KR940005994A - 레지스트 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 래지스트 층을 수회 노출 및 현상시킴으로써 양호한 패턴을 형성할 수 있고, 레지스트 층과 기재사이에 양호한 접착을 야기시킬 수 있는 포지형 레지스트 조성물을 개시한다. 본 발명의 조성물 1. (a) α, β-에틸렌형으로 불포화된 카복실산의 t-부틸에스테르 20 내지 94중량%, 하기 일반식 (I)의 (메트)아크릴레이트 5 내지 79중량%, 및 다른 하나의 α,β-에틸렌형으로 불포화된 화합물 1 내지 75중량%로 제조한, 2 내지 200의 산가를 갖는 중합체, 및 (b)광 조상에 반응하여 산을 생성하는 광활성화제를 포함하는 포지헝 레지스트 조성물.
CH=C(R1)-COO-(R2-O)n-R3(I)
상기식에서, Rl은 수소 또는 메틸 그룹이고, R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌그룹이고, R3는 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 아릴 그룹 또는 탄소수 1 내지 6의 아르알킬 그룹이고, n은 1 내지 10의 정수이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (5)
- (a)α,β-에틸렌형으로 불포화된 카복실산의 t-부틸에스테르 20 내지 94중량%, 하기 일반식(Ⅰ)의 (메트)아크릴레이트 5 내지 79중량%, 및 다른 하나의 α,β-에틸렌형으로 불포화된 화합물 1 내지 75중량%로 제조한, 2 내지 200의 산가를 갖는 중합체, 및 (b)광 조상에 반응하여 산을 생성하는 광활성화제를 포함하는 포지형(positive type)레지스트 조성물.CH=C(R1)-COO-(R2-O)n-R3(I)[상기식에서, Rl은 수소 또는 메틸 그룹이고, R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌그룹이고, R3는 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 아릴 그룹 또는 탄소수 1 내지 6의 아르알킬 그룹이고, n은 1 내지 10의 정수이다].
- 제1항에 있어서, 상기 α,β-에틸렌형으로 불포화된 카복실산의 t-부틸 에스테르가 모노카복실산, 다카복실산, 산 무수물 및 디카복실산의 모노 에스테르 및 이들의 혼합물의 t-부틸 에스테르로 이루어진 그룹중에서 선택된 포지형 레지스트 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기(메트)아크릴레이트가 에틸렌 글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 모노에테르의 (메트)아코릴레이트, 테트라에틸렌 글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트, 팬타에틸렌 글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트, 디프로필렌 글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트, 테트라프로필렌 글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트, 펜타프로필렌 글리콜 모노에테르의 (메트)아크릴레이트 및 (메트)아크릴레이트, 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 포지형 레지스터 조성물,
- 제1항에 있어서, 상기 다른 하나의 α,β-에틸렌형으로 불포화된 화합물이 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴레이트, 스티렌 유도체, (메트)아크릴로니트릴, (메트)아크릴아미드, 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, 비닐 아세테이트, 에틸렌, 프로필렌 및 부타디엔, 및 이들의 혼합물을 포함하는 포지형 레지스트 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 광활성화제가 오늄 및 광 조사에 반응하여 설폰산을 생성하는 화합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 포지형 레지스트 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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