KR940006233A - 반도체 장치의 시험방법 및 시험장치 - Google Patents

반도체 장치의 시험방법 및 시험장치 Download PDF

Info

Publication number
KR940006233A
KR940006233A KR1019930009981A KR930009981A KR940006233A KR 940006233 A KR940006233 A KR 940006233A KR 1019930009981 A KR1019930009981 A KR 1019930009981A KR 930009981 A KR930009981 A KR 930009981A KR 940006233 A KR940006233 A KR 940006233A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
discharge
semiconductor device
high voltage
test
under test
Prior art date
Application number
KR1019930009981A
Other languages
English (en)
Other versions
KR0146380B1 (ko
Inventor
류헤이 미야가와
Original Assignee
아이자와 스스무
세이코 엡슨 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아이자와 스스무, 세이코 엡슨 가부시키가이샤 filed Critical 아이자와 스스무
Publication of KR940006233A publication Critical patent/KR940006233A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0146380B1 publication Critical patent/KR0146380B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/001Measuring interference from external sources to, or emission from, the device under test, e.g. EMC, EMI, EMP or ESD testing
    • G01R31/002Measuring interference from external sources to, or emission from, the device under test, e.g. EMC, EMI, EMP or ESD testing where the device under test is an electronic circuit
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R29/00Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
    • G01R29/12Measuring electrostatic fields or voltage-potential
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

본 발명은 정전기 현상을 될 수 있는한 재현하기 좋게 모의하고, 시장고장과 상관을 얻을 수 있는 반도체 장치의 시험방법 및 시험장치를 제공하는 것으로, IC 10을 얹혀 고정하는 절연체(20)와, 정전기 방전전하를 발생시키기 위한 고전압원(22), 콘덴서(24) 및 저항(26)과, 금속조각(28)과 방전전극(30)으로 이루어져 있는 간격을 가변할 수 있는 방전갭(32)과, 간격이 고정된 방전갭(34)과, 방전회로에 삽입되는 방전저항(36)과 정전기 방전 전하를 방전회로로 이끄는 스위치(38)을 포함하여 구성된다.
IC 10의 피시험단자(50)에 고전압을 인가할때, 방전갭(32)에 코로나 방전 또는 스파크 방전이 발생하고, 상승이 빠른 급격한 통전이 행해진다.
이에따라 실제의 정전기 방전현상에 가까운 상태가 재현되는 것을 특징으로 한다.

Description

반도체 장치의 시험방법 및 시험장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명이 적용되는 한 실시예의 시험장치의 개략구성을 도시한 도면,
제2도는 본 실시예의 시험장치와 종래의 시험장치를 이용한 경우의 방전 파형을 비교한 도면.

Claims (10)

  1. 반도체 장치의 피시험단자를 접지하고, 방전을 발생시키는 방전부를 통해서 상기 피시험단자에 고전압을 인가함에 따라, 상기 반도체 장치의 내 정전기 특성을 평가하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 방전은 스파크 방전 또는 코로나 방전인 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험방법.
  3. 어스선을 통해서 접지되는 동시에, 반도체 장치의 피시험 단자에 접촉시키는 시험용 단자와 한쪽단이 상기 시험용 단자에 접속되어 있고, 방전을 발생시키는 소저의 간격을 갖는 방전부와 상기 방전부의 다른쪽단에 접속 되어있고, 방전용의 고전압을 발생하는 전원을 포함하고, 상기 방전부를 통해서 반도체 장치의 피시험단자에 고전압을 인가함에 따라, 상기 반도체 장치의 내정전기 특성을 평가하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험장치.
  4. 반도체 장치의 피시험단자에 접속되어, 이 피시험단자를 접지하는 어스용 단자와 상기 피시험단자와의 사이에 소정의 간격으로 이루어진 방전부틀 형성하는 방전전극과 상기 방전 전극에 접속되어 있고, 방전용의 고전압을 발생하는 전원을 포함하고, 상기 방전부를 통해서 반도체 장치의 피시험 단자에 고전압을 인가함에 따라, 상기 반도체 장치의 내정전 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험장치.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 방전은 스파크 방전 또는 코로나 방전인 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험장치.
  6. 제3항 또는 4항에 있어서, 상기 방전부의 간격은 그 간격길이가 변경 가능한 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 방전부의 간격의 변경을 스테핑 모터에 의해 행하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험장치.
  8. 제3항 또는 4항에 있어서, 상기 방전부외에 일정한 간격을 갖는 별도의 방전부를 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험장치.
  9. 제3항 또는 4항에 있어서, 상기 방전용의 고전압을 정전기 전하를 이용하여 발생시키기 위해, 콘덴서를 고전압원 또는 상기 방전부의 어느쪽이 한쪽에 접속하는 스위치를 설치하여, 상기 스위치를 상기 고전압 원측에서 상기 방전부측으로 바꾸는것에 의해, 상기 정전기 방전전하를 상기 방전부에 공급하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 시험장치.
  10. 제3항에 있어서, 상기 시험용 단자는 프로브에 있어서 형성하는 것을 특징으로하는 반도체 장치의 시험장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930009981A 1992-06-03 1993-06-01 반도체 장치의 시험방법 및 시험장치 KR0146380B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14237892 1992-06-03
JP92-142378 1992-06-03
JP93-96962 1993-03-31
JP5096962A JPH0651018A (ja) 1992-06-03 1993-03-31 半導体装置の試験方法および試験装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940006233A true KR940006233A (ko) 1994-03-23
KR0146380B1 KR0146380B1 (ko) 1998-12-01

Family

ID=26438104

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019930009981A KR0146380B1 (ko) 1992-06-03 1993-06-01 반도체 장치의 시험방법 및 시험장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5523699A (ko)
JP (1) JPH0651018A (ko)
KR (1) KR0146380B1 (ko)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2836676B2 (ja) * 1996-02-09 1998-12-14 日本電気株式会社 半導体要素の試験方法及び装置
US5740007A (en) * 1996-06-10 1998-04-14 Hanwa Electronic Ind. Co., Ltd. CDM simulator
KR100231649B1 (ko) * 1996-08-03 1999-11-15 윤종용 커패시터 충전회로를 갖는 검사용 기판 및 이를이용한 집적회로 검사 방법
US5978197A (en) * 1997-11-18 1999-11-02 Lsi Corporation Testing ESD protection schemes in semiconductor integrated circuits
US6541981B2 (en) 2001-04-10 2003-04-01 International Business Machines Corporation Automation of transmission line pulse testing of electrostatic discharge devices
US6777970B2 (en) * 2001-04-19 2004-08-17 Intel Corporation AC testing of leakage current in integrated circuits using RC time constant
US6791430B2 (en) * 2001-12-31 2004-09-14 Conductus, Inc. Resonator tuning assembly and method
DE10337090A1 (de) * 2003-08-12 2005-03-17 Siemens Ag Elektrische Prufspitze sowie Verfahren und Vorrichtung zum Durchführen von Entladungstests mit einer solchen Prüfspitze
US7610072B2 (en) * 2003-09-18 2009-10-27 Superconductor Technologies, Inc. Superconductive stripline filter utilizing one or more inter-resonator coupling members
US7119597B1 (en) * 2004-01-07 2006-10-10 Thermo Electron Corporation Methods and apparatus to produce a voltage pulse
US7560948B2 (en) * 2006-01-11 2009-07-14 Thermo Keytek LLC Circuit for minimizing or eliminating pulse anomalies in human body model electrostatic discharge tests
CN101064415B (zh) * 2006-04-28 2010-05-12 王健斌 可调式电极点火间隙
US7863920B2 (en) * 2007-09-12 2011-01-04 Infineon Technologies Ag Electrostatic discharge test system and electrostatic discharge test method
JP5464806B2 (ja) * 2008-01-17 2014-04-09 株式会社ニューフレアテクノロジー 波形測定機器の校正方法
US20100117674A1 (en) * 2008-11-11 2010-05-13 Thermo Fisher Scientific Inc. Systems and methods for charged device model electrostatic discharge testing
US9897644B2 (en) * 2012-10-10 2018-02-20 Nxp Usa, Inc. Method and system for testing a semiconductor device against electrostatic discharge
CN105242126B (zh) * 2014-07-07 2018-08-07 中国科学院空间科学与应用研究中心 一种高轨道卫星静电放电监测装置
CN105182113A (zh) * 2015-08-19 2015-12-23 湖南中普防雷股份有限公司 一种避雷针实验方法及装置
CN105182112A (zh) * 2015-08-19 2015-12-23 湖南中普防雷股份有限公司 一种连续放电电弧避雷针实验装置电路
CN107515334A (zh) * 2016-06-15 2017-12-26 上海索莘电子有限公司 一种静电放电高频磁场干扰发生器
CN113125815B (zh) * 2019-12-31 2023-07-18 致茂电子(苏州)有限公司 电子组件测试装置与探针
TWI724721B (zh) * 2019-12-31 2021-04-11 致茂電子股份有限公司 電子元件測試裝置與探針

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6073375A (ja) * 1983-09-30 1985-04-25 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置の試験方法
US4677375A (en) * 1985-06-14 1987-06-30 Hanwa Electronic Co., Ltd. Apparatus for testing integrated circuit
JPH0769385B2 (ja) * 1986-05-09 1995-07-31 沖電気工業株式会社 半導体装置の試験方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR0146380B1 (ko) 1998-12-01
US5523699A (en) 1996-06-04
JPH0651018A (ja) 1994-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940006233A (ko) 반도체 장치의 시험방법 및 시험장치
US4760341A (en) Method and apparatus for monitoring operation of a spark ignition device in a gas turbine engine
CA2065123C (en) Spark ignition analyzer
ES2171989T3 (es) Circuito generador de tension por impulsos.
KR850002326A (ko) 반도체 장치의 정전기 파괴 시험방법 및 장치
CA2081221A1 (en) Method of detecting insulation faults and spark tester for implementing the method
JP2001035686A (ja) 直流除電器
GB2082866A (en) Method for locating cable defects
ES2025211B3 (es) Metodo y dispositivo de aislamiento de la fuente spray de liquido desde el voltaje de alta tension de una pistola spray electrostatica cuando se usa un liquido de spray y conductor electricamente.
Asano et al. DC corona discharge of a metal filament particle within parallel-plate electrodes
EP0322607A3 (en) Control device for an apparatus for testing electrical function of wiring patterns
Ritter et al. Air-discharge testing of single components
US5923130A (en) Repetitive and constant energy impulse current generator
Jon et al. An experimental investigation of the electrostatic discharge (ESD) mechanism in packaged semiconductor devices
JP2807268B2 (ja) サージ電圧・電流発生器
CN110988637A (zh) 一种输电线路直流-冲击联合加压试验回路
Masuda et al. Production of monopolar ions by traveling wave corona discharge
SU686991A2 (ru) Устройство дл испытани электроизол ционных материалов
Yamamoto et al. The role of leader re-illumination in the development of surface discharges in SF6 exposed to a very fast transient overvoltage
Nakane et al. Current waveforms of electric discharge in air under high-intensity acoustic standing wave field
JPH0480349B2 (ko)
SU1749742A1 (ru) Устройство дл визуализации обтекани аэродинамического объекта
SU1278032A1 (ru) Устройство дл моделировани электрофильтра очистки газа
SU1368826A1 (ru) Устройство дл синтетических испытаний высоковольтного оборудовани
JP3500079B2 (ja) 方形波電源装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20100427

Year of fee payment: 13

LAPS Lapse due to unpaid annual fee