KR940002711B1 - 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온의 제조방법 - Google Patents

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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D275/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
    • C07D275/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D275/03—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings not condensed with other rings with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms

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Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]
2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온의 제조방법
[발명의 간단한 설명]
본 발명은 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 공업용 냉각수계, 공업용 금속가공유, 페인트, 화장품, 계면활성제, 수지(Resin), 사진감광제 및 제지공업분야 등의 방부제나 특히 방곰팡이제 등으로 유용한 다음 구조식(I)로 표시되는 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온을 제조하는 방법에 관한 것이다.
상기 구조식(I)과 유사한 2-t-옥틸-4-이소티아졸린-3-온의 합성 방법이 Journal of Heterocyclic Chemistry 1971년 8월호에 공지되어 있는바, 그 합성 방법을 요약하면 다음 반응식(가)의 아미드화 반응과 다음 반응식 (나)의 클로로화 및 고리화 반응에 의해 2-t-옥틸-4-이소티아졸린-3-온을 제조하는 방법이다.
[반응식 (가)]
[반응식 (나)]
상기 Journal에 기재된 방법에 의하면 반응식 (나)에서 Cl2기체를 사용하고 용매로 톨루엔을 사용하였는바, 본 발명에서는 목적화합물이 2-t-옥틸-4-이소티아졸린-3-온이 아닌 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온이므로 클로로화 및 고리화 반응을 일으키는 화합물로서 SO2X2(X ; 할로겐원소)를 사용하고 용매로서 톨루엔이 아닌 CH2X2, CHX3, CH3CX3, CH2XCH2X 등을 사용하므로써 본 발명을 완성하게 되었다.
본 발명의 목적은 종래와는 달리 상기 구조식(I)의 화합물을 제조함에 있어서, 고수율로 상기 구조식(I)의 화합물만을 선택적으로 제조할 수 있는 방법을 제공하는데 있다.
이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 3,3'-디티오디프로피온산과 티오닐클로라이드를 반응시켜서 다음 구조식(Ⅱ)로 표시되는 3,3'-디티오디프로피오닐디클로라이드를 제조하고 이를 n-옥틸아민과 반응시켜 다음 구조식(Ⅲ)으로 표시되는 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드를 제조한 다음, 여기에 다음 구조식(Ⅳ)로 표시되는 설프릴할라이드를 첨가하여 유기용매중에서 고리화시켜서 상기 구조식(I)의 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온을 제조하는 방법인 것이다.
상기식에서, X는 할로겐 원소를 나타낸다.
이와 같은 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 3,3'-디티오디프로피온산과 티오닐클로라이드, n-옥틸아민 및 설프릴할라이드를 이용하여 상기 구조식(I)의 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온을 선택적으로 제조하는 방법인 바, 여기서 상기 3,3'-디티오디프로피온산과 티오닐클로라이드는 1 : 2 내지 1 : 4의 몰비로 반응시키되 10~30℃에서 반응시켜서 상기 구조식(Ⅱ)로 표시되는 3,3'-디티오디프로피오닐디클로라이드를 제조한다.
이때 반응온도가 10℃보다 낮으면 반응시간이 너무 길어져서 경제성이 없어지며, 30℃이상인 경우에는 독성이 있는 티오닐클로라이드의 증기가 심하게 발생되어 작업상 위험이 있으므로 좋지않게 된다.
또한, 이때의 반응몰비는 티오닐클로라이드를 1 : 2이하로 사용하면 미반응 불순물이 생기는 문제가 있고, 1 : 4 이상으로 사용하면 화학반응상 불필요하여 경제적으로 불리한 문제가 있다.
이렇게 제조된 상기 구조식(Ⅱ)의 화합물에다 n-옥틸아민을 반응시키는데, 이때 구조식(Ⅱ)와 n-옥틸아민이 1 : 2~1 : 4의 몰비가 되도록 반응시키는 것이 좋으며, 반응온도는 -10℃~35℃, 바람직 하게는 10℃~30℃, 더욱 바람직하게는 15℃ 내지 상온으로 유지하는 것이 바람직하다.
만일, 반응온도가 -10℃보다 낮으면 경제적으로 불리하고, 35℃이상에서는 발열 반응으로 인한 폭발의 위험이 있다. 또한, 이때의 반응몰비는 n-옥틸아민을 1 : 2 이하로 사용하면 미반응물질이 생성되고, 1 : 4 이상으로 사용하면 화학반응상 불필요하여 경제적으로 불리하다. 이러한 반응에서 반응용매로는 톨루엔이나 벤젠을 사용하는 것이 좋다.
상기와 같이 반응시키면 상기 구조식(Ⅲ)의 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드가 생성되며, 여기에 설프릴할라이드를 첨가하여 유기용매중에서 고리화 반응시키면 목적하는 상기 구조식(I)의 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온이 선택적으로 제조된다.
이때, 상기 구조식(Ⅲ)의 화합물과 설프릴할라이드는 1 : 1 내지 1 : 4의 몰비로, 더욱 바람직하기로는 1 : 1 내지 1 : 3의 몰비로 반응시키는 것이 좋은데, 만일 설프릴할라이드를 1 : 1 몰비보다 적은 량으로 사용하면 미반응 불순물이 생성되며, 1 : 4 이상으로 과량 사용하면 부가반응으로 인하여 목적 화합물의 순도가 떨어진다.
또한, 이때의 반응온도는 50℃이하, 더욱 바람직하게는 -20℃~50℃로 반응시키는 것이 좋은 바, 50℃ 이상에서는최종 생성물의 안정성이 저하되는 문제가 있다.
이러한 최종 반응에는 반응 용매로서 유기 용매, 즉 유기할로겐 화합물을 사용해야 하는데 예컨대, CH2X2, CHX3, CX3CH3, CH2XCH2X (여기서, X는 할로겐 원소이다)등을 사용하는 것이 바람직하다.
상기와 같이 하면 목적 화합물이 상기 구조식(I)의 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온이 순수화합물로만 선택적으로 생성되며, 그 수율은 90% 이상으로 얻어진다.
본 발명에 따른 상기 구조식(I)의 화합물은 안정성 및 지속성이 있는 바이오사이드로서 냉각탑내의 조유방지제, 도료방부제, 공업용 금속가공유 방부제, 화장품, 및 샴푸 첨가제, 제지용 방부제, 계면활성제용 방부제 등 일반공업용 방부제로 매우 유용하고, 특히 방곰팡이성 방부제로 유용하다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온이 선택적으로 제조되고, 그 제조방법이 간단하여 경제적이며, 고수율로 목적화합물을 제조할 수 있는 장점이 있다.
이하, 본 발명을 실시예에 의거 상세히 설명한다.
[실시예 1]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 메틸렌클로라이드 350㎖에 녹인후 얼음중탕에서 5℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 16.2g(0.12몰)을 3시간 동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 0℃로 내리고 1시간 동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 25℃로 유지하면서 3시간 동안 교반해준다.
반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데, 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액 깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 옮겨 용매를 제거한 후 진공 오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아있는 클로로포름을 완전히 제거하고 나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 44.9g(90몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.87(m). 1.27(s), 1.67(m), 3.72(t), 6.31(d), 8.11(d)
[실시예 2]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 메틸렌클로라이드 350㎖에 녹인후 얼음중탕에서 5℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 14.85g(0.11몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 0℃로 내리고 1시간 동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 30℃로 유지하면서 3시간동안 교반해준다.
반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데, 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액 깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기 용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 옮겨 용매를 제거한후 진공오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아있는 메틸렌 클로라이드를 완전히 제거하고 나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 45.9g(92몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.88(m). 1.27(s), 1.69(m), 3.74(t), 7.16(d), 8.93(d)
[실시예 3]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 메틸렌클로라이드 350㎖에 녹인후 저온반응기에서 -5℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 13.5g(0.1몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도 -5℃에서 1시간 동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 35℃로 유지 하면서 3시간 동안 교반해준다.
반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데 이 온도조건에서 반응이 완전히 끈나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액 깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 옮겨 용매를 제거한후 진공오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아있는 클로로포름을 완전히 제거하고나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 44.91g(90몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.87(m). 1.26(s), 1.74(m), 3.75(t), 6.90(d), 8.79(d)
[실시예 4]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 메틸렌클로라이드 350㎖에 녹인후 저온반응기에서 -5℃ 이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 17.55g(0.13몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 0℃로 올리고 1시간 동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 40℃로 유지하면서 3시간동안 교반해 준다.
반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데, 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 옮겨 용매를 제거한 후 진공 오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아 있는 클로로포름을 완전히 제거하고 나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 46.1g(92.5몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.87(m). 1.26(s), 1.67(m), 3.73(t), 6.25(d), 8.05(d)
[실시예 5]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 메틸렌클로라이드 350㎖에 녹인후 저온 반응기에서 -15℃이 하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 18.9g(0.14몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 -5℃로 올리고 1시간동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 40℃로 유지하면서 3시간동안 교반해준다. 반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한후 분액깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기 용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 얾겨 용매를 제거한 후 진공 오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아있는 클로로포름을 완전히 제거하고 나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 46.4g(93몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.87(m). 1.27(s), 1.67(m), 3.76(t), 6.23(d), 8.02(d)
[실시예 6]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 클로로포름 350㎖에 녹인후 얼음중탕에서 5℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 13.5g(0.1몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 0℃로 내리고, 1시간 동안 교반한 후 온도를 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 25℃로 유지 하면서 3시간동안 교반해준다.
반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 옮겨 용매를 제거한 후 진공 오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아 있는 클로로포름을 완전히 제거하고 나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 45.4g(91몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.88(m). 1.28(s), 1.58(m), 4.02(t), 6.79(d), 8.75(d)
[실시예 7]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 클로로포름 350㎖에 녹인후 얼음중탕에서 5℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 14.85g(0.11몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 0℃로 내리고 1시간동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 30℃로 유지하면서 3시간동안 교반해 준다.
반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 옮겨 용매를 제거한 후 진공 오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아있는 클로로포름을 완전히 제거하고 나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 45.63g(91.5몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.87(m). 1.27(s), 1.55(m), 3.93(), 6.70(d), 8.48(d)
[실시예 8]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 클로로포름 350㎖에 녹인후 저온 반응기에서 -5℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 16.2g(0.12몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도 -5℃에서 1시간동안 교반한후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 35℃로 유지하면서 3시간동안 교반해준다. 반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데, 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 옮겨 용매를 제거한 후 진공오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아있는 클로로포름을 완전히 제거하고나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 44.91g(90몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.88(m). 1.27(s), 1.64(m), 3.81(t), 6.31(d), 8.11(d)
[실시예 9]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 클로로포름 350㎖에 녹인후 저온반응기에서 -5℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 17.55g(0.13몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 0℃로 올리고 1시간동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 40℃로 유지하면서 3시간동안 교반해준다.
반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게 되는데, 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기 용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 옮겨 용매를 제거한 후 진공오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아있는 클로로포름을 완전히 제거하고나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 45.13g(90.5몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.88(m). 1.26(s), 1.69(m), 4.06(t), 7.15(d), 8.92(d)
[실시예 10]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 클로로포름 350㎖에 녹인후 저온 반응기에서 -15℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 18.9g(0.14몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 -5℃로 올리고 1시간동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물 중탕에서 온도를 40℃로 유지하면서 3시간동안 교반해준다. 반응이 진행되면서 용액이 노란색을 띠게되는데, 이 온도조건에서 반응이 완전히 끝나면 순수 100㎖를 첨가한 후 분액 깔대기로 옮겨 순수층은 버리고 유기 용매층을 따로 모아서 여기에 무수마그네슘 설페이트 30g을 넣어 유기용매층의 수분을 제거한다. 유기용매를 로타리 이베퍼레이터로 얾겨 용매를 제거한후 진공오븐에서 3시간동안 50℃로 유지하여 남아있는 클로로포름을 완전히 제거하고 나면 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온ㆍHCl 45.88g(92몰%)을 얻는다.
1H-NMR 스펙트럼(100MHz,CDCl3) : δppm ; 0.87(m). 1.26(s), 1.66(m), 3.78(t), 6.23(d), 8.06(d)
[비교예 1]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 메틸렌클로라이드 350㎖에 녹인후 물 중탕에서 70℃이상으로 유지하면서 드롭핑펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 40.5g(0.3몰)을 3시간 동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
이때 메틸렌클로라이드의 증기로 인하여 반응을 진행시킬 수 없었다.
[비교예 2]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 클로로포름 350㎖에 녹인후 물 중탕에서 70℃이상으로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 40.5g(0.3몰)을 3시간 동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
이때 클로로포름의 증기로 인하여 반응을 진행시킬 수가 없었다.
[비교예 3]
1ℓ3구 플라스크에 온도계와 드롭핑 펀넬을 장착하고 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드 43.25g(0.1몰)을 메틸렌클로라이드 350㎖에 녹인후 얼음 중탕에서 5℃이하로 유지하면서 드롭핑 펀넬을 통하여 설프릴클로라이드 12.15g(0.09몰)을 3시간동안 천천히 교반하면서 첨가한다.
설프릴클로라이드 첨가가 끝나면 반응온도를 0℃로 내리고 1시간동안 교반한 후 온도를 서서히 실온까지 올리고 물중탕에서 온도를 25℃로 유지하면서 3시간동안 교반해준다.
이때 반응이 진행되기는 하나 많은 미반응물이 존재하여 목적화합물을 합성할 수가 없었다.

Claims (6)

  1. 3,3'-디티오디프로피온산과 티오닐클로라이드를 반응시켜서 다음구조식(Ⅱ)로 표시되는 3,3'-디티오디프로피오닐디클로라이드를 제조하고 이를 n-옥틸아민과 반응시켜 다음 구조식(Ⅲ)으로 표시되는 N,N'-디-n-옥틸-3,3'-디티오디프로피온아미드를 제조한다음, 여기에 다음 구조식(Ⅳ)로 표시되는 설프릴할라이드를 첨가하여 유기용매 중에서 고리화시켜서 다음 구조식(I)로 표시되는 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온을 제조하는 방법.
    상기식에서, X는 할로겐 원소를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 3,3'-디티오디프로피온산과 티오닐클로라이드는 1 : 2 내지 1 : 4의 몰비로 반응시킴을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 구조식(Ⅱ)의 화합물과 n-옥틸라민과 1 : 2 내지 1 : 4 몰비로 반응시킴을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 고리화반응은 상기 구조식(Ⅲ)의 화합물과 상기 구조식(Ⅳ)의 화합물을 50℃이하의 반응온도에서 1 : 1 내지 1 : 4의 몰비로 반응시켜 시행함에 특징으로 하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 고리화반응의 반응온도는 -20℃~50℃로 유지함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 유기용매로는 CH2X2, CHX3,CH2XCH2X 및 CX3CH3(여기서 X는 할로겐원소이다)중에서 선택된 유기할로겐 화합물을 사용함을 특징으로 하는 방법.
KR1019910019719A 1991-05-10 1991-11-07 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온의 제조방법 KR940002711B1 (ko)

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