타낸다.
[참고예 2]
3취화인 104g과 48% 취화수소 5滴중에 트랜스-4-펜틸사이클로헥사놀 138g을 10도 이하로 유지하면서 교반하면서 적가한다. 적가종료후 같은 온도에서 1시간 반응시키고, 다시 실온에서 1시간 반응시킨다. 반응 종료 후 물 200ml를 가하고 디에틸에테르로 추출하여, 추출액을 포화 식염수로 세정한후 무수 황산나트륨을 가하고 건조시키고 이것을 여과후 여액으로부터 용매를 감압제거하여 트랜스-4-펜틸사이클로헥실브로마이드를 얻는다.
다음에 참고예 1의 펜틸브로마이드 60.4g을 이 트랜스-4-펜틸헥실브로마이드 91g 대신 가하고 같은 방법으로 처리하여 4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥세논 20g을 얻는다.
얻어진 4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥세논의 적외선흡수스펙트럼을 제2도에 나타낸다.
[실시예 1]
금속마그네슘 분말 1g에 4-플루오로브로모벤젠 6.3g을 무수 에테르 20ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 15 내지 20도에서 적가하고 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드 시약을 생성시켰다. 이 그리나드 시약에 참고예 1에서 얻어진 4-펜틸사이클로헥센 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가하고 실온에서 다시 1시간 반응시켰다. 반응종료후, 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산나트륨을 가하여 건조시키고 다음에 데에틸에테르를 감압증류하여, 4-(4-플루오로페닐)-4-하이드록시-1-펜틸사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 50ml에 용해시키고, 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.1g을 가한후, 교반하면서 환류하고, 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후에 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정하고, 무수 황산나트륨으로 건조한후 톨루엔을 감압유거하였다. 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정하여 1-펜틸-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠 1g을 얻었다.
이 화합물은 모노트로픽 액정으로 융점 20도, I-N점 6도였다.
또한, 이 화합물을 고속액체크로마토그라피에 의하여 분리분취하고 핵자기공명장치(NMR)에 의하여 분석동정한 결과, 2개의 주성분은 다음의 화합물인 것이 확인되었다.
그 NMR 스펙트럼은 제3도 및 제4도에 나타낸다.
[실시예 2]
실시예 1에서 원료의 하나인 4-펜틸사이클로헥세논 5g 대신에 4-헵틸사이클로헥세논 5.9g을 사용한 것 이외에는 전혀 동일한 공정조작에 의하여 1-헵틸-4-(4-플루오로페닐)-디하이드로벤젠 1.5g을 얻었다. 이것의 융점은 29도였다.
다음의 화합물도 실시예 1과 같이 처리하여 제조하였다.
1-메틸-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-에틸-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-부틸-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-노닐-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
[실시예 3]
금속마그네슘 분말 1g에 4-트리플루오로메틸브로모벤젠 8.0g을 무수 에테르 30ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 15 내지 20도에서 적가한 후 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드 시약을 제조하였다. 이 그리나드시약에 4-펜틸사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 1시간 더 교반하였다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출한 후 추출액을 포화식염수로 세정한 후, 무수 황산 나트륨을 가하여 건조시키고 여과한후 디에틸에테르를 감압유거하여 4-(4-트리플루오로메틸페닐)-4-하이드록시-1-펜틸사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 80ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.1g을 가한후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성하는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각시켰다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨, 포화 식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조시킨 후 여과하고 톨루엔을 감압유거하였다.
얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정하여 1-펜틸-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠 1.2g을 얻었다.
이것의 융점은 54도였다.
다음의 화합물도 마찬가지로 처리하여 제조하였다.
1-메틸-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-에틸-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-부틸-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-헵틸-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-노닐-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
[실시예 4]
금속마그네슘 분말 1g에 3,4-디플루오로브로모벤젠 7.1g을 무수 에테르 25ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 15 내지 20도에서 적가하고, 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 4-펜틸사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 1시간 더 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산나트륨을 가하여 건조하고 여과한후 디에틸에테르로 감압유거하여 4-(3,4-디플루오로페닐)-4-하이드록시-1-펜틸사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 70ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.1g을 가한후 교반하면서 환류하여 반응에 의하여 생성하는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후, 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과한후 톨루엔을 감압유거하였다. 얻어진 반응생성물을 증류에 의하여 정제하여 1-펜틸-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠 2g을 얻었다. 이것의 융점은 -31도이다.
[실시예 5]
실시예 4에서의 원료의 하나인 4-펜틸사이클로헥센 5g대신에 4-옥틸사이클로헥센 6.3g을 사용하는 것을 제외하고는 동일하게 처리하여 1-옥틸-4-(3,4-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠 2.2g을 얻었다.
이것의 융점은 6도이다.
다음의 화합물도 실시예 4와 같이 처리하여 제조된다.
1-메틸-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-에틸-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-부틸-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-헵틸-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-노닐-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
[실시예 6]
금속마그네슘 분말 1g에 4-프로필브로모벤젠 7.1g을 무수 에테르 25ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 15 내지 20도에서 적가하고 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성하였다. 이 그리나드시약에 4-펜틸사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 1시간 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후, 무수 황산나트륨을 가하고 건조시킨후 여과하고 디에틸에테르를 감압유거하여 4-4-프로필페닐-4-하이드록시-1-펜틸사이클로헥세논의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 70ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.1g을 가한후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성하는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과하고 톨루엔을 감압유거하였다. 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-펜틸-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠 0.8g을 얻었다.
다음의 화합물들도 마찬가지로 처리하여 제조된다.
1-메틸-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-메틸-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-메틸-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-메틸-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-메틸-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
[실시예 7]
금속마그네슘 분말 1g에 p-브로모아니솔 6.5g을 무수 에테르 20ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 15 내지 20도에서 적가하고 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 4-펜틸사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 1시간 더 교반하여 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하여 건조시키고 여과한 후 디에틸에테르를 감압유거하여 4-(4-메톡시페닐)-4-하이드록시-1-펜틸사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 70ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.1g을 가한후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성하는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수 등으로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조한 후 여과하고 톨루엔을 감압유거하였다. 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정하여 1-펜틸-4-(4-메톡시페닐)디하이드로벤젠 1.2g을 얻었다.
이것의 융점은 55도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-메틸-4-(4-메톡시페닐)디하이드로벤젠
1-메틸-4-(4-부톡시페닐)디하이드로벤젠
1-메틸-4-(4-펜틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-메틸-4-(4-옥틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-메틸-4-(4-데실옥시페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-메톡시페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-부톡시페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-펜틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-옥틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-데실옥시페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-메톡시페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-부톡시페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-펜틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-옥틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-데실옥시페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-메톡시페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-부톡시페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-펜틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-옥틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-데실옥시페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-메톡시페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-부톡시페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-펜틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-옥틸옥시페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-데실옥시페닐)디하이드로벤젠
[실시예 8]
p-디브로모벤젠 8.5g을 무수 에테르 35ml에 용해시키고 이 용액을 금속 마그네슘 분말 1g에 교반하면서 15 내지 20도에서 적가시킨 후 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시키고 이 그리나드시약에 4-펜틸사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 1시간 더 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산나트륨을 가하여 건조시키고 여과한 후 디에틸에테르를 감압 유거하여 4-(4-브로모페닐)-4-하이드록시-1-펜틸사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 80ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.1g을 가한후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성하는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과한 후 톨루엔을 감압 유거하였다. 얻어진 반응생성물을 에탄올에 의하여 재결정하여 1펜틸-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠 1.5g을 얻었다.
이것의 융점은 74도이다.
다음의 화합물들도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-메틸-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-에틸-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-부틸-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-헥틸-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-노닐-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
실시예 8에서 얻어진 1-펜틸-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠 4g을 N,N-디메틸포름아마이드 15ml에 용해시키고 시안화 제1도 1.4g을 가하여 환류온도에서 6시간 반응시킨다. 반응종료후 암모니아수를 가하여 톨루엔으로 추출한다. 추출액을 암모니아수로 세정한 후 포화 식염수로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과한다. 톨루엔을 감압 유거하여 얻어진 반응생성물을 에탄올로 2회 재결정하여 1-펜틸-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠 0.8g을 얻었다. 이것은 네마틱액정으로 C-N 점 34도, N-1 점 52도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-메틸-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-에틸-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-프로필-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-부틸-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-헥실-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-헵틸-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-옥틸-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-노닐-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-데실-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
[실시예 10]
금속마그네슘 분말 0.66g에 4-플루오로브로모벤젠 5.6g을 무수 에테르 22ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가하고 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드 시약을 생성시켰다. 이 그리나드 시약에 참고예 2에서 얻어진 트랜스-4-펜틸사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후, 실온에서 1시간 더 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고, 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 얻어진 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨으로 건조시키고 여과한 후 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 50ml에 용해시키고, 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성하는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과한 후 톨루엔을 감압 유거하였다. 얻어진 반응생성물을 에탄올로 2회 재결정하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠 1.0g을 얻었다.
이것은 네마틱 액정으로, C-N 점은 74도, N-I 점 159도이다.
[실시예 11]
실시예 10에 있어서 원료의 하나인 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 대신에 사이클로헥세논, 트랜스-4-에틸사이클로헥세논, 트랜스-4-프로필사이클로헥실사이크로헥세논, 트랜스-4-부틸사이클로헥실사이클로헥세논을 사용하는 것을 제외하고는 전혀 동일한 공정조작에 의하여 각각 1-사이클로헥실-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠(융점 78도), 네마틱 액정인 1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠(C-N 점 78도, N-I점 129도), 네마틱 액정인 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠(C-N점 80도, N-I점 160도), 네마틱 액정인 1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠(C-N점 88도, N-I점 156도)를 얻었다.
다음의 화합물은 동일하게 처리하여 제조한다.
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)디하이드로벤젠
[실시예 12]
금속마그네슘 분말 0.66g에 3, 4-디플루오로브로모벤젠 6.0g을 무수 에테르 25ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가하고 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 1시간 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고, 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 건조하고 여과하여 디에틸에테르를 감압유거하여 1-트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 60ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성하는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨, 포화식염수로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과한 후 톨루엔을 감압 유거하였다. 얻어진 반응생성물을 에탄올로 2회 재결정하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠 1.2g을 얻었다.
이것은 네마틱 액정으로, C-N 점은 34도, N-I 점 121도이다.
[실시예 13]
실시예 12에서의 원료의 하나인 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 대신에 트랜스-4-에틸사이클로헥실사이클로헥세논, 트랜스-4-프로필사이클로헥실사이클로헥세논, 트랜스-4-부틸사이클로헥실사이클로헥세논을 사용하는 것을 제외하고는 전혀 동일하게 공정조작을 행하여 네마틱액정인 1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠(C-N점 32도, N-I점 67도), 네마틱액정인 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4,3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠(C-N점 16도, N-I점 103도), 네마틱액정인 1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠(C-N점 29도, N-I점 106도)를 얻는다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠
[실시예 14]
금속마그네슘 분말 0.66g에 4-프로필브로모벤젠 6.1g을 무수 에테르 25ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가하고 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성하였다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 다시 1시간 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하고 건조한 후 여과한다. 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-플루오로페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 60ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하고 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조한 후 여과하고 감압 유거하여 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-프로필페닐)디하이드로벤젠 1.3g을 얻었다.
이것은 액정으로, C-S 점은 60도, S-N점 118도, N-I점 190도이다.
다음의 화합물도 실시예 14와 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-데실페닐)디하이드로벤젠
[실시예 15]
금속마그네슘 분말 0.66g에 4-브로모아니솔 5.8g을 무수 에테르 30ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가한 후 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 다시 1시간 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 여과한다. 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-메톡시페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 60ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하고 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과한다. 톨루엔층을 감압 유거하여 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-메톡시페닐)디하이드로벤젠 1.0g을 얻었다.
이것은 액정으로, C-S 점은 84도, S-N점 109도, N-I점 190도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-메톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-부톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-펜틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-옥틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-데실옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-메톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-부톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-펜틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-옥틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-데실옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-메톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-부톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-펜틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-옥틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-데실옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-메톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-부톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-펜틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-옥틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-데실옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-메톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-부톡시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-펜틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-옥틸옥시페닐)다이하드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-데실옥시페닐)다이하드로벤젠
[실시예 16]
금속마그네슘 분말 0.66g에 4-트리플루오로메틸 브로모벤젠 6.9g을 무수 에테르 30ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가한 후 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 다시 1시간 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하고 건조시킨 후 여과한다. 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 80ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각한다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조시킨 후 여과하고 톨루엔을 감압 유거하였다. 얻어진 생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠 1.4g을 얻었다.
