KR930012030B1 - 오염액의 여과장치 및 가공기의 가공액 여과장치 - Google Patents

오염액의 여과장치 및 가공기의 가공액 여과장치 Download PDF

Info

Publication number
KR930012030B1
KR930012030B1 KR1019910008052A KR910008052A KR930012030B1 KR 930012030 B1 KR930012030 B1 KR 930012030B1 KR 1019910008052 A KR1019910008052 A KR 1019910008052A KR 910008052 A KR910008052 A KR 910008052A KR 930012030 B1 KR930012030 B1 KR 930012030B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
processing
contaminant
filtration
filter
filtration member
Prior art date
Application number
KR1019910008052A
Other languages
English (en)
Inventor
도시오 스즈끼
쯔요시 이야또미
도시히로 나가사까
Original Assignee
미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤
시기 모리야
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤, 시기 모리야 filed Critical 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤
Application granted granted Critical
Publication of KR930012030B1 publication Critical patent/KR930012030B1/ko

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H1/00Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
    • B23H1/10Supply or regeneration of working media
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/04Filters with filtering elements which move during the filtering operation with filtering bands or the like supported on cylinders which are impervious for filtering
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/70Filters with filtering elements which move during the filtering operation having feed or discharge devices
    • B01D33/72Filters with filtering elements which move during the filtering operation having feed or discharge devices for feeding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/70Filters with filtering elements which move during the filtering operation having feed or discharge devices
    • B01D33/74Filters with filtering elements which move during the filtering operation having feed or discharge devices for discharging filtrate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/80Accessories
    • B01D33/801Driving means, shaft packing systems or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/80Accessories
    • B01D33/804Accessories integrally combined with devices for controlling the filtration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/80Accessories
    • B01D33/804Accessories integrally combined with devices for controlling the filtration
    • B01D33/805Accessories integrally combined with devices for controlling the filtration by clearness or turbidity measuring
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/80Accessories
    • B01D33/804Accessories integrally combined with devices for controlling the filtration
    • B01D33/808Accessories integrally combined with devices for controlling the filtration by pressure measuring
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D36/00Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/001Filters in combination with devices for the removal of gas, air purge systems
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D36/00Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/02Combinations of filters of different kinds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

오염액의 여과장치 및 가공기의 가공액 여과장치
제1도 내지 제15도는 본 발명의 제1 내지 제15의 실시예를 도시한 것으로, 각각 a도는 모식적 구성도, b도는 그 주요부의 평면도.
제16도는 종래의 방전가공기의 가공액 여과장치의 일예를 도시한 모식적 구성도.
제17a도는 그 가동액 필터의 일부단면도.
제17b도는 제17a도의 평면도.
제18도는 종래의 가공액 여과장치의 다른 예를 도시한 모식적 구성도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 와이어 전극 2 : 피가공물
3 : 가공통 5 : 맑은 액통
11, 12 : 가공액 노즐 14 : 공급펌프
30 : 여과장치 34 : 흡인부
35 : 메시면 36 : 박스
37 : 송풍기 39 : 가공오염액 공급장치
41 : 분산기
본 발명은 오염액의 여과장치 및 가공기의 가공액 여과장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 여과부재의 수명을 연장하고, 여과장치의 운전비용을 대폭으로 삭감하고, 가공기의 가동률을 높이며, 보전이 용이한 오염액의 여과장치 및 가공기의 가공액 여과장치에 관한 것이다.
제16도는 종래의 와이어 방전가공기의 가공액 여과장치의 일예를 도시한 구성도, 제17a도는 그 가공액 필터의 구성을 도시한 일부단면도, 제17b도는 평면도이다. 도면에서, (1)은 와이어전극, (2)는 피가공물, (3)은 방전가공기의 가공통으로, 하부에 배출액관(3a)가 마련되어 있다. (4)는 가공통(3)의 아래쪽에 설치되어 가공오염액을 저장하는 오염액통(5)와 여과한 청정한 가공액을 저장하는 맑은 액통(6)으로 이루어지는 가공액 여과기, (7)는 맑은 액통(6)내에 설치된 가RHD필터로서, 가공액 필터(7)과 오염액통(5)는 파이트(8)로 연결되어 통하게 되어 있다. (9)는 파이프(8)에 마련된 여과펌프, (10)는 가공액 필터(7)내의 압력을 검출하는 압력계이다. (11),(12)는 대향하여 배치된 방전가공기의 가공액 노즐로서, 파이프(13)에 의해 맑은액통(6)과 연결되어 통하고 있으며, 파이프(13)에는 가공액의 공급펌프(14)가 마련되어 있다.
가공액 필터(7)를 상세하게 제9도에 도시한다. 이 가공액 필터(7)은 예를들면, 일본국 특허공개공보 소화 59-73234호에 개시되어 있는 바와같이, 측벽면에 다수의 가공액 통과구멍(17)이 뚫린 2중구조의 원통형상의 펀칭 메탈(15),(16) 사이에 여과부재(18)을 끼워 유지하고, 그 상하단을 중심부로 구멍을 갖는 플레이트(19),(20)으로 끼워진 구조로 되어 있다. 이 가공액 필터(7)은 플레이트(19),(20)에 마련된 구멍이 측벽면의 다수의 작은 구멍(22)가 뚫린 원통축(21)에 끼워 넣어지고, 패킹(23),(23a)에 의해 밀폐되어 너트(24)로 축고정대(25)에 고정되어 있다. 또한, 원통축(21)은 파이프(8)에 접속되어 있으며, 또 가공액 필터(7)은 통상 맑은액통(6)내에 설치되어 청정한 가공액내에 침지되어 있다.
다음에, 상기와 같은 가공액 여과기를 구비한 와이어 방전가공기의 작용에 대해서 설명한다. 와이어 방전 가공기는 피가공물(2)의 가공구멍에 끼워 통하게 된 와이어전극(1)과 피가공물(2) 사이에 전압을 인가하고, 가공액노즐(11),(12)에서 양자의 사이(극간)에 가공액을 공급하면서 방전을 발생시키고, 그 방전에너지에 의해 피가공물(2)를 가공하는 것으로, 가공에 의해 크기가 수 ㎛ 내지 수십 ㎛정도의 거의 구형상인 가공찌꺼기가 발생한다. 이 가공찌꺼기의 존재는 2차방전이나 집중방전등의 가공불안정, 와이어전극(1)의 단선등을 일으키므로, 안정된 가공을 실행하기 위해서는 극간에 공급되는 가공액이 청정하지 않으면 안된다.
공급펌프(14)에 의해 맑은액통(6)에서 파이프(13)을 거쳐서 가공액 노즐(11), (12)에 보내지고, 극간에 공급된 가공액은 가공찌꺼기를 포함한 가공오염액으로 되어 가공통(3)에서 받아들이고, 배출액관(3a)에서 배출되어 가공액 여과기(4)의 오염액통(5)에 회수된다. 그리고, 가공오염액은 오염액통(5)에서 여과펌프(9)에 의해서 가공액 필터(7)로 압송되고, 원통축(21)의 작은 구멍(22)에서 내측의 펀팅 메탈(15)의 가공액 통과구멍(17)을 통해서 여과부재(18)내로 들어가고, 여과부재(18)로 여과되어 외측의 펀칭메탈(16)의 가공액 통과구멍(17)에서 배출되어 맑은액통(6)내에 저장된다. 그리고, 공급펌프(14)에 의해 다시 극간에 공급되고, 이와 같이 하여 가공액은 순환재생된다. 또한, 통상은 극간에 공급되는 가공액 양보다 가공액 필터(7)에서 여과되는 가공액 양이 많으므로, 맑은액통(6)내의 청정한 가공액은 오염액통(5)로 오버플로하고 있다.
여과부재(18)에 막혀서 가공액 필터(7)의 내부 압력이 상승하여 여과부재(18)의 인장강도 이상으로 되면, 여과부재(18)이 파열하므로, 압력계(10)으로 가공액 필터(7)의 내부압력을 감시하고, 소정의 압력으로 되었을 때 여과부재(18)을 교환한다.
종래의 방전가공기의 가공액 여과장치는 이상과 같이 구성되어 있고, 비교적 입자지름이 큰 가공찌꺼기를 포함하는 가공오염액이 가공액 필터(7)에 보내지므로, 여과부재(18)이 자주 막히게 되고, 그때마다 교환하지 않으면 안되므로, 운전비용이 높아진다는 문제가 있었다. 또, 여과부재(18)의 교환은 맑은액통(6)에 침지되어 있는 가공액 필터(7)을 빼지 않으면 안되므로, 가공액이 비산함과 동시에 가공액 필터(7)내에 남아있는 가공오염액이 맑은액통(6)내에 썩이고, 맑은액통(6)이 청정하게 될 때까지 가공이 실행되지 않고, 여과만을 실행해야 하므로 방전가공기의 가동류을 현저하게 낮게 한다는 문제도 있다.
이와 같은 것으로 부터 여과부재의 수명을 연장하기 위해 제18도에 도시한 바와같이 오염액통(5)에 인접해서 그것과 연결되어 통하는 침전탱크(5a)를 마련하고, 가공통(3)에서의 가공오염액을 먼저 침전탱크(5a)에 저장하여 가공찌꺼기를 침전시킨후, 오염액통(5)로 이동하도록 한 것이 있다(일본국 특허 공개공보 소화 59-73235호 참조).
그러나, 이와 같은 장치에서는 입자 지름이 큰 가공찌꺼기는 비교적 침전이 잘되므로, 여과부재의 수명은 연장되지만, 침전된 가공찌꺼기를 정기적으로 배제하지 않으면 효과가 없게 되고 만다. 그러나, 가공액이나 가공찌꺼기는 산업폐기물로서 취급하지 않으면 안되므로, 하수등에 흐르게 할 수 없고, 또 함수률이 매우 높으므로, 보전, 취급이 곤란하다는 특별한 문제가 발생한다. 또, 침전탱크(5a)내의 가공오염액을 배재하면, 가공액이 그만큼 부족하여 보충하지 않으면 안되므로, 비용이 상승되고 또한 와이어 방전가공기의 경우에는 가공액의 비저항의 관리가 번거롭게 된다.
본 발명의 목적은 상기의 문제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 구조가 간단하며, 여과효율이 높은 오염액의 여과장치 및 가공액 필터의 수을 연장하여 운전비용을 절감함과 동시에 가공액 필터의 교환 빈도를 줄여서 가공기의 가동률을 향상시키고, 또 보전이 용이하며, 이상이 발생해도 즉시 이것에 대응할 수 있는 가공기의 가공액 여과장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 관한 오염액의 여과장치는 다음과 같은 수단을 구비한다.
(1) 오염액을 여과하여 재사용하는 여과장치에 있어서, 연속적으로 공급되는 시이트 형상의 여과부재, 이 여과부재에 상기 오염액을 공급하는 오염액 공급수단 및 상기 여과부재의 상면측과 하면측 사이에서 압력차를 발생시키는 압력차 발생 수단을 구비한다.
(2) 오염액을 여과기내에 마련한 필터로 여과하여 재사용하는 여과장치에 있어서, 상기 여과기 밖에 마련되어 연속적으로 공급되는 시이트형상의 여과부재, 이 여과부재에 상기 오염액을 공급하는 오염액 공급수단, 상기 여과부재의 상면측과 하면측 사이에 압력차를 발생시키는 압력차 발생수단 및 소정의 기간동안 상기 필터만으로 오염액을 여과하는 선택수단을 구비한다.
(3) 상기(1), (2)의 장치에 있어서, 상기 여과부재의 유무 및 잔량을 검출하는 검출수단을 구비한다.
(4) 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 구비한다.
또, 발명에 관한 가공기의 가공액 여과장치는 다음과 같은 수단을 구비한다.
(1) 피가공물의 가공에 의해서 발생한 가공오염액을 여과하여 재사용하는 가공기의 가공액 여과장치에 있어서, 연속적으로 공급되는 시이트형상의 여과부재, 이 여과부재에 상기 가공오염액을 공급하는 가공오염액 공급수단 공급수단, 상기 여과부재의 상면측과 하면측 사이에 압력차를 발생시키는 압력차 발생수단 및 상기 압력차에 의해서 여과부재를 통과한 가공여과액을 여과액통에 귀환시키는 귀환수단을 구비한다.
(2) 상기 장치에 있어서, 상기 가공오염액 공급수단은 상기 가공기에서 가공오염액을 받아들이고, 상기 가공오염액 공급수단은 상기 가공기에서 가공오염액 탱크에 배출된 가공오염액을 받아들이며, 상기 가공오염액 공급수단은 상기 가공기에 가공오염액을 여과부재에 공급하는 경로 및 가공오염액 탱크에 흐르게 하는 경로와 이들 양 경로를 전환하는 전환수단을 구비한다.
(3) 피가공물의 가공에 의해서 발생한 가공오염액을 여과기내에 설치한 필터로 여과하여 재사용하는 가공기의 가공액 여과장치에, 상기 여과기 밖에 마련되어 연속적으로 공급되는 시이트형상의 여과부재, 이 여과부재에 상기 가공오염액을 공급하는 가공오염액 공급수단, 상기 여과부재의 상면측과 하면측 사이에서 압력차를 발생시키는 압력차 발생수단, 상기 압력차에 의해서 여과부재를 통과한 가공여과액을 상기 여과기에 귀환시키는 귀환수단 및 소정의 기간 동안 상기 필터만으로 가공액을 여과하는 선택수단을 구비한다.
(4) 상기(1)~(3)의 장치에 있어서, 상기 여과부재의 유무 및 잔량을 검출하는 검출수단을 구비한다.
(5) 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 구비한다.
본 발명에 관한 오염액의 여과장치에 있어서, 오염액 공급수단에 의해 여과부재에 공급된 오염액은 여과부재의 상면측과 하면측 사이에서 발생하는 압력차에 의해 여과부재를 통과한다. 이 때, 여과부재에 포함되는 이물질은 여과부재에 의해 포착되어 청정한 액체로 된다.
한편, 여과부재는 연속적으로 공급되므로, 막힘이 발생하지 않고 항상 안정된 여과가 실행된다.
또, 여과기내에 필터를 구비한 경우는 필터의 수명을 연장할 수 있을 뿐만 아니라 소정의 시간 동안 여과부재에 의한 여과를 정지시켜 필터만으로 오염액을 여과하는 것에 의해 필터의 프리코팅을 실행한다.
또, 여과부재의 유무, 잔량을 검출하거나 또는 여과부재의 공급속도를 제어하는 것에 의해 무리와 낭비없이 여과부재를 공급하여 오염액을 여과한다.
또, 본 발명에 관한 가공기의 가공액 여과장치에 있어서, 가공액 공급수단에 의해 가공기 또는 가공오염액 탱크에서 공급된 가공오염액은 시이트형상의 여과부재에 의해서 가공찌꺼기가 포착되고, 여과부재를 통과한 가공오염액은 맑은액통 또는 가공오염액 탱크로 이동된다.
또, 여과기내에 필터를 구비한 경우는 소정의 시간동안 여과부재에 의한 여과를 정지시켜 필터만으로 오염액을 여과하는 것에 의해, 필터의 프리코팅을 실행한다.
