KR920008537A - 내식막 조성물 - Google Patents

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KR920008537A
KR920008537A KR1019910018346A KR910018346A KR920008537A KR 920008537 A KR920008537 A KR 920008537A KR 1019910018346 A KR1019910018346 A KR 1019910018346A KR 910018346 A KR910018346 A KR 910018346A KR 920008537 A KR920008537 A KR 920008537A
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KR1019910018346A
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마사토시 오하따
마사하루 야마모또
Original Assignee
원본미기재
닛폰 페인트 캄파니, 리미티드
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Abstract

내용 없음

Description

내식막 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (14)

  1. (a)적어도 일부분이 t-부틸 그룹, 벤질 그룹, 알파-메틸벤질 그룹, 알파, 알파-디메틸벤질 그룹 및 트리틸 그룹으로 이루어진 부류중에서 선택된 그룹을 갖는 (메트)아크릴레이트 단량체인 중합가능한 단량체로부터 제조한, 적어도 70%의 이소택틱 구조를 갖는 중합체, 및 (b)광 조사에 의해 산을 생성하는 광활성화제를 포함하는 내식막 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 중합체 (a)가 시아노 그룹을 갖지 않는 내식막 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 중합체 (a)가 분자 말단에 불포화 그룹을 갖지 않는 내식말 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 중합체 (a)를, t-부틸 그룹, 벤질 그룹, 알파-메틸벤질 그룹, 알파, 알파-디메틸벤질 그룹 및 트리틸 그룹으로 이루어진 부류중에서 선택된 그룹을 갖는 (메트)아크릴 에스테르 단량체 및 선택적으로 공중합가능한 알파, 베타 에틸렌계 단량체로부터 제조하는 내식막 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 공중합가능한 알파, 베타-에틸렌계 단량체를 (메트)아크릴레이트, 스티렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택하는 내식말 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 중합체(a)가 하기 일반식으로 나타낸 말단 알콕시실릴 그룹을 갖는 내식막 조성물.
    -Si(R1)n(OR2)3-n
    (상기식에서, R1및 R2는 같거나 다르며, 탄소수 1 내지 4의 저급 알킬 그룹이며, n은 0, 1 또는 2이다.)
  7. 제1항에 있어서, 상기 광활성화제(b)가 오늄 염인 내식말 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 광활성화제가 중합체(a)의 중량을 기준으로 0.1 내지 50중량%의 양으로 조성물내에 존재하는 내식막 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 중합체(a) 대신에, 적어도 일부분이 p-t-부톡시카보닐옥시스티렌, p-t-부톡시카보닐옥시-알파-스티렌, t-부틸-p-비닐벤조에이트 및 t-부틸-p-이소프로페닐페닐옥시 아세테이트로 이루어진 부류중에서 선택된 하이드록실 스티렌인 중합가능한 단량체로부터 제조한 중합체(c)를 배합한 내식막 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 상기 중합체(c)를 하이드록실스티렌 단량체 및 선택적으로 공중합가능한 알파, 베타-에틸렌계 단량체로부터 제조하는 내식막 조성물.
  11. 제9항에 있어서, 상기 공중합가능한 알파, 베타-에틸렌계 단량체를 (메트)아크릴레이트, 스티렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹중에서 선택하는 내식막 조성물.
  12. 제9항에 있어서, 상기 광활성화제(b)가 오늄 염인 내식막 조성물.
  13. 제9항에 있어서, 상기 광활성화제가 중합체(c)의 중량을 기준으로 0.1 내지 50중량%의 양으로 조성물내에 존재하는 내식막 조성물.
  14. (i)기재, (ii)적어도 일부분이 t-부틸 그룹, 벤질 그룹, 알파-메틸벤질 그룹, 알파, 알파-디메틸벤질 그룹 및 트리틸 그룹으로 이루어진 부류중에서 선택된 그룹을 갖는 (메트)아크릴레이트 단량체인 중합가능한 단량체로부터 제조한, 하기 일반식의 말단 알콕시 실릴 그룹을 갖는 중합체를 포함하는, 상기 기재상에 형성된 접착제층, 및 (iii)제1항에 따른 내식막 조성물을 포함하는, 상기 접착제 층상에 형성된 감광성 내식막 층을 포함하는 감광성 내식막.
    -Si(R1)n(OR2)3-n
    (상기식에서, R1및 R2는 같거나 다르며, 탄소수 1 내지 4의 저급 알킬 그룹이며, n은 0, 1 또는 2이다.)
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019910018346A 1990-10-19 1991-10-18 내식막 조성물 KR920008537A (ko)

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JP91-58738 1991-03-22

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020071522A (ko) * 2001-03-07 2002-09-13 주식회사 코오롱 흡한속건성 이형단면사
KR101034173B1 (ko) * 2007-11-28 2011-05-12 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 층간 절연막용 감광성 수지 조성물

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1229390A4 (en) * 2000-06-22 2004-06-02 Toray Industries POSITIVE RADIOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING STRUCTURES USING THE SAME

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS524834A (en) * 1975-06-30 1977-01-14 Agency Of Ind Science & Technol Image formation method through electron beam and resisting agent compo sitions which are used for the methoi
US4491628A (en) * 1982-08-23 1985-01-01 International Business Machines Corporation Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone
DE69125634T2 (de) * 1990-01-30 1998-01-02 Wako Pure Chem Ind Ltd Chemisch verstärktes Photolack-Material

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020071522A (ko) * 2001-03-07 2002-09-13 주식회사 코오롱 흡한속건성 이형단면사
KR101034173B1 (ko) * 2007-11-28 2011-05-12 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 층간 절연막용 감광성 수지 조성물

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