KR940002118B1 - 전자사진 감광체 - Google Patents

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KR940002118B1
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Abstract

내용 없음.

Description

전자사진 감광체
제1도는 종래의 무정형 실리콘과 PVK를 이용한 감광체의 확대단면도.
제2도는 종래의 TNF와 PVK 착체를 이용한 단층형 감광체의 확대단면도.
제3도는 종래의 적층형 감광체의 확대단면도.
제4도는 본 발명의 적층형 감광체의 확대단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 실리콘층 2 : PVK층
3 : PVK와 TNF의 층 4 : 전하수송층
5 : 전하발생층 6 : 광안정제
[발명의 분야]
본 발명은 도전성지지체와 유기물을 함유하는 적층형 감광층을 갖는 전자사진용 감광체에 관한 것으로, 특히 광을 조사할 때 전하담체를 발생하는 유기물질(CGM: Charge Generation Matter)을 함유하는 전하 발생층(CGL; Charge Generation Layer)과, 1종의 광안정제와 전하발생층에서 발생된 전하담체를 받아들이고 이를 운송하는 물질(CTM; Charge Transporting Matter) 및 결합체를 함유하는 전하수송층(CTL; Charge transporting Layer)으로 구성된 적층형 감광층을 갖는 전자사진 감광체(Electro photographic photoconductor)에 관한 것이다.
[선행기술의 설명]
종래의 전자사진용 감광체로서는 다음의 것이 있다.
첫째, 세레늄(Se), 황화타드뮴(CdS), 산화아연(ZnO) 및 무정형 실리콘(Si)과 같은 무기물질을 감광물로 이용한 것이 있으나, 이들은 일반적으로 감도가 좋은반면 세레늄등은 인체 독성이 강하여 이의 폐기에 있어서 심각한 문제등이 발생되고, 일반적으로 제조단가가 높고, 제조조건이 까다로우며, 대전성이 떨어지는등의 단점이 있다.
둘째, 유기물체의 것으로 2,4,7-트리니트로-9-후루오레논(TNF)과 폴리-N-비닐-카바졸(PVK)와 의 전하이동착체를 이용한 감광체가 있으나, 이는 감도가 낮고 가소성 및 점착성이 좋지않아 기질로부터 막이 분리되는 등, 고속복사기용 감광체로 사용하기에는 부적당하다.
셋째, 최근에는 상기와 같은 결점을 해소하기 위하여 대전성이 좋고 유독성이 없으며 저가비용으로 생산 가능한 유기감광체(Organi Photo Conductor)가 개발되고 있다. 이들은 구조상 도전성 지지체위에, 감광층으로 이루어진 것으로서, 초기에는 단층구조의 감광체가 개발되었으나(예, PVK·TNF 유기감광체), 한층에 전화발생과 전하이송이 이루어지도록 구성됨으로서 구성층이 불투명하고, 감도가 매우 낮으며, 내구력이 떨어지는 단점이 크므로 실용화(상품화)에는 극히 어려운 문제점이 있어서, 이를 극복하기 위한 계속적인 연구가 이루어지고 있다. 그 예로서 국내 공개특허번호 제91-6788호(미타고오교)에는, 전하발생재료로서 주로 페릴렌계 유기화합물과, 전하수송재료소서 m-페닐렌디아민계 화합물, 결합제 수지 그리고 페놀류 산화방지제로 구성된 단층형의 감광체가 소개되어 있으며, 여기에서는 HTF랑을 조절하면서 산화방지제로 2,6-디-t-부틸-p-크레졸 화합물을 사용하여 단층형 감광체가 산화 및 열화를 방지할 수 있는 감광체의 실시예를 통하여 언급되어 있으나, 단층구조의 감광체 특성상의 결점을 극복하지는 못하기 때문에 상품화에는 어려움이 있을 것으로 예상된다. 상기와 같은 단층구조의 감광체가 구조적인 결점을 해결하기 위하여 유기감광체의 층구조를 기능별로 구분하여 전하발생물질과 결합제로 이루어진 전하발생층(CGL)과 전하수송물질과 결합제로 이루어진 전하수송층(CTL)으로 분리형성하므로서, 각층의 특성을 필요에 따라 조절이 가능하게 되었으며, 그 결과 각층의 구성재료에 따라 고감도화가 가능케 되었으며, 내구력도 향상시킬 수 있게 되었다.
그러므로 최근에는 유기감광체의 적층구조에 관한 실용화와 기능향상에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.
이와같은 적층형의 감광층을 갖는 전자사진용 감광체는 예를 들어보면 다음과 같은 문헌에 기재되어 있다.
(1) 미국특허 제3871882호에는, 페릴렌 유도체를 함유하는 전하발생층과 옥사디아졸 유도체를 함유하는 전하수송층으로 구성된 감광체가 소개되어 있고,
(2) 미국특허 제4390698호 및 4618672호(리코)에는, 후루오레논계 비스아조안료를 함유하는 전하발생층과, 안트라센 유도체 또는 디스트릴벤젠 유도체 및 결합제를 함유하는 전하수송층으로 구성된 감광체가 소개되어 있으며,
(3) 미국특허 제4396696호(미쯔비시)에는, 옥사디아졸계 비스아조 안료를 함유하는 전하발생층과, 피라졸린 유도체 또는 히드라존 유도체 및 결합제를 함유하는 전하수송층으로 구성된 감광체가 소개되어 있으며,
(4) 미국특허 제4150987호(아이비엠)에는 크로로디안블루등 디스아조 화합물을 함유하는 전하발생층과, 히드라존 유도체 및 결합제를 함유하는 전하수송층으로 구성된 감광체가 소개되어 있으며,
(5) 미국특허 제4367273호(미쯔비시)에는, 무기계 화합물로는 세레늄등을, 또는 유기계 화합물로는 프탈로시아닌계, 페릴린계, 비스아조계 화합물등을 함유하는 전하발생층과, 히드라존 화합물과 결합제를 함유하는 전하수송층으로 구성된 감광체가 소개되어 있으며,
(6) 미국특허 제4839252호(신덴젠 등)에는, (5)와 같은 통상의 전하를 발생하는 물질과 부타디엔 화합물과 히드라존 화합물 및 결합제를 함유하는 전하수송층으로 구성된 감광체가 소개되어 있다.
이들은 모두 적층형의 전자사진용 감광체로서, 일반적인 정전잠상 형성과정을 살펴보면 다음과 같다. 감광체를 코로나 방전등에 의하여 대전시킨후 원고로부터 반사되는 광조사, 즉 노광을 하면, 조사된 광은 투명한 전하수송층을 통과하여 전하발생층중의 전하발생층물질에 흡수되며, 광을 흡수한 전하발생물질은 전하담체를 발생하고, 이 전하담체는 전하수송층에 주입되며 주입된 전하담체는 대전에 의하여 생성된 전계(electric field)에 따라 전하수송층을 통과하여 감광체의 표면으로 이동하고, 감광체표면의 전하를 중화하는 것에 의하여 정전잠상을 형성하게 된다.
상기 과정을 반복 수행하기 위한 적층형 감광체를 형성하기 위해서는 알루미늄등의 도전성 지지체 위에 적층형의 유기감광체을 형성하게 되는데, 이들의 결착 및 액의 분산성, 전기적 특성등을 위하여 전하발생층(CGL)과 전하수송층(CTL)내에 결합제를 사용하게 된다. 그러나 이들 결합제로 수지가 사용되고 있으며, 수지는 열이나 광에 의해 파괴되기 쉽고, 특히, 전자복사 과정에서 코로나 방전시 발생되는 오존(O3)에 의해 발생되어 전하수송층 표면에서 산화가 일어나고, 노광시 광원중의 자외선 조사에 의하여 광피로현상이 크게 나타나서, 산화유발은 더욱 가속화되어 결국 반복사용시 가소성이 낮아지고 노화가 일어나 대전성이 떨어지고 감도가 낮아지며 내구성이 떨어지게 된다.
이들 산화과정은 수지 분자내의 2중 결합이 오존과 반응에 의하여 오존나이드(Ozonide)를 생성시키는 것으로 시작되며 다음과 같은 자동산화 스킴을 갖는다.
따라서, 반복사용에 따른 감광체의 노화를 방지하기 위하여서는 적층형 감광층의 제조에 있어서 필수적으로 사용되는 결합제 및 전하발생물질의 산화를 방지하고 광피로를 줄일수 있는 방법이 요구된다.
[발명의 목적과 개요]
본 발명은 상기와 같은 결점을 해소하고자 고안된 것으로, 본 발명의 목적은, 적층형 전자사진 감광체에 있어서, 도전성 지지체, 상기 도전성 지지체위에 형성된 전하발생층, 상기 전하발생층위에 형성되며 광안정제를 포함하는 전하수송층으로 구성된 적층형 전자사진 감광체를 제공하고자 하는 것이며, 본 발명의 다른 목적은 도전성 지지체 위에 후레오레논 비스아조화합물계 안료와 결합제를 함유하는 전하발생층과, 1종의 광안정제와 히드라존계 화합물과 결합제를 함유하는 전하수송층으로 구성된 적층형 감광층을 갖는 고감도의 내구성이 좋은 적층형 전자사진용 감광체를 제공하는데 그 목적이 있다.
또 다른 목적은 암소에서 충분한 대전전위를 부여하며, 노광시 표면전하가 빠르게 산일하도록하여 대전, 노광, 현상, 잠상제거를 반복하는 복사과정에 있어서 이들의 과정을 반복하여도 특성이 변화하지 않는 감광체를 제공하고자 하는 것이다.
[최적태양의 상세한 설명]
즉, 본 발명은 도전성지지체 위에 전하발생층(CGL; Charge Generating Layer)과 전하발생층위에 형성되며 광안정제를 포함하는 전하수송층(CTL; Charge Transporting Layer)으로 이루어진 감광층을 갖는 적층형 전자사진 감광체에 있으며, 본 발명의 전하수송층에 광안정제로 포함될 수 있는 화합물로는 하기 구조식을 갖는 화합물로부터 선택되는 1종의 광안정제가 포함된다.
상기식에서, Z는 수소 또는 염소이고, R1는 H, C1-5의 적쇄 또는 측쇄알킬,R2는 수소, C1-8의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고, R3는 수소,R4는 수소, C1-8의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고, R5, R6, R7및 R8는 같거나 다르며,이다.
본 발명에서의 광안정제에는 벤조트리아졸류, 벤조페논류, 벤조인산에스텔류 및 디티오 카바메이트류 화합물이 속하며,
상세하게는, 2-(2-하이드록시-(5-메틸페닐)벤조트리아존, 2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸페닐)벤조트리아존, 2-[2-하이드록시-3-(3,4,5,6-테트라하이드로프탈이미드메틸)-5-메틸페닐]벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-5-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-)2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4-옥틸-6-벤조트리아졸페놀), 2,2'-메틸렌비스(3-메톡시-6-벤조일페놀), 2,4-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트 및 니켈디부틸디티오카바메이트 등이다.
바람직한 화합물로는, 구조식(Ⅰ-6)의 피릴리움염과 구조식(Ⅰ-7)의 디에틸티오유리아 등이다.
본 발명에서의 전하발생층은 전하발생물질과 결합제로 구성되는데, 전하발생층물질로는 하기 구조식을 갖는 페릴렌계, 다환퀴논계, 푸탈로시아닌계, 비스아조계 안료와 스크아릴리움계, 아즈레니움계, 티아피릴리움계 색소 화합물로부터 선택되는 1종의 이상의 안료 또는 색소화합물을 사용한다.
또한, 본 발명에서의 전하수송층은 상기한 바 있는 1종의 광안정제와 전하수송물질 및 결합제로 구성되는데, 전하수송물질로는 하기 구조식을 갖는 화합물로부터 선택된다.
본 발명에 있어서, 전하발생 및 수송물질로서 보다 바람직한 화합물은 비스아조계 안료중 하기 구조식(Ⅲ-6-1)을 갖는 후레오레논 디아조 화합물계 안료(이하 디아조안료라 한다)를 전하발생물질로 함유하고, 히드라존 염료중 하기구조식(Ⅲ-14-1)을 갖는 전하수송물질(이하, 히드라존 염료라 한다)을 함유하도록 한 것이다.
본 발명에서 사용되는 도전성 지지체로서는 동, 알루미늄, 은, 철, 닉켈등의 박 내지는 판을 쉬트(sheet)상 또는 드럼(drum)상으로 한것이 사용되며 또는 이들 금속을 프라스틱 필름등에 진공증착, 무전해도금한 것등이 사용된다.
본 발명에서 사용되는 결합제로는 전기절연성 재료를 사용하며, 이 분야에서 널리 알려진 수지 및 이들 중합체를 포함한다. 예를들면, 전하발생층용의 결합제로서는 폴리에스텔수지, 부티랄수지, 에틸셀룰로오스수지, 에폭시수지, 아크릴수지, 염화비닐수지, 폴리스틸렌수지, 폴리부타딘엔수지등이 있으며, 이들을 단독 또는 혼합하여 사용하며, 전하수송층용의 결합제 수지로는 폴리카보네이트 수지, 폴리에스텔수지, 폴리스틸렌수지, 폴리우레탄수지, 에폭시수지, 아크릴수지, 실리콘수지등이 있으며, 이들을 단독 또는 혼합하여 사용한다. 본 발명에서의 바람직한 결합제는 전하발생층에는 폴리비닐부티랄 수지를 사용하며, 전하수송층에는 폴리카보네이트 수지를 사용한다.
본 발명에서 사용되는 용매로는 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산과 같은 에델류; 메틸에틸케론, 사이클로헥산과 같은 케톤류; 톨루엔, 키시렌과 같은 방향성 탄화수소류; N,N-디메틸포름아미드, 아세토니트릴, N-메틸리폴리돈, 디메틸설폭사이드와 같은 극성 용매, 에틸아세테이트, 메틸포메이트, 메틸셀로솔브아세테이트 또는 에틸셀로솔브아세테이트와 같은 에스텔류, 디클로로에탄, 클로로포름등과 같은 염소화탄화수소가 사용될 수 있으며, 이들중 전하발생층의 형성시에는 테트라히드로푸란을 사용하는 것이 바람직하며, 전하수송층의 형성시에는 디클로로에탄과 같은 용매를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명을 수행함에 있어서, 전하발생층은 전하발생물질(CGM) 2.5중량부, 0.1∼2.0중량부의 비율로 사용하며, 이때 수지의 비율은 2.0중량부에 가까울수록 감도가 떨어지고 0.1중량부에 가까울수록 감도가 좋아지는 특성이 있다. 바람직하기로는 0.5∼1.0중량부의 수지를 사용하는 것이다. 전하발생층 형성시 용매는 120∼200중량부의 비율로 사용하며, 바람직하기로는 160∼180중량부를 사용한다.
전하발생물질은 디아조 안료는 불용성이므로 분쇄하여 사용한다.
전하수송층은 전하수송물질(CTM) 0.5∼2.0중량부, 수지 1중량부, 광안 정제로서 전하수송물질의 량에 대하여 0.01∼0.5중량%, 용매 7∼10중량부의 비율로 사용한다.
본 발명의 전하발생층의 두께는 0.05∼1.0㎛, 전하수송층은 10∼30㎛ 바람직하다.
이하 본 발명을 실시예와 더불어 설명한다.
[실시예 1]
디아조 안료 2.5중량부, 테트라히드로 푸란 170중량부, 폴리비닐 부티랄수지 1중량부를 볼밑에서 분쇄, 혼합한 후 상기 혼합액을 알루미늄이 증착된 폴리에스텔 필름상에 스핀코터로 도포시킨후 80℃에서 10분간 건조하여 0.3㎛의 전하발생층을 형성시킨다.
앞에서 제작한 전하발생층 위에 히드라존 염료 1.3중량부, 폴리카보네아트 수지 1중량부, 디클로로에탄 8중량부의 용액을 스핀코터로 도포한후 80℃에서 3시간 건조하여 두께 20㎛의 전하수송층을 형성시켜 감광체 1을 제조한다.
이와같이 제조된 감광체를 정전특성 측정기(가와구찌덴끼제, SP-428)를 이용하여 정전특성을 측정하였다. 즉, 감광체에 -5.6KV의 코로나 방전을 20초간 행하여 부대전시켜 최대 표면전위를 측정하여 Vmax(-Volt)로 하고, 그 상태에서 그대로 20초간 암소에 방치(암감쇄)시키고 그때의 표면전위를 측정하여 Vo(-Volt)로 하였으며, 계속해서 텅스텐 램프로 표면이 조도 20Lux가 되도록 광조사를 하여 그 표면전위)(Vo)를로 감쇄시키는데 소요되는 시간(sec)을 구하여 노광량으로 하였다. 또한 조도 20Lux에서 20초간 노광후의 표면 잔류전위를 측정하여 VR(-Volt)로 하였다.
이어 감광체를 -5.6KV로 대전시키고 20Lux에서 노광시키는 것을 1싸이클로 하여 1회, 1000회, 3000회, 5000회, 10000회 반복하여 상기 정전특성을 측정하였는바 1회, 5000회, 10000회 반복실험 측정치만을 표에 기재하였다.
[실시예 2]
실시예1과 동일하고, 단 전하수송층 형성시 광안정제로서 표1 실시예2에 기재된 구조식을 갖는 화합물을 전하수송 물질인 히드라존량의 0.1중량% 첨가하여 감광체 2를 만든다.
정전특성 역시 실시예1에 기재된 방법에 따라 측정하였다.
[실시예 3-10]
제조방법 및 정전측정방법은 실시예2에 따르되 실시예로 표1에 기재된 산화방지제만을 달리하여 제조 및 측정하였다.
즉, 표1에는 실시예에 따른 감광체의 제조시 사용한 광안정제의 구조식을 기재하였고, 표2에는 실시예에 따른 감광체의 Vmax(-Volt), Vo(-Volt), VR(-Volt) 및 감광체의 감도측정치를 각각 기재하였다.
[표 1]
[표 2 (실시예에 따른 산화방지제)]
표2에 기재된 측정치를 갖고 실시예1과 더불어 본원 발명의 실시예가 우월감을 간단히 설명하면, 실시예1에서는 표면전위(Vo)가 1회시보다 10000회 반복시 약 140(-Volt)의 큰 폭의 차이가 있으며, 잔류전위 및 광감도 역시 244(-Volt), 0.24(Lux·sec)의 큰 폭으로 변하고 있어 화상이 안정하지 못하고 내구성도 좋지 못한 반면, 광안정제가 함유된 본 발명의 실시예에 따라 제조된 감광체의 정전특성은 1회시부터 10000회 반복실험에 있어서도 표면전위(Vo)의 차가 실시예 1보다 같거나 적고, 잔류전위의 차도 최고 61(-Volt) 이하가 된다. 광감도의 차도 최고 0.09(Lux·sec) 이하로서, 그 변동폭이 매우 적고, 내구성 역시 우수함을 알 수 있다.
이와같이, 본 발명에 따라 제조된 감광체는, 감도가 매우 높고, 가소성이 좋으며, 대전노광에 의한 특성이 변화되지 아니하고, 내구성이 우수하다는 특장점을 갖고 있는 것이다.

Claims (23)

  1. 적층형 전자사진 감광체에 있어서, 도전성지지체, 상기 도전성지지체 위에 형성된 전하발생층, 상기 전하발생층위에 형성되며 1종의 광안정제를 포함하는 전하수송층으로 구성된 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  2. 제1항에 있어서, 광안정제는 하기 구조식(Ⅰ-1) 내지 (Ⅰ-7)을 갖는 화합물로부터 선택된 1종의 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
    상기식에서, Z는 수소 또는 염소이고, R1는 H, C1-5의 직쇄 또는 측쇄알킬,R2는 수소, C1-8의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고, R3는 수소,R4는 수소, C1-8의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고, R5, R6, R7및 R8는 같거나 다르며,
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 전하발생층은 전하발생층물질과 결합제로 형성되며, 상기 전하발생물질은 하기 구조식(Ⅱ-1) 내지 (Ⅱ-13)을 갖는 화합물로부터 선택된 1종의 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 전하수송층은 상기 산화방지제와 전하수송물질 및 결합제로 형성되며, 상기 전하수송물질은 하기 구조식(Ⅲ-1) 내지 (Ⅲ-14)를 갖는 화합물로부터 선택된 1종의 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  5. 제1항에 있어서, 전하발생층은 하기 구조식(Ⅱ-6-1)을 갖는 디안조안료 2.5중량부와 수지 0.5∼0.1중량부, 용매 160∼180중량부로 구성되며, 전하수송층은 하기 구조식(Ⅲ-14-1)을 갖는 히드라존 염료 0.5∼2.0중량부, 수지 1중량부, 용매 7∼10중량부 및 광안정제를 전하수송물질의 양에 대하여 0.01∼0.5중량%로 구성된 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  6. 제5항에 있어서, 전하발생층의 수지는 폴리비닐 부티랄 수지인 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  7. 제5항에 있어서, 전하수송층의 수지는 폴리카보네이트 수지인 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  8. 제5항에 있어서, 전하발생층의 용매는 테트라히드로푸란인 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  9. 제5항에 있어서, 전하수송층의 용매는 디클로로에탄인 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  10. 제1항, 제2항, 제5항중 어느 한 항에 있어서, 광안정제는 하기 구조식을 갖는 피릴리움염 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  11. 제1항, 제2항, 제5항중 어느 한 항에 있어서, 광안정제는 하기 구조식을 갖는 디에틸티오유리아 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  12. 제1항 또는 제5항에 있어서, 전하발생층의 두께는 0.05∼1.0㎛이고, 전하수송의 두께는 10∼30㎛임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체.
  13. 적층형 전자사진 감광체의 제조방법에 있어서, 도전성 지지체 위에 전하발생물질 2.5중량부, 결합제0.5∼1.0중량부 및 용매 160∼180중량부를 넣어 분쇄, 혼합시킨 액을 도포하여 전하발생층을 형성한후, 상기 전하발생층 위에 전하수송물질 0.5∼2.0중량부, 결합제 1중량부 및 전하수송물질의 양에 대하여 0.01∼0.5중량%의 1종의 광안정제를 용매에 7∼10중량부에 용해시켜 얻은 용액을 도포하여 전하수송층을 형성시키는 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  14. 제13항에 있어서, 광안정제는 하기 구조식(Ⅰ-1) 내지 (Ⅰ-7)을 갖는 화합물로부터 선택된 1종의 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
    상기식에서, Z는 수소 또는 염소이고, R1는 H, C1-5의 직쇄 또는 측쇄알킬,R2는 수소, C1-8의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고, R3는 수소,이며, R4는 수소, C1-8의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고, R5, R6, R7및 R8는 같거나 다르며,이다.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 전하발생층은 전하발생물질과 결합제로 형성되며, 상기 전하발생물질은 하기 구조식(Ⅱ-1) 내지 (Ⅱ-13)을 갖는 화합물로부터 선택된 1종의 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  16. 제13항 또는 제14항에 있어서, 전하수송층은 상기 광안정제와 전하수송물질 및 결합제로 형성되며, 상기 전하수송물질은 하기 구조식(Ⅲ-1) 내지 (Ⅲ-14)를 갖는 화합물로부터 선택된 1종의 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  17. 제13항 또는 제14항에 있어서, 전하발생물질은 하기 구조식(Ⅱ-6-1)을 갖는 디안조안료인 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  18. 제13항 또는 제14항에 있어서, 전하수송물질은 하기 구조식(Ⅲ-14-1)을 갖는 히드라존 염료인 것을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  19. 제13항 또는 제14항에 있어서, 광안정제는 하기 구조식을 갖는 피릴리움염 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  20. 제13항 또는 제14항에 있어서, 광안정제는 하기 구조식을 갖는 디에틸티오유리아 화합물임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  21. 제13항에 있어서, 전하발생층의 두께는 0.05∼10㎛이고, 전하수송층의 두께는 10∼30㎛임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  22. 제13항에 있어서, 전하발생층의 결합제는 폴리비닐부티랄 수지이고, 전하수송층의 결합제는 폴리카보네이트 수지임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
  23. 제13항에 있어서, 전하발생층의 용매는 테트라히드로푸란이고, 전하수송층의 용매는 디클로로에탄임을 특징으로 하는 적층형 전자사진 감광체의 제조방법.
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