이것은 네마틱 액정으로, C-N 점 100도, N-I점 133도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메틸페닐)디하이드로벤젠
[실시예 17]
금속마그네슘 분말 0.66g에 p-디브로모벤젠 7.2g을 무수 에테르 40ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가하고 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 다시 1시간 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하고 건조시킨 후 여과한 후 디에틸에테르로 감압유거하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 90ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고, 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각한다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조시킨 후 여과한다. 톨루엔을 감압 유거하여, 얻어진 생성물을 에탄올로 재결정하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠 1.6g을 얻었다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠
[실시예 18]
실시예 17에서 얻어진 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-브로모페닐)디하이드로벤젠 7g을 N,N-디메틸포름아마이드 20ml에 용해시키고 시안화제 1동 2.0g을 가하고 환류온도에서 6시간 반응시킨다. 반응종료후 암모니아수를 가하여 톨루엔으로 추출한다. 추출액을 암모니아수로 세정한 후 포화 식염수로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조시킨 후 여과하고 톨루엔을 감압유거하고 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠 0.7g을 얻었다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-시아노페닐)디하이드로벤젠
[실시예 19]
금속마그네슘 분말 0.66g에 3-플루오로-4-클로로브로모벤젠 6.7g을 무수 에테르 30ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가시키고 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 -10 내지 0도에서 트랜스-4-프로필사이클로헥실사이클로헥세논 4.8g을 교반하면서 적가하고 실온에서 다시 1시간 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하여 건조하고 여과한 후 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 80ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하고 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조시킨 후 여과한다. 톨루엔을 감압 유거하여 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠 1.5g을 얻었다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)디하이드로벤젠
[실시예 20]
금속마그네슘 분말 0.66g에 브모로벤젠 5.0g을 무수 에테르 20ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가한 후 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가하고 실온에서 다시 1시간 반응시킨다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 이 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 여과한 후 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-페닐-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 50ml에 용해시키고, 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하고 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과한다. 톨루엔을 감압 유거하여 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠 1.1g을 얻었다.
이것은 액정으로 C-S점 57도, S-N점 76도, N-I점 106도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-페닐-디하이드로벤젠
[실시예 21]
금속마그네슘 분말 0.66g에 4-트리플루오로메토시브로모벤젠 7.7g을 무수 에테르 20ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가한 후 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 다시 1시간 반응시킨다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 이 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하여 건조시키고 여과한다. 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 70ml에 용해시키고, 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각한다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조하고 여과한다. 톨루엔을 감압 유거하여 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠 1.4g을 얻었다.
이것은 액정으로 C-S점 37도, S-N점 102도, N-I점 138도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(4-트리플루오로메톡시페닐)-디하이드로벤젠
[실시예 22]
금속마그네슘 분말 0.66g에 2,3-디플루오로브로모벤젠 6.0g을 무수 에테르 25ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가한 후 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-프로필사이클로헥실사이클로헥세논 4.5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가하고 실온에서 다시 1시간 반응시킨다. 반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 이 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하여 건조시키고 여과한다. 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-4-하이드록시-사이클로헥센의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 60ml에 용해시키고, 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성하는 물은 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각한다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조시키고 여과한 후 톨루엔을 감압 유거하였다. 얻어진 반응생성물을 에탄올로 재결정시켜서 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠 1.1g을 얻었다.
이것은 네마틱 액정으로 C-N점 26도, N-I점 57도이다.
[실시예 23]
실시예 22에 있어서 원료의 하나인 트랜스-4-프로필사이클로헥실사이클로헥세논 대신에 트랜스-4-부틸사이클로헥실사이클로헥세논을 사용하는 것 이외에는 전혀 동일하게 공정조작을 행하여, C-N점 -1도, N-I점 24도의 네마틱액정, 1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠을 얻었다.
다음의 화합물도 실시예 22와 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠
[실시예 24]
실시예 23에서 얻어진 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로페닐)-디하이드로벤젠 2.8g을 무수 테트라하이드로푸란 30ml에 용해시키고 -70도로 냉각시키고 n-부틸리튬의 헥산용액(1.5몰/L) 6ml을 적가한다. 적가종료후 -50도에서 다시 5시간 반응시켜서 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플로오로-4-리튬페닐)-디하이드로벤젠을 생성시켰다. 이 생성물을 -70도로 냉각하고 여기에 칼륨 t-부톡사이드, 1.0g의 무수 테트라하이드로푸란 15ml 용액을 교반하면서 1시간에 걸쳐서 적가한다.
