KR950004460A - 제한된 플라즈마 지원 화학 에칭에 유용한 전극 어셈블리 - Google Patents

제한된 플라즈마 지원 화학 에칭에 유용한 전극 어셈블리 Download PDF

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비. 자로윈 찰스
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완다 케이. 덴슨-로우
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Abstract

제한된 플라즈마 지원 화학 에칭에 사용하기 위한 전극 어셈블리(10)은 D.C.전압 소스(46)이 접속되어 있고 부수적이고 플라즈마 에칭 공정시에 형성된 이온이 전극(16) 뿐만 아니라 주변의 플라즈마 제한 부재(18)로부터 천천히 나오거나 반발되도록 R.F.전압의 소스(60)이 접속되어 있는 전극(16)을 포함한다.

Description

제한된 플라즈마 지원 화학 에칭에 유용한 전극 어셈블리
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 전극 어셈블리의 단면도, 제2도는 본 발명의 전극 어셈블리를 사용하는 시스템의 개략도이다.

Claims (13)

  1. 제한된 플라즈마 지원 화학 에칭에 유용한 전극 어셈블리에 있어서, 전극을 수용하기 위한 수단을 갖는 전극 홀더, 상기 전극에 발생되는 플라즈마 방전을 측면으로 제한하기 위한 수단, 및 상기 전극 상에 D.C.바이어스 전압을 발생하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전극에 대향하여 상기 플라즈마 방전을 측면으로 제한하기 위한 수단에 압력을 가하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  3. 제1항에 있어서, 상기 전극에 R.F.전압을 제공하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  4. 제1항에 있어서, 상기 전극 홀더가 전극으로부터 먼쪽의 단부에 배치되는 플랜지를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  5. 제1항에 있어서, D.C.바이어스 전압을 발생시키기 위한 상기 수단이 상기 전극에 전기적으로 접속된 가변 D.C.전압 소스를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  6. 제5항에 있어서, 상기 어셈블리가 상기 전극에 R.F.전압을 제공하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  7. 제6항에 있어서, D.C.바이어스 전압을 발생시키기 위한 상기 수단이 상기 전극에 R.F.전압을 제공하기 위한 상기 수단으로부터 상기 가변 D.C.전압 소스를 전기적으로 절연시키기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  8. 제3항에 있어서, R.F.전압을 제공하기 위한 상기 수단의 임피던스를 상기 전극의 임피던스에 정합시키기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  9. 제8항에 있어서, 상기 전극에 R.F.전압을 제공하기 위한 상기 수단이 상기 D.C.전압 소스로부터 상기 임피던스 정합 수단을 전기적으로 절연하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  10. 제1항에 있어서, 전극을 수용하기 위한 상기 수단이 상기 전극 홀더의 상기 단부내로 연장되는 공동이고, 상기 전극이 상기 공동 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  11. 제10항에 있어서, 상기 전극이 상기 공동으로부터 연장되는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  12. 제11항에 있어서, 플라즈마를 제한하기 위한 상기 수단이 상기 전극에 근접하는 쪽에 상대적으로 큰직경 부분과 상기 전극으로부터 먼 쪽에 상대적으로 작은 직경 부분을 갖는 개방부를 그 내부에 포함하여, 전극 시트가 개방부의 서로 다른 직경부의 계면에 설정되는 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
  13. 제12항에 있어서, 상기 전극이 상기 상대적으로 작은 직경부의 직경보다 큰 직경을 갖는 실린더형 디스크인 것을 특징으로 하는 전극 어셈블리.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940016917A 1993-07-15 1994-07-14 제한된 플라즈마 지원 화학 에칭에 유용한 전극 어셈블리 KR950004460A (ko)

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