또, 여과부재에 가공오염액을 공급하는 경로, 가공오염액 탱크에 가공오염액을 흐르게 하는 경로 및 이들 양 경로의 전환수단을 마련한 경우는 가공기에서 다량의 가공오염액이 배출되고, 또는 여과부재가 없어지며, 또는 압력차 발생수단에 이상이 발생했을 때에는 전환수단에 의해 경로를 가공오염액 탱크측으로 전환하여 여과부재로의 가공오염액의 공급을 정지한다.
또, 여과부재의 유무, 잔량을 검출하거나 또는 여과부재의 공급속도를 제어하는 것에 의해, 무리와 낭비 없이 여과부재를 공급하여 오염액을 여과한다.
본 발명의 상기 및 그밖의 목적과 새로운 특징은 본 명세서의 기술 및 첨부도면으로 명확하게 될 것이다.
이하 본 발명의 구성에 대해서 실시예와 함께 설명한다.
또, 실시예를 설명하기 위한 모든 도면에서 동일한 기능을 갖는 것은 동일한 부호를 붙이고 그 반복적인 설명은 생략한다.
제1a도는 본 발명의 실시예의 구성도, 제1b도는 그 주요부의 평면도이다. 또한, 제17도에서 설명한 종래예와 같은 부분에는 같은 부호를 붙이고 설명을 생략한다.
도면에서, (30)은 여과장치이며, (31)은 여과지, 부직포 등으로 이루어지고, 롤형상으로 감겨져서 공급부에 세트된 시이트형상의 여과부재, (32)는 모터(33)으로 구동되어 흡인부(34)를 통관한 여과부재(32)를 감는 감기롤이다. (36)은 흡입부(34)의 하부에 마련되고, 상면에 메시면(35)가 형성된 박스이며, 여과부재(31)는 메시면(35)에 접해서 보내진다. (37)은 박스(36)에 연결되고, 맑은액통(6)상으로 열려진 파이프(38)에 마련된 송풍기로서, 본 실시예에서는 액체 기체의 양자를 흡인할 수 있는 예를들면, 니슈송풍기를 사용하고 있다. 또한, 감기롤(32)를 구동하는 모터(33) 및 송풍기(37)은 여과펌프(9) 및 공급펌프(14)와 연동하고 있다.
(39)는 가공오염액 공급장치로서, 가공통(3)의 배출액관(3a)에 연결된 호스(40)과 여과부재(31)상에 가공오염액을 분산시키는 분산기(41)로 이루어져 있다.
다음에, 상기와 같이 구성된 본 실시예의 작용을 설명한다. 가공이 개시되어 가공액이 극간에 공급되며, 모터(33)이 작동하여 여과부재(31)은 감기롤(32)에 감겨지고, 소정의 속도로 흡인부(34)의 메시면(35)상을 이동한다. 이때, 송풍기(37)도 작동을 개시한다. 가공에 의해 극간에서 발생한 가공찌꺼기를 포함한 가공오염액은 가공통(3)에서 배출액관(3a)를 거쳐서 호스(40)에 도입되고, 분산기(41)에 의해 메시면(35)에 분산 배출된다. 메시면(35) 아래에 마련된 박스(36)내는 송풍기(37)에 의해 부압상태로 되어 있으므로, 가공오염액은 공기와 함께 여과부재(31)을 통해서 박스(36)내에 흡입된다. 이때, 가공오염액에 포함되는 가공찌꺼기 중, 여과부재(31)의 그물코보다 큰 것은 여과부재(31)를 통과할 수 없어 여과부재(31)에 포착된다. 여과부재(31)은 소정의 속도로 감겨져서 이동하여 여과시 여과부재가 막히지 않으므로, 항상 같은 상태에서 안정된 여과가 실행된다.
여과부재(31)로 여과되어 가공찌꺼기가 제거된 가공오염액은 가공찌꺼기가 거의 없는 청정한 가공액으로 재생되고, 송풍기(37)에 의해 맑은액통(6)으로 귀환된다.
감기롤(32)에 감겨진 사용이 끝난 여과부재(31)은 흡인장치로, 흡인되어 액체를 거의 포함하고 있지 않으므로 처리가 매우 용이하며, 가연성의 여과부재(31)을 사용하면 소각처리도 가능하다.
또한, 상기의 설명에서는 여과장치(30)에서 여과된 가공액을 맑은액통(6)으로 귀환시키는 경우에 대해서 설명했지만, 피가공물을 초별가공하는 경우와 같은 가공찌꺼기가 클 때, 가공찌꺼기는 여과부재(31)에 의해 거의 포착되어 청정한 가공액이 얻어지므로, 특별한 문제는 없다. 그러나, 마무리 가공과 같이 가공찌꺼기가 미세한 경우는 여과부재(31)로 충분하게 여과할 수 없는 일이 있다. 이와 같은 경우는 여과장치(30)에서 여과된 가공액을 제16도에 도시한 바와같은 가공액 여과기(4)의 필터(7)에 공급하고, 이 필터(7)에 의해 다시 여과하도록 해도 좋다.
제2a도는 본 발명의 제2의 실시예의 구성도, 제2b도는 그 평면도이다. (43)은 메시면(35)의 양측에 스프로킷 구멍을 갖는 벨트(44)가 부착된 무한의 메시부재로서, 시이트형상 여과부재(31)과 박스(36) 사이에 마련되어 모터(33a)로 구동도는 스프로킷(45)에 의해 화살표 방향으로 주행한다. (42)는 사용이 끝난 여과부재(31)를 수용하는 박스이다.
상기와 같은 본 실시예에서 가공이 개시되면, 메시부재(43)은 스프로킷(45)로 구동되어 화살표 방향으로 이동한다. 이때, 여과부재(31)는 송풍기(37)에 의해 흡인되고, 그 흡인력에 의해 메시부재(43)에 밀착되므로, 메시부재(43)의 이동에 따라서 여과부재(31)도 화살표 방향으로 이동하고, 사용이 끝난 여과부재(31)은 박스(42)내로 낙하하여 수용된다. 또한, 사용이 끝난 여과부재(31)은 감기롤에 감기도록 해도 좋다.
상술한 실시예에서, 박스(36)의 상면은 개방해도 좋고 또는 메시면(35)를 마련해도 좋다. 또, 주행하는 메시부재(43)의 미끄러짐을 원활하게 하기 위해, 박스(36)과 간격을 두어 배치하거나 또는 양자 사이에 굴대를 배치해도 좋다.
제3a도는 본 발명의 제3의 실시예의 구성도, 제3b도는 그 주요부의 평면도이다. 상술한 제1, 제2의 실시예(제1도, 제2도)에서는 기체, 액체의 양자를 흡인할 수 있는 송풍기(37)을 사용한 경우를 나타냈지만, 본 실시예는 루우트 송풍기와 같이 기체만을 흡인하는 송풍기(37a)를 사용한 것이다. 본 실시예에서는 가공액 여과기(4)의 오염액통(5)와 연이어 통하는 가공오염액 저장소(47)을 오염액통(5)에 근접해서 설치함과 동시에, 일부가 이 안에 삽입된 기체 액체 분리탑(46)을 마련하고, 송풍기(37a)의 흡입측을 기체 액체 분리탑(46) 상부에 접속하고, 박스(36)과 기체 액체 분리탑(46) 상부(단, 송풍기(37a)와의 접속부보다 아래쪽)을 파이프(38a)로 접속한다.
이와 같이 구성된 본 실시예에서는 박스(36)내의 가공오염액과 공기는 송풍기(37a)의 흡인에 의해서 기체 액체 분리탑(46) 상부에 도입되고, 가공오염액은 자중에 의해 가공오염액 저장소(47)내로 낙하하고, 공기는 송풍기(37a)의 흡출축에 배출된다. 가공오염액 저장소(47)내에 고인 가공오염액은 오염액통(5)에 유입되고, 가공액 필터(7)에 의해서 청정한 가공액으로 재생된다.
