KR970013019A - 자체세척 이온빔 중화장치 및 그 내부 표면에 달라붙은 오염물질 세척방법 - Google Patents
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Abstract
방법 및 장치는 이온빔 주입기(10)의 이온빔 중화(48)장치 및 이온주입장치(18)의 내부표면에 달라붙은 오염 물질을 제거하기 위해 구비된다. 오염물질이 플라즈마 글로우 방전을 사용해서 중화장치 및 주입장치로부터 제거된다.
오염물질이 이온빔(16)을 확장시킴으로써 중화장치로부터 또한 제거된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 이온빔 중화장치 및 이온주입 체임버를 포함하는 이온빔 주입기를 부분 단면으로 도시한 상면도.
Claims (16)
- 자체세척 이온빔 중화장치(46)에 있어서, 이온빔 주입시스템(10)의 지지체구조(64)로부터 뻗어 있는 오목한 몸체(60)와, 저 에너지 2차 전자를 발생시키기 위해 상기 오목한 몸체(60)의 내부벽에 고 에너지전자를 방출하거나 상기 몸체의 내부에서 플로즈마로부터 저 에너지 전자를 배출하는 전자방출수단(144)과, 상기 오목한 몸체로부터 인접하고 전기적으로 격리된 기다랗고 오목한 몸체(62)와, 상기 몸체 및 상기 기다란 부재로 부터 오염물질을 세척하기 위해 플라즈마 글로우 방전을 발생시키는 세척수단(180, 144, 64, 82, 84, 90, 98)을 구비하는 것을 특징으로 하는 자체세척 이온빔 중화장치.
- 제1항에 있어서, 상기 세척수단이 반응개스를 상기 중화장치로 공급하는 장치(180)를 포함하는 것을 특징으로 하는 자체세척 이온빔 중화장치.
- 제2항에 있어서, 제1전기적 바이어스를 상기 몸체 또는 상기 기다란 부재중 하나에 그리고 제2의 높은 전기적 바이어스를 다른 것에 인가하는 바이어싱수단(82, 84, 90, 98)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자체세척 이온빔 중화장치.
- 제3항에 있어서, 상기 세척수단은 상기 전자방출수단(144)을 더 구비하여, 그것이 글로우 방전을 시작하기 위해 동작되는 것을 특징으로 하는 자체세척 이온빔 중화장치.
- 제4항에 있어서, 상기 세척수단이 중화장치로부터 오염물질을 펌핑하는 펌프(28)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자체세척 이온빔 중화장치.
- 제1항에 있어서, 접지된 지지체 플랜지(64)를 더 구비하여 몸체가 접지된 지지체 플랜지(64)에 연결되고, 그 플랜지가 지지체 구조에 설치되는 것을 특징으로 하는 자체세척 이온빔 중화장치.
- 제1항에 있어서, 상기 오목한 몸체(58)로부터 인접하고 전기적으로 격리된 제1개구한정부재(160)와, 상기 제1개구한정부재로부터 인접하고 전기적으로 격리된 제2개구한정부재를 더 구비하며, 거기에서 상기 세척수단이 상기 제1 및 제2개구한정부재를 세척하기 위해 적용되는 것을 특징으로 하는 자체세척 이온빔 중화장치.
- 이온빔 중화장치(46)의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법에 있어서, 서로 전기적으로 격리되는 적어도 2개의 부속품(160, 58, 60, 62)을 갖는 중화장치에 반응개스를 공급하는 단계와, 네가티브 전기 바이어스를 상기 부속품중 적어도 하나에 인가하는 단계와, 거기에 인가된 네가티브 바이어스를 갖지 않는 상기 부속품중 적어도 하나를 접지시키는 단계와, 상기 부속품으로부터 오염물질을 제거하기 위해 중화장치(46)에서 플라즈마 글로우 방전을 발생시키는 단계와, 상기 중화장치로부터 오염물질을 제거하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.
- 제8항에 있어서, 반응개스가 수소, 불소, 및 산소로 구성되는 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 개스인 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.
- 제8항에 있어서, 정상이온 주입압력 이상으로 하기 위해 중화장치의 압력을 조절하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.
- 제8항에 있어서, 글로우 방전을 시작하기 위해 전자소스(144)를 제공하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.
- 제8항에 있어서, 상기 개스가 오염물질과 반응해서 휘발성 종류의 오염물질을 발생시키고, 상기 휘발성 종류가 중화장치로부터 제거되는 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.
- 제8항에 있어서, 이온을 소스물질로부터 배출시키고 궤적을 따라 진공영역을 통해 빔경로를 이온주입체임버(20)에 횡단시키는 이온빔(16)으로 이온을 형성하는 단계와, 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질과 접촉하는 중화장치(46)에서 이온빔을 확장하는 단계와, 오염물질을 중화장치로부터 제거하는 단계를 부가적으로 구비하는 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.
- 제13항에 있어서, 이온빔이 빔 에너지를 조절하고 중화장치의 개구부재(58)를 동작시킴으로써 중화장치에서 확장되는 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.
- 제14항에 있어서, 이온빔의 에너지가 5 내지 10킬로-전자볼트 범위로 조절되는 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.
- 제13항에 있어서, 소스물질이 휘발성 종류의 오염물질을 형성하기 위해 선택되는 것을 특징으로 하는 이온빔 중화장치의 내부표면에 달라붙은 오염물질 세척방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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