적가종료후 같은 온도에서 10분간 교반하고 다음에 요도에탄 1.52g의 무수 테트라하이드로푸란 5ml 용액을 교반하면서 적가한다. 적가종료후 교반하면서 실온까지 승온시켜서 반응시킨다. 반응종료후 묽은 염산을 서서히 적가하고, 다음에 디에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화 아황산나트륨 수용액, 포화 탄산나트륨, 포화 식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 건조시키고 여과한다. 여액으로부터 용매를 감압유거하여, 초산에틸과 에탄올의 혼합용매로 재결정하여 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-에틸페닐)-디하이드로벤젠 2.0g을 얻었다.
이것은 액정으로 C-S점 0도, S-N점 53도, N-I점 99도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-데실페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-메틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-부틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-펜틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-옥틸페닐)디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-4-(2,3-디플루오로-4-데실페닐)디하이드로벤젠
[실시예 25]
금속마그네슘 분말 4.5g에 3,5-디플루오로브로모벤젠 30.1g을 무수 에테르 90ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 15 내지 20도에서 적가하고 실온에서 1시간 반응시켜서 3,5-디플루오로마그네슘브로모벤젠(그리나드시약)을 생성시켰다. 이 그리나드시약중에 4-펜틸사이클로헥세논 20g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후 실온에서 다시 1시간 반응시킨다. 반응종료후 묽은 염산을 서서히 적가한 후 디에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 여과한 후 여액에서 용매를 감압유거하여 1-(1-하이드록시-4-펜틸사이클로헥세닐)-3,5-디플루오로벤젠의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 250ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.5g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성하는 물은 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 30분간 행한후 반응혼합물을 냉각하고 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨으로 가하여 건조한 후 여과하고 톨루엔을 감압 유거하고 정제하여 1-(4-펜틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로벤젠 24g을 얻었다.
이것의 융점은 -31도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(4-메틸디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(4-에틸디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(4-프로필디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(4-부틸디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(4-헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(4-헵틸디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(4-옥틸디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(4-노닐디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(4-데실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
[실시예 26]
실시예 25에 있어서 원료의 하나인 4-펜틸사이클로헥세논 20g 대신에 트랜스-4-펜틸사이클로헥실사이클로헥세논 30g을 사용하는 것을 제외하고는 전혀 동일한 공정조작에 의하여 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로벤젠 31g을 얻었다.
이것은 네마틱 액정으로 C-N점 36도, N-I점 75도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-노닐사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
1-(트랜스-4-데실사이클로헥실디하이드로페닐)-3,5-디하이드로벤젠
[실시예 27]
실시예 25에서 얻어진 1-(4-펜틸디하이드로페닐)-3,5-플루오로벤젤 10.5g을 무수 테트라하이들푸란 40ml에 용해시키고, -70도로 냉각하고, n-부틸리튬의 헥산용액(1.5몰/L) 27ml을 적가한다. 적가종료후 -50도에서 다시 5시간 반응시켜서 1-(4-펜틸디하이드로페닐)-3,5-디플로오로-4-리튬페닐을 생성시켰다. 이 생성물을 -70도로 냉각하고 고형 탄산 2g을 가하여 교반하면서 실온까지 승온시켜서 반응시킨다. 반응종료후 묽은 염산을 서서히 적가한 후 에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화 식염수로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 가하여 건조시키고 여과한 후 여액에서 용매를 감압유거하여 얻어진 반응생성물을 초산에틸과 톨루엔으로 재결정시켜서 4-(4-펜틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산 9.5g을 얻는다.
이것의 융점은 65도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
4-(4-메틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
4-(4-에틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
4-(4-프로필디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
4-(4-부틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
4-(4-헥실디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
4-(4-헵틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
4-(4-노닐디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
4-(4-데실디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산
[실시예 28]
실시예 27에서 얻어진 4-(4-펜틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산 3.7g과 4-시아노페놀 1.19g을 염화메틸렌 20ml에 용해시키고 여기에 N,N-디사이클로헥실카보디이미드 2.47g을 가하고 실온에서 3시간 교반한다. 반응종료후 석출한 결정을 여과하고 그 모액을 실리카겔 컬럼에 통하여 정제시킨 후 염화메틸렌을 감압유거하여 4-(4-펜틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐) 3.5g을 얻었다.
이것은 네마틱 액정으로 C-N점 81도, N-I점 176도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
4-(4-메틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
4-(4-에틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
4-(4-프로필디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
4-(4-부틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
4-(4-헥실디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
4-(4-헵틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
4-(4-노닐디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
4-(4-데실디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-시아노페닐)
[실시예 29]
실시예 28에 있어서 원료의 하나인 4-시아노페놀 1.19g 대신에 4-플루오로페놀 1.14g을 사용한 것을 제외하고는 전혀 동일한 공정조작에 의하여 4-(4-펜틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐) 3.2g을 얻었다.
이것은 네마틱 액정으로 C-N점 64도, N-I점 100도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
4-(4-메틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
4-(4-에틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
4-(4-프로필디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
4-(4-부틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
4-(4-헥실디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
4-(4-헵틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
4-(4-노닐디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
4-(4-데실디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산-1-(4-플루오로페닐)
[실시예 30]
실시예 25에서 얻어진 1-(4-펜틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로벤젠 3.4g을 무수 테트라하이드로푸란 40ml에 용해시키고 -70도로 냉각하고 여기에 n-부틸리튬의 헥산용액(1.5몰/L) 6.7ml를 적가한다. 적가종료후 -50도에서 다시 5시간 반응시켜서 1-(4-펜틸)-사이클로헥세닐)-3,5-디플루오로-4-리튬벤젠을 생성시켰다. 이 생성물을 -70도로 냉각하고 칼륨-t-부톡사이드 1.1g의 무수 테트라하이드로푸란 20ml의 용액을 교반하면서 1시간에 걸쳐서 적가한다. 적가종료후 같은 온도에서 10분간 교반하고, 계속하여 요드헥산 1.71g의 무수 테트라하이드로푸란 5ml 용액을 교반하면서 적가한다. 적가종료후 교반하면서 실온까지 승온시켜서 반응시킨다. 반응종료후 묽은 염산을 서서히 적가한 후 디에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화 아황산나트륨 수용액, 포화 탄산나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조시키고 여과한 여액에서 용매를 감압유거하고 초산에틸과 에탄올의 혼합용매로 재결정시켜서 1-(4-펜틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-헥실벤젠 3.5g을 얻었다.
이것의 융점은 35도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
4-(4-메틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
4-(4-메틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
4-(4-메틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
4-(4-메틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
4-(4-메틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
4-(4-프로필디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
4-(4-프로필디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
4-(4-프로필디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
4-(4-프로필디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
4-(4-프로필디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
4-(4-헥실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
4-(4-헥실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
4-(4-헥실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
4-(4-헥실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
4-(4-헥실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
4-(4-데실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
4-(4-데실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
4-(4-데실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
4-(4-데실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
4-(4-데실디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
[실시예 31]
실시예 27에서 얻어진 4-(4-펜틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산 2.8g을 염화티오닐 20ml에 용해시키고 교반하면서 2시간 환류시켰다. 그후, 염화티오닐을 감압유거하고 암모니아수를 가해 10도에서 30분간 실온에서 잠깐동안 교반하였다. 반응종료 후 석출한 결정을 여과하고 초산에틸과 에탄올의 혼합용매로부터 재결정하여 4-(4-펜틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로안식향산 아마이드를 얻었다. 이것을 염화티오닐 15ml에 용해하고 교반하면서 2시간 환류하였다. 그후 염화티오닐을 감압유거하고, 초산에틸과 에탄올의 혼합용매로부터 재결정하여 4-(4-펜틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠 1g을 얻었다.
이것은 융점이 59도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
4-(4-메틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
4-(4-에틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
4-(4-프로필디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
4-(4-부틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
4-(4-헥실디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
4-(4-헵틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
4-(4-옥틸디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
4-(4-노닐디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
4-(4-데실디하이드로페닐)-2,6-디플루오로시아노벤젠
[실시예 32]
실시예 26에서 얻어진 1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실 디하이드로페닐)-3,5-디플루오로벤젠 3.4g을 무수테트라하이드푸란 15ml에 용해하고 이 용액을 -70도로 냉각하고 n-부틸리튬의 헥산용액(1.5몰/L) 6.7ml를 적가한다. 적가종료후 -50도에서 다시 5분간 반응시켜서 1-(4-트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-리튬벤젠을 생성시켰다. 이 생성물을 -70도로 냉각하고 여기에 칼륨-t-부톡사이드 1.1g의 무수 테트라하이드로푸란 10ml 용액을 교반하면서 1시간에 걸쳐서 적가한다. 적가종료후 같은 온도에서 10분간 교반하고, 계속해서 요드에탄 1.71g의 무수 테트라하이드로푸란 10ml 용액을 교반하면서 적가한다. 적가종료후 교반하면서 실온까지 승온시켜 반응시킨다.
반응종료후 묽은 염산을 서서히 적가한 후, 데에틸에테르로 추출하였다. 추출액을 포화 아황산나트륨 수용액, 포화 탄산나트륨 수용액 및 포화 식염수로 차례로 세정하고 무수 황산나트륨을 가하여 건조시킨 후 여과하고 여액에서 용매를 감압유거하고, 초산에틸과 에탄올의 혼합용매로 재결정시켜서 1-(4-트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-에틸벤젠 2.8g을 얻었다.
이것은 액정으로 C-N점 32도, S-N점 78도, N-I점 102도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(4-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-헥실벤젠
1-(4-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
1-(4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
1-(4-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
1-(4-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
1-(4-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-메틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-부틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-펜틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-옥틸벤젠
1-(4-(트랜스-4-데실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,5-디플루오로-4-데실벤젠
[실시예 33]
금속마그네슘 분말 0.66g에 3,4,5-트리플루오로브로모벤젠 6.4g을 무수 에테르 30ml에 용해한 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가한 후, 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 트랜스-4-부틸사이클로헥실사이클로헥세논 5g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가한 후, 실온에서 1시간 반응시켰다. 반응종료후 묽은 염산을 서서히 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하여 건조시키고 여과한 후 디에틸에테르를 감압유거하여 1-(1-하이드록시-4-(트랜스-부틸사이클로헥실)-사이클로헥세닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠의 조생성물을 얻었다.
이 조생성물을 톨루엔 50ml에 용해시키고, 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조시키고 여과한다. 톨루엔을 감압 유거하여 얻어진 반응생성물을 에탄올로 2회 재결정시켜서 1-(4-트랜스-4-부틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠 1.2g을 얻었다.
이것은 모노트로픽 액정으로 융점 60도, I-N점 59도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(4-트랜스-4-메틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-트랜스-4-에틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-트랜스-4-프로필사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-트랜스-4-헥실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-트랜스-4-옥틸사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-트랜스-4-노닐사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-트랜스-4-데실사이클로헥실)-디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
[실시예 34]
금속마그네슘 분말 0.66g에 3,4,5-트리플루오로벤젠 6.4g을 무수 에테르 30ml에 용해시킨 용액을 교반하면서 10 내지 15도에서 적가시킨 후 실온에서 1시간 반응시켜서 그리나드시약을 생성시켰다. 이 그리나드시약에 4-헵틸사이클로헥세논 4.0g을 교반하면서 -10 내지 0도에서 적가시킨 후 실온에서 다시 1시간 반응시켰다.
반응종료후 묽은 염산을 적가하고 반응혼합물을 디에틸에테르로 추출하고 추출액을 포화식염수로 세정한 후 무수 황산 나트륨을 가하여 건조하고 여과하여 1-(1-하이드록시-4-헵틸사이클로헥세닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠의 조생성물을 얻었다. 이 조생성물을 톨루엔 50ml에 용해시키고 이 용액에 p-톨루엔설폰산-수화물 0.05g을 가한 후 교반하면서 환류하고 반응에 의하여 생성되는 물을 데칸터로 제거하였다. 이 탈수반응을 1시간 행한후 반응혼합물을 냉각하였다. 톨루엔층을 포화 탄산나트륨 수용액, 포화식염수로 차례로 세정한 후 무수 황산나트륨으로 건조시키고 여과한 후 톨루엔을 감압 유거하여 얻어진 반응생성물을 에탄올로 2회 재결정시켜서 1-(4-헵틸디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠 1.0g을 얻었다.
이것의 융점은 14도이다.
다음의 화합물도 동일하게 처리하여 제조된다.
1-(4-메틸디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-에틸디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-프로필디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-부틸디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-펜틸디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-헥실디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-옥틸디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-노닐디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
1-(4-데실디하이드로페닐)-3,4,5-트리플루오로벤젠
[실시예 35]
본 발명의 화합물의 1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠을 44%, 1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠 44.5%, 1-(펜틸-4-(3,4-디플루오로페닐)디하이드로벤젠을 11% 혼합한 액정 조성물을 작성하고 그 액정으로서의 특성을 조사하였다. 그 결과는 다음과 같다. 더욱 Vth는 셀두께 9μm의 TN셀(비틀림 네마틱 셀)에 봉입한 것의 동작 역치전압이다.
(액정 조성물의 특성)
N-I점 : 84도
점 성 : 28cps
Δn(20도) : 0.137
Δε(25도) : 6.5
Vth(25도) : 1.80V
[실시예 36]
다음에 나타낸 화합물을 혼합한 액정 조성물(혼합 액정 조성물) 90중량부에 본 발명의 화합물 10중량부를 가하여 액정 조성물을 제작하였다. 이 액정 조성물의 특성을 표 2에 나타낸다.
더욱, Vth는 셀두께 9μm의 TN셀(비틀림 네마틱셀)에 봉입한 것의 동작 역치전압이다.
(혼합 액정 조성물)
(결과)
[표 2]
이 표에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화합물은 저점성의 액정 조성물이며, 더욱이 다른 특성을 손상함이 없이 역치전압을 작게하던가 또는 N-I점을 높이는 것이다.

Claims (3)

  1. 일반식(I)
    [식중, -A-는 1,4-디하이드로페닐렌을 나타내며, R은 수소원자, 알킬기 또는 트랜스-4-알킬사이클로헥실을 나타내며, Z는 수소원자 또는 불소원자를 나타내며, Z가 수소원자일 때, X 및 Y는 각각 수소원자 또는 할로겐원자를 나타내며, R'는 수소원자, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기, 트리플루오로메톡시기, 시아노기, 알킬기, 또는 알콕시기를 나타내며, Z가 불소원자일 때, X는 수소원자, Y는 불소원자를 나타내며, R'는 수소원자, 시아노기, 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 기 -COO-B-R″(여기에서 B는 할로겐원자로 치환되어도 좋은 1,4-페닐렌 또는 1,4-사이클로헥실렌을 나타내며, R″는 시아노기, 할로겐원자, 알킬기 또는 알콕시기를 나타낸다.)를 나타낸다.]로 표시되는 디하이드로벤젠-1,4-유도체.
  2. 일반식(I)
    [식중, -A-는 1,4-디하이드로페닐렌을 나타내며, R은 수소원자, 알킬기 또는 트랜스-4-알킬사이클로헥실을 나타내며, Z는 수소원자 또는 불소원자를 나타내며, Z가 수소원자일 때, X 및 Y는 각각 수소원자 또는 할로겐원자를 나타내며, R'는 수소원자, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기, 트리플루오로메톡시기, 시아노기, 알킬기 또는 알콕시기를 나타내며, Z가 불소원자일 때, X는 수소원자, Y는 불소원자를 나타내며, R'는 수소원자, 시아노기, 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 -COO-B-R″(여기에서 B는 할로겐원자로 치환되어도 좋은 1,4-페닐렌 또는 1,4-사이클로헥실렌을 나타내며, R″는 시아노기, 할로겐원자, 알킬기 또는 알콕시기를 나타낸다.)를 나타낸다.]로 표시되는 디하이드로벤젠-1,4-유도체를 함유하는 액정 조성물.
  3. 일반식(I)
    [식중, -A-는 1,4-디하이드로페닐렌을 나타내며, R은 수소원자, 알킬기 또는 트랜스-4-알킬사이클로헥실을 나타내며, Z는 수소원자 또는 불소원자를 나타내며, Z가 수소원자일 때, X 및 Y는 각각 수소원자 또는 할로겐원자를 나타내며, R'는 수소원자, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기, 트리플루오로메톡시기, 시아노기, 알킬기, 또는 알콕시기를 나타내며, Z가 불소원자일 때, X는 수소원자, Y는 불소원자를 나타내며, R'는 수소원자, 시아노기, 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기 또는 기 -COO-B-R″(여기에서 B는 할로겐원자로 치환되어도 좋은 1,4-페닐렌 또는 1,4-사이클로헥실렌을 나타내며, R″는 시아노기, 할로겐원자, 알킬기 또는 알콕시기를 나타낸다.)를 나타낸다.]로 표시되는 디하이드로벤젠-1,4-유도체를 함유하는 액정조성물을 복수의 마주보는 셀에 끼워넣어서 된 액정표시장치.
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