제4a도는 본 발명의 제4의 실시예의 구성도, 제4b도는 그 주요부의 평면도이다. 본 실시예에서는 가공통(3)의 배출액관(3a)를 오염액통(5)상에 열어서 가공통(3)에서의 가공오염액을 오염액통(5)에 유입시킴과 동시에, 한끝이 오염액통(5)내에 침지된 파이프(48)에 흡상펌프(49)를 접속하고, 다른 끝을 흡인부(34)위에 마련된 분산기(41)에 연결한 것이다.
상기와 같이 구성된 본 실시예에서, 가공액 여과기(4)의 운전을 명령하면, 모터(33)이 구동되어 여과부재(31)는 감기롤(32)에 감겨지고, 소정의 속도로 흡인부(34)의 메시면(35)상을 이동함과 동시에, 송풍기(37) 및 흡상펌프(49)도 작동을 개시한다. 가공에 의해 극간에 발생된 가공찌꺼기를 포함한 가공오염액은 배출액관(3a)에서 오염액통(5)로 유입된다. 한편, 흡상펌프(49)는 오염액통(5)내의 가공오염액을 끌어올리고, 파이프(48)를 거쳐서 분산기(41)에 보내어 여과부재(31)상에 분산 배출한다. 큰 가공오염액가 여과부재(31)에 의해서 제거된 가공오염액은 파이프(38)을 거쳐서 오염액통(5)에 귀환된 후, 제16도의 종래예에서 설명한 작용에 의해 맑은액통(6)에서 청정한 가공액으로 재생된다.
상기의 설명에서는 여과장치(30)에서 여과된 가공오염액을 오염액통(5)로 귀환시키고, 이것을 여과펌프(9)에 의해 필터(7)에 공급하는 경우를 나타냈지만, 제1의 실시예(제1도)에서 설명한 바와같이, 가공여과액을 맑은액통(6)으로 귀환하도록 해도 좋고, 또는 제4도에 점선으로 나타낸 바와 같이 가공여과액을 필터(7)에 공급하여 다시 여과하도록 해도 좋다.
제5도는 본 발명의 제5의 실시예를 도시한 것이다. 본 실시예에서는 가공에 의해 발생된 가공오염액을 오염액통(5)에 유입시키고, 오염액통(5)에서 흡상펌프(49)로 끌어올린 가공오염액을 파이프(48)을 거쳐서 분산기(41)에 공급하도록 한 것으로, 여과장치(30) 및 기체 액체 분리탑(46)의 작용은 제3의 실시예(제3도)의 경우와 마찬가지이다.
제6도는 본 발명의 제6의 실시예를 도시한 것으로, 가공통(3)에서의 가공오염액을 오염액통(5)에 유입시킴과 동시에, 흡상펌프(49)를 갖는 파이프(48) 및 기체 액체 분리탑(46)을 오염액통(5)의 오염액내에 침지한 것이다.
제7도는 본 발명의 제7의 실시예를 도시한 것으로, 가공액 여과장치(4) 및 여과장치(30)은 제4의 실시예(제4도)의 경우와 같다. (50)은 가공통(3)내에 설치된 간막이판이며, 하부에는 가공액이 이동할 수 있도록 열림부(50a)가 마련되어 있다. (51)은 방전가공기의 제어장치(도시하지 않음)에서의 신호에 의해서 작동하는 실린더(52)로 구동되어 간막이판(50)의 열림부(50a)를 개폐하는 게이트이다. (53)은 가공통(3)의 배출액관(3a)에 접속되어 한 끝이 오염액통(5)내에 열려있고, 다른 끝이 흡인구(34)의 여과부재(31)상에서 분산기(41)에 접속된 파이프로서, 배출액관(3a)와의 접속부의 양측에는 전자 밸브(54), (55)가 마련되어 있다.
(56)은 방전가공기의 제어장치에 접속된 경로전환용의 제어기로서, 여과부재(31)상에 마련된 투과식 또는 반사식과 같은 광센서(58)과 파이프(38)에 마련되어 흡인장치(30)에서 발생하는 부압을 측정하는 부압계(59)에서의 신호가 가해지고, 또 그 출력신호는 전자밸브(54),(55)에 가해진다.
다음에, 상기와 같이 구성된 본 실시예의 작용을 설명한다. 가공이 개시되어 가공액이 극간에 공급되면, 모터(33)이 작동해서 여과부재(31)은 감기롤(32)에 감겨지고, 소정의 속도로 흡인부(34)의 메시면(35)에 따라서 이동하고, 송풍기(37)도 동작을 개시한다. 통상의 가공시, 전자밸브(54)는 열림, 전자밸브(55)는 닫힘으로 되어 있으며, 가공에 의해 극간에서 발생된 가공찌꺼기를 포함하는 가공오염액은 배출액관(3a)에서 전자밸브(54)를 거쳐서 분산기(41)에 공급되어 내지 그 수용액과, b) 황산암모늄 및 산성황산암모늄의 수용액으로 구성되는 군에서 선택한 최소한 1개의 약제를, 화로출구로부터 하류의 온도 500℃ 이하의 하류역에 살포하고, 제2단계의 탈황반응을 일으키게하는 공정을 구비한 배출가스처리 공정과, 화로의 하류연도에 설치된 배출가스 세정장치에 의하여 배출가스처리 공정에서 나오는 미반응의 암모니아 또는 생성된 황산암모늄 내지 산성황산 암모늄을 포착회수하는 약제회수 공정으로 구성된다.
제2의 로내동시 탈황탈질 방법은 바람직하기로는 상기 약제회수 공정에 있어서 회수된 암모니아 또는 황산암모늄 내지 산성황산암모늄 수용액을 생석회 또는 소석회와 슬러리상 또는 분말상으로 반응정석조내에서 반응시키고, 암모니아분을 수증기 함유가스로서 회수하여 황산근(根) 내지 산화 황산근을 칼슘이온과 반응시켜서 석고를 석출시키는 암모니아회수·석고정석 공정을 포함하고 있다.
또, 제2의 로내동시 탈황탈질방법은 바람직하기로는 상기 암모니아 회수.석고정석 공정으로 회수된 수증기 함유암모니아 가스를 압축 및 냉각함으로써 암모니아수로 만드는 암모니아수 생성공정을 포함하고 있다.
또, 제2의 로내동시 탈황탈질로써 여과포(48a)가 상호 접착되는 것을 확실하게 방지해줄 수가 있고, 또 진동부재(41)에 진동판부(41n)를 설치하여 용이하게 진동시켜줄 수가 있기 때문에, 여과포(48a)를 진동시켜줌으로써 진동부재(41)와 여과포(48a)를 접촉시켜 여과포(48a)의 그물눈에 끼인 찌꺼기(14)를 제거시켜주고, 그에따라, 여과포(48a)의 눈이 막히는 것을 방지해 줄수가 있으며, 또한 상기 진동부재(41)는 여과포(48a)에 대해 원액공급판(49)과 일체로 부착될 수 있으므로 조립공정이 극히 단순해지게 되는 장점을 갖는다.
또 다른 병형예로는 제23도와 같이 진동부재(41)의 테두리 단면을 내주연으로 향할수록 얇아지도록 형성시켜주어도 좋고, 또 진동부재(41)를 제24, 25도와 같이 합성수지로 만들어 주면서 원액공급판연결부(41n)를 역 U자형으로 형성시켜주면서 상기 연결부(41n)에다 격판(41p)을 통해 자형의 진동판부(41o)를 일체로 형성시켜줌으로써, 원액 공급구 연결부(41n)의 아래로 열려진 개방부(41q)에 의해 원액의 유통을 양호하게 해주는 한편 연결부(41n)의 아래쪽을 제외한 나머지 외주부분에서 대향하는 여과포(48a)의 간격을 충분히 유지시켜줄 수 있으며, 진동판부(41c)의 진동에 의해 여과포([에 여과장치(30)에서의 가공오염액의 오버플로, 여과부재(31)의 이동, 정지등을 검출해서 제어기(56)에 가하여 가공오염액의 경로의 전환을 실행하도록 해도 좋다.
제8도는 본 발명의 실시예를 도시한 것으로, 가공액 여과기(4) 및 여과장치(30)은 제4의 실시예(제4도)의 경우와 마찬가지이다. (61)은 감기롤(32)에 부착된 엔코더로서, 그 출력신호는 카운터(62)에 가해지고, 카운터(62)의 계수값은 표시기(63)에 표시된다. (56)은 제어기로서, 여과부재(31)과 대향 배치되어 여과부재(31)의 유무를 검출하는 광센서(65)의 출력신호가 가해지고, 그것에 대응한 신호를 흡상펌프(49)에 출력함과 동시에, 그 출력신호는 가공기 제어장치에 가해진다.
그런데, 상술한 각 실시예에서는 시이트형상의 여과부재(31)이 없어진 경우라도 여과장치(30)은 그대로 작동을 계속하고, 가공오염액은 여과되지 않은 채로 맑은액통(6)으로 보내진다. 와이어 방전가공기의 경우, 가공기가 여과되지 않고 가공을 계속하면, 가공액중의 가공찌꺼기 때문에 2차 방전이나 집중방전등이 발생하여 와이어전극의 단선등을 일으키므로, 안정된 가공을 할 수 없다는 불합리가 발생한다.
또, 여과부재(31)의 나머지의 사용 가능량 또는 사용가능 시간을 확인하는 수단이 없으므로, 작업자는 여과부재(31)의 교환시간을 정확하게 알 수가 없어 가공중에 여과부재(31)의 유무를 여러번 확인하지 않으면 안된다.
본 실시예에서, 감기롤(32)의 회전은 엔코더(61)로 검출되고, 여과부재(31)의 사용량 또는 잔량을 카운터(62)로 계산하여 표시기(63)에 표시한다. 또, 광센서(65)에 의해 여과부재(31)의 유무를 검출하고, 여과부재(31)이 없어진 것을 검출하면 그 신호를 제어기(56)으로 보내고, 흡상펌프(49)를 즉시 정지시킴과 동시에, 가공기 제어장치에 보내진 신호에 의해 모터(33) 및 송풍기(37)을 정지시킨다. 이 경우, 여과장치(30)이 정지하여도 가공액 필터(7)에 의해 가공오염액의 여과를 실행하고 있으므로, 가공을 중단하는 일 없이 새로운 여과부재(31)를 세트해서 여과장치(30)를 다시 작동시킬 수가 있다.
제9도는 본 발명의 제9의 실시예를 도시한 것이다. 본 실시예의 오염액통(5)은 맑은액통(6)에서 떨어진 위치에 설치되어 있고, 가공액 필터는 마련되지 있지 않지만, 여과장치(30)은 제4의 실시예(제4도)의 경우와 마찬가지이다. (66a)(66b)는 도전재료로 이루어진 롤러로서, 여과부재(31)을 끼워 대향해서 배치되어 있으며, 양 롤러(66a)(66b)는 각각 제어기(56)에 접속되고, 제어기(56)의 출력은 송풍기(37), 흡상펌프(49) 및 가공 제어장치(도시하지 않음)로 보내진다. (61)은 한쪽의 롤러(66a)에 부착된 엔코더, (62)는 카운터, (63)은 표시기이다.
본 실시예에서, 롤러(66a)(66b) 사이에 여과부재(31)이 존재하면, 양 롤러(66a)(66b)는 절연상태로 있지만, 여과부재(31)이 존재하지 않게 되면, 양 롤러(66a)(66b)는 접촉하여 도통상태로 된다. 따라서, 제어기(56)에서 여과부재(31)의 유무(도전의 유무)를 판단하고, 여과부재(31)이 없을때는 송풍기(37) 및 흡상펌프(49)를 정지시킴과 동시에 가공기 제어장치에 신호를 보내 정지시킨다.
또, 엔코더(61)에 의해 여과부재(31)이 보내는 양을 구할 수가 있다. 또 가공기 제어장치에 나머지의 가공시간의 정보를 받아들이고, 그 값으로 가공에 필요한 여과부재(31)의 길이를 추정하여 표시할 수도 있다. 또, 이 추정된 여과부재(31)의 필요량과 엔코더(61)에서 검출된 여과부재(31)의 잔량을 비교하여 여과부재(31)이 부족하다고 판단했을 때는 경보를 여과부재(31)의 교환을 재촉할 수도 있다.
제10도는 본 발명의 제10의 실시예를 도시한 것으로, 여과장치(30)의 구조는 제2의 실시예(제2도)와 마찬가지이다. (65)는 여과부재(31)에 근접하여 배치된 광센서, (67)은 배출액관(3a)의 도중에 마련된 전자밸브, (64)는 제어기이며, 광센서(65)의 출력신호는 제어기(56)에 가해지고, 제어기(56)의 출력신호는 전자밸브(67) 및 가공기 제어장치(도시하지 않음)에 보내진다. (61)은 스프로킷(45)를 구동하는 모터(33a)에 부착된 엔코더, (62)는 카운터, (63)은 표시기, (68)은 경보기이다.
또, 광센서(65)에서 여과부재(31)가 없는 것을 검출하면, 그 신호는 제어기(56)으로 보내지고, 제어기(56)의 전자밸브(67)을 닫음과 동시에, 가공기 제어장치에 신호를 보내 가공기의 가공을 정지시키고 여과부재(31)을 교환한다.
한편, 엔코더(61) 및 카운터(62)에 의해 여과부재(31)의 공급량을 구하고, 여과부재(31)이 어느 일정량 이하로 되면, 경보기(69)에 의해 부저를 울리거나 또는 경보등을 점등한다. 경보등을 회전등으로 하면 작업자의 확인이 더욱 용이하다.
상기의 설명에서는 여과부재(31)의 유무 및 잔량의 검출을 엔코더(61), 광센서(65) 또는 도전성롤러(66a)(66b)로 실행하는 경우를 나타냈지만, 다른 수단을 사용해도 좋다.
제11도는 본 발명의 제11의 실시예의 설명도로서, 그 구성은 제1의 실시예와 대략 마찬가지이다. 본 실시예에서는 감기롤(32)를 구동하는 모터(33a)를 제어기(56)에 의해서 속도가 제어되는 가변속모터로 한 것으로, 가변속모터(33a)로의 속도 명령을 가공기 제어장치(70)에서의 프로그램명령 또는 수동에 의해 실행하도록 한 것이다.
방전가공에서, 가공에 의해 단위시간당 국간에서 발생하는 가공찌꺼기의 양은 투입되는 가공에너지에 비례한다. 가공에너지는 가공전원(도시하지 않음)의 파라미터, 예를들면 인가전압값, 전류펄스폭, 전류파고값, 정지시간 등을 목적에 맞춰 설정하는 것에 의해 결정되고, 파라미터는 가공기 제어장치(70)에서 가공전원으로 명령된다. 이들 파라미터는 피가공물(2)의 재질, 판두께, 와이어전극(1)의 지름, 바라는 가공속도등으로 결정되고 그 데이타는 전기조건열로서 번호가 붙혀지며 가공기 제어장치(70)에 기억되어 있다. 따라서 가공프로그램중에서 바라는 전기조건열에 대응하는 번호를 호출하면, 그 전기조건열이 자동적으로 세트되어 가공이 실행된다. 이 전기조건열의 파라미터의 하나로서 가변속모터(33a)의 속도를 규정해 두고, 가공전원에 전기조건 파라미터를 보낼때 가변속모터(33a)의 제어기(56)으로 속도 명령을 보낸다. 가변속모터(33a)의 속도의 값은 전기조건열에 의한 가공찌꺼기의 발생량과 여과부재(31)의 포착 능력으로 결정할 수 있고, 또는 실험적으로 구할 수가 있다. 물론, 제어기(56)으로 수동으로 직접 속도 명령을 보내도 좋다.
본 실시예에서, 여과부재(31)은 상술한 파라미터에 의해 결정된 속도로 감겨져서 이동하여 여과시 여과부재의 막힘이 발생하지 않으므로, 항상 같은 상태에서 안정된 여과를 실행할 수가 있다.
제12도는 본 발명의 제12의 실시예이며, 본 실시예는 배출액관(3a)에 근접해서 광센서(65)를 마련하고, 그 출력신호를 제어기(56)에 가하도록 한 것이다. 광센서(65)는 배출액관(3a)를 통과하는 가공오염액의 오탁도를 검출하여 그것을 제어기(56)으로 출력한다. 오탁도가 높을때는 가공오염액내의 가공찌꺼기가 많으므로, 여과부재(31)이 막히지 않도록 제어기(71)은 가변속모터(33a)의 속도를 높게 설정하고, 오탁도가 낮을 때는 가공찌꺼기가 적으므로, 여과부재(31)을 절약하기 위해 가변속모터(33a)의 속도를 낮게 설정한다.
제13도는 본 발명의 제13의 실시예이며, 본 실시예는 박스(36) 하류측에 광센서(65)를 설치하고, 사용이 끝난 여과부재(31)의 막힘 여부를 검출하여 그 출력신호를 제어기(56)으로 보내도록 한 것이다.
본 실시예에서는 미리 제어기(56)에 여과부재(31)의 최적한 여과상태의 기준값을 설정해 두고, 광센서(65)의 출력이 그 기준값에 가깝도록 가변속모터(33a)의 속도를 제어하여 무리와 낭비없이 여과부재(31)의 공급을 실행하도록 한 것이다.
제14도는 본 발명의 제14의 실시예로서, 파이프(38)에 박스(36)내의 부압을 측정하는 부압계(72)를 마련하고, 그 출력을 제어기(56)에 가하도록 한 것이다.
본 실시예에서, 가변속모터(33a)의 속도가 가공오염액내의 가공찌꺼기량에 대응하지 않고, 지나치게 낮은 경우는 여과부재(31)에 막힘이 발생하여 박스(36)내의 부압이 상승하고, 또 가공찌꺼기 양이 적어 여과부재(31)의 막히지 않으면 공기의 흡인량이 많아지므로, 부압은 저하한다. 제어기(56)에 최적부압(즉, 적절한 여과상태)의 기준값을 미리 설정해 두고, 부압계(72)의 출력을 기준값에 가깝도록 가변속모터(33a)의 속도를 제어하는 것에 의해 무리와 낭비없이 여과부재(31)을 공급할 수 있다.
또한, 제3(제3도), 제4(제4도), 제5(제5도), 제6(제6도) 및 제7(제7도)의 실시예에서도 상술한 제11의 실시예(제11도)와 마찬가지로 모터(33)을 가변속모터로 하고, 제어기(56)으로 여과부재(31)의 속도를 제어할 수가 있다. 또, 제12의 실시예(제12도)와 같이 배출액관(3a)를 통과하는 가공오염액의 오탁도를 검출하거나 또는 제13의 실시예(제13도)와 같이 사용이 끝난 여과부재(31)의 막힘 상태를 검출하고, 더 나아가서는 제14의 실시예(제14도)와 같이 박스(36)내의 부압을 검출하여 여과부재(31)의 속도를 제어하도록 해도좋다.
제15도는 본 발명의 제15의 실시예를 도시한 것으로, 가공액 여과장치(4) 및 여과장치(30)은 제4의 실시예(제4도)의 경우와 마찬가지이다. (70)은 가공액 필터(7)의 압력을 감시하는 압력계(10), 여과펌프(9), 공급펌프(14) 및 제어기(56)이 접속된 가공기 제어장치이며, 제어기(56)은 감기롤(32)를 구동하는 모터(33), 송풍기(37) 및 흡상펌프(49)를 제어한다.
상기와 같은 오염액의 여과장치는 통상 제4(제4도)의 실시예와 마찬가지의 작용으로 가공오염액을 청정한 가공액으로 재생한다.
그런데 가공액필터(7) 또는 여과부재(18)을 새로운 것으로 교환했을 당시의 미세한 가공찌꺼기는 필터(7)을 통과하게 되므로, 고정밀도인 여과를 실행하기 위해 프리코팅하지 않으면 안된다. 가공액 필터(7)이 프리코팅되어 있지 않은 상태에서, 압력계(10)의 값은 낮다. 그래서 이것을 수신한 가공기 제어장치(70)은 압력값이 소정값으로 될때까지 여과장치(30)을 선택하지 않은 명령을 제어기(56)에 명령하고, 제어기(56)은 이 명령을 받았을때 모터(33), 송풍기(37) 및 흡상펌프(49)에 명령하여 작동을 정지시키고, 가공오염액의 여과를 가공액필터(7)만으로 실행시킨다. 가공액필터(7)의 프리코팅이 진행하여 압력값이 소정값에 도달했을때는 압력계(10)의 출력신호에 의해 가공기 제어장치(70)에서 제어기(56)에 운전의 명령을 출력하고, 모터(33), 송풍기(37) 및 흡상펌프(49)를 작동시켜서 여과장치(30)의 운전을 개시한다.
또한 도시하지 않지만, 상술한 각 실시예에서도 가공액 여과장치(4)에 가공액 필터(7)을 구비한 것이 있으면, 본 실시예를 실시할 수가 있다.
상술한 설명에서는 본 실시예를 피가공물을 가공액중에 침지하여 가공을 실행하는 방전가공기에 본 실시예를 실시한 경우를 나타냈지만, 피가공물을 가공액중에 침지하지 않은 것으로 가공하는 방전가공기에도 실시할 수가 있다.
이상 본 발명을 와이어 방전가공기에 실시한 경우의 실시예에 대해서 상세하게 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 가공액을 사용하는 형조각 방전가공기, 그라인더, 초음파 가공기등의 가공기에도 실시할 수가 있다.
또, 상기의 각 실시예는 여과장치(30)에 공급된 가공오염액을 송풍기(37)로 흡인하는 경우를 나타냈지만, 여과부재(35)의 상면을 예를들면, 박스로 덮고, 이 박스내에 압력을 가하여 가공오염액을 밀어내도록 해도 좋고, 아무튼 여과부재의 상면측과 하면측 사이에 압력차를 발생하도록 하면 좋다.
이상의 설명에서 명백한 바와 같이, 본 발명에 관한 오염액의 여과장치는 연속적으로 공급되는 시이트형상의 여과부재를 통하여 오염액을 추출하고, 오염액중에 포함되는 이물질을 여과부재에 포착시키도록 했으므로, 구조가 간단하며, 여과효율이 높고 또 여과부재의 처리가 용이한 오염액의 여과장치를 얻을 수가 있다.
또, 여과기내에 필터를 구비한 경우는 소정의 시간 동안 여과부재에 의한 여과를 정지하여 필터만으로 오염액을 여과하는 것에 의해 필터를 프리코팅할 수가 있다.
또, 여과부재의 유무, 잔량등을 검출하고 또는 여과부재의 공급속도를 제어하는 것에 의해 무리와 낭비없이 여과부재를 공급하여 안정된 오염액의 여과를 실행할 수가 있다.
또, 본 발명에 관한 가공기의 가공액 여과장치는 구조가 간단하여 여과효율이 좋고, 또 막힘이 발생하지 않으므로 가공기의 가동률을 높일 수가 있다.
또, 여과기내에 필터를 구비한 경우는 필터의 수명을 연장하여 운전비용을 저감할 뿐만 아니라 소정의 시간동안 여과부재에 의한 여과를 정지하여 필터만으로 오염액을 여과하는 것에 의해 필터의 프리코팅을 실행할 수 있으므로, 단시간으로 고정밀도와 가공이 가능하게 되며, 필터의 교환횟수의 감소와 함께 가공기의 가동률을 향상할 수가 있다.
또, 여과부재의 유무나 잔량을 검출하고 또는 여과부재의 공급속도를 제어하는 것에 의해 여과부재를 적절히 공급하고, 또 최적상태로 가공오염액을 여과할 수 있으므로, 운전비용을 저감하고 가공정밀도를 향상할 수가 있다.
또, 가공오염액을 직접 가공오염액의 탱크에 흐르도록 전환되도록 했으므로, 다량의 가공오염액이 배출되거나 여과부재가 없게 되고 또는 압력차 발생수단에 이상이 발생한 경우는 가공오염액을 직접 가공오염액 탱크에 흐르도록 전환하는 것에 의해 가공을 중단하는 일 없이 계속 가공을 실행할 수가 있다. 이 때문에 가동률을 더욱 향상시킬 수가 있다.
이상 본 발명자에 의해서이루어진 발명을 상기 실시예에 따라 구체적으로 설명했지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러가지로 변경가능한 것은 물론이다.

Claims (19)

  1. 오염액을 여과하여 재사용하는 여과장치에 있어서, 연속적으로 공급되는 시이트형상의 여과부재, 이 여과부재에 상기 오염액을 공급하는 오염액 공급수단 및 상기 여과부재의 상면측과 하면측 사이에서 압력차를 발생시키는 압력차 발생수단을 구비한 것을 특징으로 하는 오염액의 여과장치.
  2. 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 또 상기 여과부재의 유무 및 잔량을 검출하는 검출수단을 포함하는 오염액의 여과장치.
  3. 특허청구의 범위 제1항 또는 제2항에 있어서, 또 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 포함하는 오염액의 여과장치.
  4. 오염액을 여과기내에 설치한 필터로 여과하여 재사용하는 여과장치에 있어서, 상기 여과기 밖에 마련되어 연속적으로 공급되는 시이트 형상의 여과부재, 이 여과부재에 상기 오염액을 공급하는 오염액 공급수단, 상기 여과부재의 상면측과 하면측 사이에서 압력차를 발생시키는 압력차 발생수단 및 소정의 기간동안 상기 필터만으로 오염액을 여과하는 선택수단을 구비한 것을 특징으로 하는 오염액의 여과장치.
  5. 특허청구의 범위 제4항에 있어서, 또 상기 여과부재의 유무 및 잔량을 검출하는 검출수단을 포함하는 오염액의 여과장치.
  6. 특허청구의 범위 제4항 또는 제5항에 있어서, 또 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 포함하는 오염액의 여과장치.
  7. 피가공물의 가공에 의해서 생긴 가공오염액을 여과하여 재사용하는 가공기의 가공액 여과장치에 있어서, 연속적으로 공급되는 시이트형상의 여과부재, 이 여과부재에 상기 가공오염액을 공급하는 가공오염액 공급수단, 상기 여과부재의 상면측과 하면측 사이에서 압력차를 발생시키는 압력차 발생수단 및 상기 압력차에 의해서 여과부재를 통과한 가공여과액을 여과액통에 귀환시키는 귀환수단을 구비한 것을 특징으로 하는 가공기의 가공액 여과장치.
  8. 특허청구의 범위 제7항에 있어서, 상기 가공오염액 공급수단은 상기 가공기에서 가공오염액을 받아들이는 가공기의 가공액 여과장치.
  9. 특허청구의 범위 제7항에 있어서, 상기 가공오염액 공급수단은 상기 가공기에서 가공오염액 탱크에 배출된 가공오염액을 받아들이는 가공기의 가공액 여과장치.
  10. 특허청구의 범위 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 가공오염액 공급수단은 상기 가공기에서 가공오염액을 여과부재에 공급하는 경로 및 가공오염액 탱크에 흐르게 하는 경로와 이들 양 경로를 전환하는 전환수단을 구비한 가공기의 가공액 여과장치.
  11. 특허청구의 범위 제7항 내지 제9항중 어느 한 항에 있어서, 또 상기 여과부재의 유무 및 잔량을 검출하는 검출수단을 포함하는 가공기의 가공액 여과장치.
  12. 특허청구의 범위 제7항 내지 제9항중 어느 한 항에 있어서, 또 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 포함하는 가공기의 가공액 여과장치.
  13. 특허청구의 범위 제10항에 있어서, 또 상기 여과부재의 유무 및 잔량을 검출하는 검출수단을 포함하는 가공기의 가공액 여과장치.
  14. 특허청구의 범위 제10항에 있어서, 또 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 포함하는 가공기의 가공액 여과장치.
  15. 특허청구의 범위 제11항에 있어서, 또 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 포함하는 가공기의 가공액 여과장치.
  16. 특허청구의 범위 제13항에 있어서, 또 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 포함하는 가공기의 가공액 여과장치.
  17. 피가공물의 가공에 의해서 발생한 가공오염액을 여과기내에 설치한 필터로 여과하여 재사용하는 가공기의 가공액 여과장치에 있어서, 상기 여과기 밖에 마련되어 연속적으로 공급되는 시이트 형상의 여과부재, 이 여과부재에 상기 가공오염액을 공급하는 가공오염액 공급수단, 상기 여과부재의 상면측과 하면측 사이에서 압력차를 발생시키는 압력차 발생수단, 상기 압력차에 의해서 여과부재를 통과한 가공여과액을 상기 여과기에 귀환시키는 귀환수단 및 소정의 기간동안 상기 필터만으로 가공액을 여과하는 선택수단을 구비한 것을 특징으로 하는 가공기의 가공액 여과장치.
  18. 특허청구의 범위 제17항에 있어서, 또 상기 여과부재의 유무 및 잔량을 검출하는 검출수단을 포함하는 가공기의 가공액 여과장치.
  19. 특허청구의 범위 제17항 또는 제18항에 있어서, 또 상기 여과부재의 공급속도를 제어하는 제어수단을 포함하는 가공기의 가공액 여과장치.
KR1019910008052A 1990-05-30 1991-05-17 오염액의 여과장치 및 가공기의 가공액 여과장치 KR930012030B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13832490 1990-05-30
JP2-138324 1990-05-30
JP30874290 1990-11-16
JP2-308742 1990-11-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR930012030B1 true KR930012030B1 (ko) 1993-12-23

Family

ID=26471386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019910008052A KR930012030B1 (ko) 1990-05-30 1991-05-17 오염액의 여과장치 및 가공기의 가공액 여과장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5221467A (ko)
KR (1) KR930012030B1 (ko)
DE (1) DE4117682A1 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL9200795A (nl) * 1992-05-01 1993-12-01 Pannevis Bv Scheidinginrichting voorzien van meetmiddelen.
US5417849A (en) * 1993-02-24 1995-05-23 Henry Filters, Inc. Machine tool coolant filtering system
US5434381A (en) * 1993-09-13 1995-07-18 T-Star Industrial Electronics, Inc. Apparatus for filtering machining liquid of an electrical discharge machine
US5571404A (en) * 1994-10-31 1996-11-05 Pannevis B.V. Belt filter with means to advance the belt responsive to a capacitance signal
DE19755885B4 (de) * 1997-12-05 2007-10-31 Vattenfall Europe Generation Ag & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zur verbesserten Aufgabe einer entmischten Gipssuspension auf ein Filtertuch einer Vakuumbandfilteranlage
US20050218089A1 (en) * 2004-03-30 2005-10-06 General Electric Company Flushing and filtering system for electroerosion machining
JP2015037812A (ja) * 2011-03-08 2015-02-26 ファナック株式会社 放電加工機の加工液濾過装置
NO339717B1 (no) * 2013-12-02 2017-01-23 Cubility As Sikteapparat og framgangsmåte ved bruk av samme
JP6298025B2 (ja) * 2015-09-03 2018-03-20 ファナック株式会社 加工液追加手段を有する放電加工機
CN106731180B (zh) * 2016-11-28 2019-08-16 刘兴朋 一种农业用移动式高效固液分离装置
MX2019008699A (es) * 2017-01-23 2019-12-02 Mi Llc Separador de materiales sólidos y fluidos.

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3087620A (en) * 1961-03-27 1963-04-30 Hirs Gene Filter apparatus
CH410802A (de) * 1963-07-31 1966-03-31 Fehlmann Hans Beat Dipl Ing Verfahren und Einrichtung zum kontinuierlichen Eindicken von Nassschlamm
US3506128A (en) * 1967-03-28 1970-04-14 Ajem Lab Inc Filter apparatus
FR2031631A5 (ko) * 1969-01-16 1970-11-20 Neyrpic Bmb
US3678240A (en) * 1971-02-24 1972-07-18 Gerald P Dietrick Fluid handling system for electrical discharge machining equipment
US3741865A (en) * 1972-04-11 1973-06-26 Creusot Loire Apparatus for making a continuous sheet by filtration of particles insuspension in a liquid
NL7210541A (ko) * 1972-08-01 1974-02-05
GB1445296A (en) * 1973-04-21 1976-08-11 Inoue Japax Res Electrical discharge machining
DE2323082C3 (de) * 1973-05-08 1979-08-23 Peter A. 6370 Oberursel Miller Bandfilter mit einer Filterkammer
DE2338911A1 (de) * 1973-08-01 1975-02-13 Bayer Ag Druckfilter mit kontinuierlich oder diskontinuierlich transportierbarem filtertuch
DE2758434A1 (de) * 1977-03-21 1978-09-28 Schneider Co Inc J R Filtereinrichtung
GB2009242B (en) * 1977-11-28 1982-05-06 Inoue Japax Res Electroerosion machining
NL173603C (nl) * 1978-10-20 1984-02-16 Esmil Bv Vacuumfilterbandinstallatie.
JPS57163028A (en) * 1981-03-31 1982-10-07 Mitsubishi Electric Corp Electric discharge machining device
JPS5859737A (ja) * 1981-10-05 1983-04-08 Inoue Japax Res Inc 電気加工方法
JPS58188126U (ja) * 1982-06-08 1983-12-14 株式会社井上ジャパックス研究所 ワイヤカツト放電加工装置
JPS5973235A (ja) * 1982-10-20 1984-04-25 Mitsubishi Electric Corp 放電加工装置
JPS5973234A (ja) * 1982-10-20 1984-04-25 Mitsubishi Electric Corp 放電加工用加工液の濾過装置
JPS5997816A (ja) * 1982-11-22 1984-06-05 Mitsubishi Electric Corp ワイヤカツト放電加工装置
US4612123A (en) * 1983-01-25 1986-09-16 Maschinenfabrik Andritz Actiengesellschaft Regulating apparatus for dewatering machines
JPS61219533A (ja) * 1985-03-26 1986-09-29 Mitsubishi Electric Corp ワイヤ放電加工装置
JPH089126B2 (ja) * 1986-07-24 1996-01-31 トヨタ自動車株式会社 放電加工機の加工液供給装置
JPS6352928A (ja) * 1986-08-20 1988-03-07 Toshiba Ceramics Co Ltd 放電加工装置
EP0303240B1 (fr) * 1987-08-13 1994-03-23 Charmilles Technologies S.A. Installation et procédé pour filtrer un liquide d'usinage dans un circuit d'alimentation en continu
DE3743622A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-13 Agie Ag Ind Elektronik Vorrichtung zum filtern der bearbeitungsfluessigkeit einer elektroerosionsmaschine
SE465095B (sv) * 1988-07-07 1991-07-22 Gambro Dialysatoren Taetning innefattande en ring av ett flexibelt material avsedd att pressas mellan tvaa parallella, foeretraedesvis slaeta taetningsytor
DE3828236C1 (ko) * 1988-08-19 1990-01-04 Ag Fuer Industrielle Elektronik Agie Losone Bei Locarno, Losone, Ch
DE3828237C1 (ko) * 1988-08-19 1990-01-04 Ag Fuer Industrielle Elektronik Agie Losone Bei Locarno, Losone, Ch
DE3828238A1 (de) * 1988-08-19 1990-02-22 Agie Ag Ind Elektronik Vorrichtung zum aufbereiten der bearbeitungsfluessigkeit einer elektroerosionsmaschine
IE71168B1 (en) * 1988-09-30 1997-01-29 Torpey Patrick A method and an apparatus for extracting liquid from a sludge

Also Published As

Publication number Publication date
DE4117682A1 (de) 1991-12-05
US5221467A (en) 1993-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930012030B1 (ko) 오염액의 여과장치 및 가공기의 가공액 여과장치
KR100228260B1 (ko) 여과장치 및 여과시스템
JPH04267907A (ja) 可動ウエッブフィルタ装置およびその装置を使用する方法、並びその装置に使用されるメディアベルト洗浄装置
US5372722A (en) Oil separator with integrated microfiltration device
KR101000371B1 (ko) 오일 미스트 집진장치
EP2316554A1 (en) Method and device for cleaning filter cloths of filter press dewaterer
US6042726A (en) Apparatus for filtering industrial liquids
KR100537652B1 (ko) 오존 산화 시스템
KR102304128B1 (ko) 나노입자급 미세먼지의 제거가 가능한 집중탈진 여과집진기 및 이를 이용한 여과집진방법
KR101142966B1 (ko) 공작기계용 오일정제장치
KR100241588B1 (ko) 분리막을 이용한 수처리 장치
US20110017656A1 (en) Rotary filtration device
KR20170122153A (ko) 자동 재생 기능을 구비한 로터 필터 시스템
CN113754098A (zh) 一种旋转磁场工业废水处理设备
KR0138026B1 (ko) 산업용 폐오일 재생방법 및 장치
KR101071521B1 (ko) 냉연 도금 설비용 스프레이 헤더 진공 세척장치
JPH04358508A (ja) 汚液の濾過装置及び加工機の加工液濾過装置
JP2003191147A (ja) 可搬式クーラントタンク清浄装置
JP4797061B2 (ja) ベルト型濃縮機とベルト型濃縮機運転方法
KR102448339B1 (ko) 재생이 쉬운 가공액 필터 장치
KR100386087B1 (ko) 슬러리 여과방법
JP2754431B2 (ja) ワイヤ放電加工装置の加工液供給装置
JPH07171735A (ja) 液処理装置
CN221061864U (zh) 一种化学工程用污水处理装置
EP0512287A1 (en) Electro-endosmosis type dehydrator

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19981209

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee