KR930010535A - 자동박막 계측장치 - Google Patents

자동박막 계측장치 Download PDF

Info

Publication number
KR930010535A
KR930010535A KR1019920021993A KR920021993A KR930010535A KR 930010535 A KR930010535 A KR 930010535A KR 1019920021993 A KR1019920021993 A KR 1019920021993A KR 920021993 A KR920021993 A KR 920021993A KR 930010535 A KR930010535 A KR 930010535A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
semiconductor substrate
thin film
weight
precision
precision balance
Prior art date
Application number
KR1019920021993A
Other languages
English (en)
Other versions
KR960012745B1 (ko
Inventor
오바따 마사노리
아리마 쥬니찌
히라따 요시히로
Original Assignee
시기 모리야
미쓰비시 뎅끼 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 시기 모리야, 미쓰비시 뎅끼 가부시끼가이샤 filed Critical 시기 모리야
Publication of KR930010535A publication Critical patent/KR930010535A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR960012745B1 publication Critical patent/KR960012745B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01GWEIGHING
    • G01G1/00Weighing apparatus involving the use of a counterweight or other counterbalancing mass
    • G01G1/18Balances involving the use of a pivoted beam, i.e. beam balances
    • G01G1/24Platform-type scales, i.e. having the pans carried above the beam
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01GWEIGHING
    • G01G9/00Methods of, or apparatus for, the determination of weight, not provided for in groups G01G1/00 - G01G7/00
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling

Abstract

이 발명은 중량측정의 정도, 재현성이 높고, 측정시간이 짧고, 더욱더 저주파진동의 영향을 받지않고 FA에도 대응하는 것이 되는 자동박막 계측장치 및 자동박막 계측방법을 얻는 것을 목적으로 한다.
반도체기판(6)은 핸들링 로봇(4)에 의하여 반도체기판(6)이 세트된 카세트(5)를 설치하는 로더부와 정밀천평(2)의 천평접시(3)와의 사이에서 반송된다.
중량측정치의 데이터처리는 데이터 처리부(7)에서 행하여 진다. 박막형성전후의 반도체기판(6)의 중량측정에서 박막의 막두께가 구해진다.
정밀천평(2)의 측정정도를 향상시키기 위하여 반도체기판(6)의 중량측정마다에 정밀천평(2)의 캐리브레이션, 원점보정을 행한다.
또 장치설치장소의 진동주기를 구하고, 그 정수배의 시간으로 중량측정을 행한다. 더욱더 반도체기판(6)의 표면온도를 측정하고, 상온으로된 시점에서 중량측정을 행한다.

Description

자동박막 계측장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 이 발명의 일실시예에 의한 자동박막 계측장치를 표시하는 개략구성도, 제2도는 이 발명의 일실시예에 의한 자동박막 계측장치에 있어 계측조작의 개략을 표시하는 플로챠트.

Claims (3)

  1. 복수의 반도체기판이 수용된 카세트와 상기 반도체 기판의 표면처리전후의 중량을 측정하는 정밀천평과, 상기 카세트에서 소정의 반도체기판을 꺼내어, 상기 정밀천평의 천평접시에 로드 또는 안로드하는 핸들링로봇과 상기 중량측정조작 및 핸들링 로봇의 동작지시를 냄과 동시에 상기 표면처리전후의 반도체기판의 중량차에서 반도체기판의 표면처리한 막두께를 구하는 데이터 처리부와를 대비한 자봉박막 계측장치로서 상기 데이터 처리부의 지시에 의하여 상기 정밀천평의 원점보정을 행하고, 더욱더 원점보정시에 원점치의 변동주기를 구하여 이 변동주기의 정수배의 시점에서 상기 반도체 기판의 중량측정을 행하는 것을 특징으로 하는 자동박막 계측장치.
  2. 복수의 반도체기판이 수용된 카세트와 상기 반도체 기판의 표면처리전후의 중량을 측정하는 정밀천평과, 상기 카세트에서 소정의 반도체기판을 꺼내어, 상기 정밀천평의 천평접시에 로드 또는 안로드하는 핸들링 로봇과 상기 중량측정조작 및 핸들링로봇의 동작지시를 냄과 동시에 상기 표면처리전후의 반도체기판의 중량차에서 반도체기판의 표면처리한 막두께를 구하는 데이터 처리부와를 대비한 자동박막 계측장치로서 상기 데이터 처리부의 지시에 의하여 상기 정밀천평의 원점보정을 행하고, 상기 정밀천평의 천평접시에 탑재된 반도체 기판의 표면온도를 측정하여 이 표면온도가 소정치로 된때에 더욱더 원점보정시에 원점치의 변동주기를 구하여 이 변동주기의 정수배의 시점에서 상기 반도체 기판의 중량측정을 행하는 것을 특징으로 하는 자동박막 계측장치.
  3. 복수의 반도체기판이 수용된 카세트와 상기 반도체 기판의 표면처리전후의 중량을 측정하는 정밀천평과, 상기 카세트에서 소정의 반도체기판을 꺼내어, 상기 정밀천평의 천평접시에 로드 또는 안로드하는 핸들링 로봇과 상기 중량측정조작 및 핸들링 로봇의 동작지시를 냄과 동시에 상기 표면처리전후의 반도체기판의 중량차에서 반도체기판의 표면처리한 막두께를 구하는 데이터 처리부와를 대비한 자동박막 계측장치로서 상기 데이터 처리부의 지시에 의하여 상기 정밀천평의 원점보정을 행하고, 더욱더 상기 정밀천평의 천평접시에 탑재된 반도체기판의 표면온도를 측정하고 이 표면온도가 소정치로 된때에 상기 반도체기판의 중량측정을 행하는 것을 특징으로 하는 자동박막 계측장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920021993A 1991-11-28 1992-11-21 자동박막계측장치 KR960012745B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3314851A JP2647585B2 (ja) 1991-11-28 1991-11-28 自動薄膜計測装置
JP91-314851 1991-11-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930010535A true KR930010535A (ko) 1993-06-22
KR960012745B1 KR960012745B1 (ko) 1996-09-24

Family

ID=18058378

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920021993A KR960012745B1 (ko) 1991-11-28 1992-11-21 자동박막계측장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5321634A (ko)
JP (1) JP2647585B2 (ko)
KR (1) KR960012745B1 (ko)
DE (1) DE4239439C2 (ko)

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2576338B2 (ja) * 1992-07-31 1997-01-29 株式会社島津製作所 ウエハ自動秤量システム
US5625170A (en) * 1994-01-18 1997-04-29 Nanometrics Incorporated Precision weighing to monitor the thickness and uniformity of deposited or etched thin film
FR2720824B1 (fr) * 1994-06-02 1997-01-24 Macofar Spa Procédé pour le contrôle en ligne du poids de capsules et appareil relatif.
US5801337A (en) * 1996-01-11 1998-09-01 Barnstead/Thermolyne Corporation Method of and apparatus for compensating for load/environment temperature differential-induced measured load weight error
US5924058A (en) * 1997-02-14 1999-07-13 Applied Materials, Inc. Permanently mounted reference sample for a substrate measurement tool
EP0864852B1 (de) * 1997-03-11 2005-06-15 Mettler-Toledo GmbH Elektronische Waage
US6244121B1 (en) * 1998-03-06 2001-06-12 Applied Materials, Inc. Sensor device for non-intrusive diagnosis of a semiconductor processing system
US6023666A (en) * 1998-07-20 2000-02-08 Micron Technology, Inc. In-line method of monitoring die attach material adhesive weight
US6286685B1 (en) * 1999-03-15 2001-09-11 Seh America, Inc. System and method for wafer thickness sorting
GB0016562D0 (en) * 2000-07-05 2000-08-23 Metryx Limited Apparatus and method for investigating semiconductor wafers
US6902647B2 (en) * 2002-08-29 2005-06-07 Asm International N.V. Method of processing substrates with integrated weighing steps
US20050105997A1 (en) * 2003-09-11 2005-05-19 Englhardt Eric A. Methods and apparatus for carriers suitable for use in high-speed/high-acceleration transport systems
DE102004007952B3 (de) * 2004-02-18 2005-09-01 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Bestimmen der Tiefe von in einem Trägersubstrat ausgebildeten Vertiefungen
US20060154385A1 (en) * 2005-01-07 2006-07-13 Ravinder Aggarwal Fabrication pathway integrated metrology device
US7740437B2 (en) * 2006-09-22 2010-06-22 Asm International N.V. Processing system with increased cassette storage capacity
GB0719460D0 (en) * 2007-10-04 2007-11-14 Metryx Ltd Measurement apparatus and method
GB0719469D0 (en) * 2007-10-04 2007-11-14 Metryx Ltd Measurement apparatus and method
GB0804499D0 (en) * 2008-03-11 2008-04-16 Metryx Ltd Measurement apparatus and method
EP3222749A1 (en) 2009-05-13 2017-09-27 SiO2 Medical Products, Inc. Outgassing method for inspecting a coated surface
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
KR101181274B1 (ko) * 2009-12-31 2012-09-11 한국과학기술연구원 플렉서블 기판상의 금속층 두께 측정방법
US11624115B2 (en) 2010-05-12 2023-04-11 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubrication
JP5630093B2 (ja) * 2010-06-24 2014-11-26 株式会社島津製作所 電子天びん
US9878101B2 (en) 2010-11-12 2018-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
US9272095B2 (en) 2011-04-01 2016-03-01 Sio2 Medical Products, Inc. Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods
US9004838B2 (en) * 2011-04-07 2015-04-14 Microtronic, Inc. Apparatus, system, and methods for weighing and positioning wafers
US11116695B2 (en) 2011-11-11 2021-09-14 Sio2 Medical Products, Inc. Blood sample collection tube
JP6095678B2 (ja) 2011-11-11 2017-03-15 エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド 薬剤パッケージ用の不動態化、pH保護又は滑性皮膜、被覆プロセス及び装置
US20150098084A1 (en) * 2012-05-09 2015-04-09 Sio2 Medical Products, Inc. Inspection methods for pecvd coatings
EP2846755A1 (en) 2012-05-09 2015-03-18 SiO2 Medical Products, Inc. Saccharide protective coating for pharmaceutical package
EP2914762B1 (en) 2012-11-01 2020-05-13 SiO2 Medical Products, Inc. Coating inspection method
EP2920567B1 (en) 2012-11-16 2020-08-19 SiO2 Medical Products, Inc. Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics
US10201660B2 (en) 2012-11-30 2019-02-12 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition on medical syringes, cartridges, and the like
US9764093B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
US9354108B2 (en) * 2012-12-05 2016-05-31 Shimadzu Corporation Electronic balance
US20160015898A1 (en) 2013-03-01 2016-01-21 Sio2 Medical Products, Inc. Plasma or cvd pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus
KR102167557B1 (ko) 2013-03-11 2020-10-20 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크. 코팅된 패키징
US9937099B2 (en) 2013-03-11 2018-04-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate
WO2014144926A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Sio2 Medical Products, Inc. Coating method
JP6160819B2 (ja) 2013-05-22 2017-07-12 株式会社タニタ 重量測定装置、生体測定装置及び重量測定プログラム
EP3693493A1 (en) 2014-03-28 2020-08-12 SiO2 Medical Products, Inc. Antistatic coatings for plastic vessels
GB201405926D0 (en) * 2014-04-02 2014-05-14 Metryx Ltd Semiconductor wafer weighing apparatus and methods
US9478408B2 (en) 2014-06-06 2016-10-25 Lam Research Corporation Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging
US10081869B2 (en) 2014-06-10 2018-09-25 Lam Research Corporation Defect control in RF plasma substrate processing systems using DC bias voltage during movement of substrates
US10047438B2 (en) 2014-06-10 2018-08-14 Lam Research Corporation Defect control and stability of DC bias in RF plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas
JP2018523538A (ja) 2015-08-18 2018-08-23 エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド 低酸素透過速度を有する薬剤包装及び他の包装
KR20170134094A (ko) * 2016-05-27 2017-12-06 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
KR102063322B1 (ko) 2016-05-27 2020-01-08 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
CN109374467A (zh) * 2018-12-29 2019-02-22 无锡威孚环保催化剂有限公司 测定汽车尾气催化剂涂层均匀度的方法
CN113029070B (zh) * 2019-12-25 2023-04-18 中国科学院微电子研究所 一种监测原子层沉积薄膜生长厚度的方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59198325A (ja) * 1983-04-27 1984-11-10 Ishida Scales Mfg Co Ltd 自動零点調整方法
CH667921A5 (de) * 1985-09-18 1988-11-15 Mettler Instrumente Ag Analysenwaage.
US5104276A (en) * 1989-05-19 1992-04-14 Applied Materials, Inc. Robotically loaded epitaxial deposition apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR960012745B1 (ko) 1996-09-24
DE4239439A1 (ko) 1993-06-03
US5321634A (en) 1994-06-14
DE4239439C2 (de) 1995-03-09
JP2647585B2 (ja) 1997-08-27
JPH05149741A (ja) 1993-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930010535A (ko) 자동박막 계측장치
CN110196201B (zh) 高精度称重系统和称重方法,热重分析仪及存储介质
US6286685B1 (en) System and method for wafer thickness sorting
KR970030550A (ko) 반도체 소자의 박막형성 프로그램의 자동보정 시스템
US4050530A (en) Method and apparatus for determining weight and mass
KR910001240B1 (ko) 힘 측정장치
TWI688021B (zh) 用於判定與半導體晶圓之質量相關之資訊之方法與裝置
CN107091677B (zh) 一种误差补偿方法与基于误差补偿的皮带秤
US4509609A (en) Weighbelt apparatus
US4480705A (en) Platform calibration factor for conveyor inclination angle
JP2000121423A (ja) 校正適否の判断機構を有する電子秤
JP2576338B2 (ja) ウエハ自動秤量システム
JP2007170837A (ja) 計量器用フィルタおよび計量器用フィルタリング方法
KR910001147B1 (ko) 계량장치
JP2021148664A (ja) ロードセルユニット及び計量装置
Vâlcu et al. Analysis of the results obtained in the calibration of electronic analytical balances
JPH08110261A (ja) 質量計量装置及び重量計量装置
GB2174498A (en) Mass meter with selectively loadable reference weight
JPH09113346A (ja) 計量方法および装置
JPH01299420A (ja) 揺動物の重量計量装置
JP2000074729A (ja) 天 秤
Fu et al. Study on calibration of automatic catchweighing instrument
JPS5726724A (en) Inspecting device for clinical thermometer
JPH0244215A (ja) 電子天びん
Gupta et al. Single-Pan Mechanical Balances

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20040910

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee