KR920701369A - 수용성 섬유-반응성 염료, 그의 제조 방법 및 그의 용도 - Google Patents

수용성 섬유-반응성 염료, 그의 제조 방법 및 그의 용도

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KR920701369A
KR920701369A KR1019910701708A KR910701708A KR920701369A KR 920701369 A KR920701369 A KR 920701369A KR 1019910701708 A KR1019910701708 A KR 1019910701708A KR 910701708 A KR910701708 A KR 910701708A KR 920701369 A KR920701369 A KR 920701369A
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후송 쿠르트
스프린게르 하르트무트
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오일러, 라피체
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Abstract

내용 없음

Description

수용성 섬유-반응성 염료, 그의 제조 방법 및 그의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (17)

  1. 하기 일반식(1)의 염료(단, 독일연방공화국 공개특허 제3,526,551호의 실시예 19의 염료는 제외함) :
    (Y1-S02)k-A-Zn (1)
    상기식에서, A는 수용성 설포-및/또는 카복실-함유 염료의 라디칼이고, Y1은 비닐 그룹이거나, 또는 β-클로로에틸, β-티오설파토에틸, β-아세틸옥시에틸 또는 β-설파토에틸 그룹이며, k는 1또는 2이고, n은 1또는 2이며, z는 일반식
    의 그룹이고, R'및 R"는 각각 서로 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1내지 4의 알킬그룹이며, R은 수소원자 또는 설포그룹이고, Y는 비닐 그룹 또는 β-설파토에틸 그룹이며, Y1및 Y는 서로 같거나 다른 의미를 가질 수 있다.
  2. 제1항에 있어서, A가 설포-함유 모노-또는 디스아조 염료의 라디칼인 염료.
  3. 제1항에 있어서, A가 설포-함유 1 : 2 크롬 착물, 1 : 2 코발트 착물 또는 1 : 1 구리 착물 모노아조 또는 디스아조 염료의 라디칼인 염료.
  4. 제1항에 있어서, 하기 일반식(5a)에 따르는 염료.
    [상기식에서, M은 수소원자 또는 알칼리 금속이고; Z는 제1항에 정의된 바와 같으며; D0는 일반식
    의 라디칼이고; R1은 일반식 Y1-SO2-X'-(여기서, Y1은 제1항에 정의된 바와 같고, X1은 메틸렌 그룹 또는 메틸아미노그룹 또는 바람직하게는 직접결합이다)의 라디칼이며; R2는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 탄소수 2내지 5의 알카노일, 시아노, 카복실, 설포, 탄소수 2내지 5의 알콕시카보닐, 카바모일, N-(C1-C4-알킬)카바모일, 불소, 염소, 브롬 도는 트리프루오로메틸이고; R3는 수소, 메틸, 에틸, 에톡시, 시아노, 카복실, 설포, 탄소수 2내지 5의 알카노일아미노, 탄소수 2내지 5의 알콕시카보닐, 카바모일, N-(C1-C4-알킬)카바모일, 불소, 염소, 니트로, 설파모일, N-(C1-C4-알킬)설파모일, 탄소수 1내지 4의 알킬설포닐, 페닐설포닐 또는 페녹시이며; 상기 일반식(6a)및 (6b)의 벤젠 또는 나프탈렌 환은 추가로 아미노그룹에 대해 o-오르토 위치에 하이드록실 그룹을 함유할 수 있고; p는 0,1또는 2(p가 0인 경우 이 그룹은 수소원자이다)이며; D*는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 브롬, 염소, 카복실 및 설포를 포함한 부류중에서 선택된 1또는 2개의 치환체에 의해 치환될 수도 있는 페닐렌 라디칼이거나, 또는 1또는 2개의 설포 그룹에 의해 치환될 수도 있는 나프틸렌 라디칼이다].
  5. 제1항에 있어서, 하기 일반식(5b)에 따르는 염료.
    (Y1-S02-X1)k-D1-N=N-(E1-N=N)v-K*-Z (5b)
    [상기식에서, Y1,k및 Z는 제1항에 정의된 바와 같고; X1은 메틸렌 그룹 또는 메틸아미노 그룹 또는 바람직하게는 직접 결합이며; D1은 치환체 R2및 R3에 의해 치환된 페닐렌 라디칼이거나, 또는 1또는 2개의 설포 그룹에 의해 치환될 수도 있는 나프틸렌 라디칼이고; E1은 일반식
    의 라디칼이며; -K*-Z는 일반식
    (여기서, 일반식(8b)의 하이드록실 그룹은 아조 그룹에 결합되는 자유 결합에 대해 오르토-위치에 존재한다)의 라디칼이고; R2는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 탄소수 2내지 5의 알카노일, 시아노, 카복실, 설포, 탄소수 2내지 5의 알콕시카보닐, 카바모일, N-(C1-C4-알킬)카바모일, 불소, 염소, 브롬 또는 트리플루오로메틸이며; R3는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 시아노, 카복실, 설포, 탄소수 2내지 5의 알카노일아미노, 탄소수 2내지 5의 알콕시카보닐, 카바모일, N-(C1-C4알킬) 카바모일, 불소, 염소, 니트로, 설파모일, N-(C1-C4-알킬)설파모일, 탄소수 1내지 4의 알킬설포닐, 페닐 설포닐 또는 페녹시이고; R4는 수소원자, 탄소수 1내지 4의 알킬그룹, 탄소수 1내지 4의 알콕시 그룹, 염소원자, 탄소수 2내지 5의 알카노일아미노, 벤조일아미노 그룹, 우레이도 그룹, N'-페닐우레이도 그룹, 알킬 라디칼내에 탄소수 1내지 4를 갖는 N'-알킬우레이도 그룹, 페닐설포닐 그룹 또는 탄소수 1내지 4의 알킬설포닐 그룹이며; R5는 직접결합이거나, 또는 일반식 -NH-CO-페닐렌-, -NH-CO-NH-페닐렌-, -N(CH3)-CO-페닐렌- 또는 -N(CH3)-CO-NH-페닐렌-의 라디칼이고; R6은 수소, 탄소수 1내지 4의 알킬, 탄소수 1내지 4의 알콕시, 브롬, 염소 또는 탄소수 2내지 7의 알카노일 아미노이며; R7은 수소, 탄소수 1내지 4의 알킬, 탄소수 1내지 4의 알콕시, 염소, 탄소수 2내지 7의 알카노일아미노, 우레이도 또는 페닐우레이도 그룹이고; R8은 수소, 메틸과 같은 탄소수 1내지 4의 알킬, 시아노, 카복실, 탄소수 2내지 5의 카브알콕시, 카복스아미도 또는 페닐, 바람직하게는 메틸, 카복실 또는 탄소수 2내지 5의 카브알콕시이며; Rx는 수소, 탄소수 1내지 4의 알킬, 또는 탄소수 1내지 4의 알콕시 또는 시아노에 의해 치환된 탄소수 1내지 4의 알킬이고; Ry는 수소, 설포, 탄소수 1내지 4의 알킬렌라디칼을 함유한 설포알킬이거나, 또는 시아노 또는 카바모일 그룹이며; Rz는 탄소수 1내지 6의 알킬렌, 또는 메틸, 에틸, 염소, 카복실 및 설포를 포함한 부류로 부터 선택된 치환체에 의해 치환될 수도 있는 페닐렌이거나, 또는 알킬렌 라디칼내에 탄소원자 2내지 4개를 갖는 알킬렌페닐렌이고; M은 수소원자 또는 알칼리 금속이며; V는 상기 언급하고 정의한 라디칼 R2및 R3를 함유한 페닐렌 라디칼이거나, 또는 1또는 2개의 설포그룹에 의해 치환될 수도 있는 나프틸렌 라디칼이고; p는 0,1 또는 2이며; m은 1또는 2이고; v는 0또는 1이다).
  6. 제1항에 있어서, 하기 일반식(5c)에 따르는 염료.
    Z-D*-N=N-(E1-N=N)vK1-X1-S02-X1(5c)
    [상기식에서, Z및 Y1은 제1항에 정의된 바와 같고; D*는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 브롬, 염소, 카복실 및 설포를 포함한 부류로 부터 선택된 1또는 2개의 치환체에 의해 치환될 수도 있는 페닐렌 라디칼이거나, 또는 1또는 2개의 설포 그룹에 의해 치환될 수도 있는 나프틸렌 라디칼이며; E1은 일반식
    리디칼이고; v는 0또는 1이며; K1은 일반식
    또는(9c)
    (여기서, 일반식(9a)내의 하이드록실 그룹은 아조그룹에 결합된 자유 결합에 대해 오르토-위치에 존재한다)의 라디칼이고; X1은 메틸렌 그룹 또는 메틸아미노 그룹, 또는 바람직하게는 직접 결합이며; R2는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 탄소수 2내지 5의 알카노일, 시아노, 카복실, 설포, 탄소수 2내지 5의 알콕시카보닐, 카바모일, N-(C1-C4-알킬)카바모일, 불소, 염소, 브롬 또는 트리플루오로메틸이고; R3는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 시아노, 카복실, 설포, 탄소수 2내지 5의 알카노일아미노, 탄소수 2내지 5의 알콕시카보닐, 카바모일, N-(C1-C4-알킬)카바모일, 불소, 염소 니트로, 설파모일, N-(C1-C4-알킬)설파모일, 탄소수 1내지 4의 알킬설포닐, 페닐 설포닐 또는 페녹시이며; R4는 수소원자, 탄소수 1내지의 알킬그룹, 탄소수 1내지 4의 알콕시 그룹, 염소원자, 탄소수 2내지 5의 알카노일아미노 그룹, 벤조일아미노 그룹, 우레이도 그룹, N'-페닐우레이도 그룹, 알킬 라디칼내에 탄소원자 1내지 4를 갖는 N'-페닐우레이도 그룹, 알킬 라디칼내에 탄소원자 1내지 4를 갖는 N'-알킬우레이도 그룹, 페닐설포닐 그룹 또는 탄소수 1내지 4의 알킬설포닐 그룹이고; R8은 수소, 탄소수 1내지 4의 알킬, 시아노, 카복실, 탄소수 2내지 5의 카브알콕시, 카복스아미도 또는 페닐, 바람직하게는 메틸, 카복실 또는 탄소수 2내지 5의 카르알콕시이며; M은 수소원자 또는 알칼리 금속이고; V는 상기 언급하고 정의한 라디칼 R2및 R3를 함유한 페닐렌 라디칼이거나, 또는 1또는 2개의 설포 그룹에 의해 치환될 수도 있는 나프틸렌 라디칼이며; p는 0, 1 또는 1이고; m은 1또는 1이다].
  7. 제1항에 있어서, 하기 일반식(5d)에 따르는 염료.
    [상기식에서, Y1, k및 Z는 제1항에 정의된 바와 같고; X1은 메틸렌 그룹 또는 메틸아미노 그룹, 또는 바람직하게는 직접 결합이며; D2는 착화하는 산소 원자 및 아조 그룹에 대한 자유결합이 서로에 대해 오르토-위치에 존재하고, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 브롬, 염소, 카복실 및 설포로 이루어진 부류중에서 선택된 1또는 1개의 치환체를 추가의 치환체로서 함유할 수도 있는 벤젠 라디칼이거나, 또는 옥시그룹이 1-위치에 결합하고, 아조 그룹이 2-위치에 결합하며, 설포 그룹을 추가의 치환체로서 함유할 수도 있는 나프탈렌 라디칼이고; K2는 일반식
    v는 0또는 1이고; -K*-Z는 일반식
    (여기서, 일반식(8b)의 하이드록실 그룹은 아조 그룹에 결합되는 자유 결합에 대해 오르토-위치에 존재한다)의 라디칼이며; R2는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 탄소수 2내지 5의 알카노일, 시아노, 카복실, 설포, 탄소수 2내지 5의 알콕시카보닐, 카바모닐, N-(C1-C4-알킬)카바모일, 불소, 염소, 브롬 또는 트리플루오로메틸이고; R3는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 시아노, 카복실, 설포, 탄소수 2내지 5의 알카노일아미노, 탄소수 2내지 5의 알콕시카보닐, 카바모일, N-(C1-C4-알킬)카바모일, 불소, 염소, 니트로, 설파모일, N-(C1-C4-알킬)설파모일, 탄소수 1내지 4의 알킬설포닐, 페닐설포닐 또는 페녹시이며; R5는 직접결합이거나 또는 일반식 -NH-Co-페닐렌, -NH-CO-NH-페닐렌-, -N(CH3)-CO-페닐렌- 또는 -N(CH3)-CO-NH-페닐렌-의 라디칼이고; R6은 수소, 탄소수 1내지 4의 알킬, 탄소수 1내지 4의 알콕시, 브롬, 염소 또는 탄소수 2내지 7의 알카노일 아미노이며; R7은 수소, 탄소수 1내지 4의 알킬, 탄소수 1내지 4의 알콕시, 염소, 또는 탄소수 2내지 7의 알카노일 아미노, 우레이도 또는 페닐우레이도 그룹이고; R8은 수소, 탄소수 1내지 4의 알킬, 시아노, 카복실, 탄소수 2내지 5의 카브알콕시, 카복스아미도 또는 페닐, 바람직하게는 메틸, 카복실 또는 탄소수 2내지 5의 카브알콕시이며; Rx는 수소, 탄소수 1내지 4의 알킬, 또는 탄소수 1내지 4의 알콕시 또는 시아노에 의해 치환된 탄소수 1내지 4의 알킬이고; Ry는 수소, 설포, 탄소수 1내지 4의 알킬렌 라디칼을 함유한 설포알킬이거나, 또는 시아노 또는 카바모일 그룹이며; Rz는 탄소수 1내지 6의 알킬렌, 또는 메틸, 에틸, 염소, 카복실 및 설포를 포함한 부류로 부터 선택된 치환체에 의해 치환될 수도 있는 페닐렌이거나, 또는 알킬렌 라디칼내에 탄소원자 2내지 4개를 갖는 알킬렌페닐렌이고; M은 수소원자 또는 알칼리 금속이며; V는 상기 언급하고 정의한 라디칼 R2및 R3를 함유한 페닐렌 라디칼이거나, 또는 1또는 2개의 설포그룹에 의해 치환될 수도 있는 나프틸렌 라디칼이고; p는 0, 1 또는 2이다].
  8. 제1항에 있어서, 하기 일반식(12a)에 따르는 염료.
    [상기식에서,
    의 그룹이고; Rβ는 수소원자이거나, 또는 설포, β-메톡시에톡시, 메틸, 에틸, 메톡시 또는 에톡시 그룹이며; R*는 수소원자이거나, 또는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 아세틸 아미노, 프로피오닐아미노 또는 우레이도 그룹이고; M은 수소원자 또는 알칼리 금속이며; p는 0, 1 또는 1이고; Z2는 일반식
    (여기서, Y및 R은 제1항에 정의된 바와 같다)의 그룹이며; R1은 일반식 Y1-S02-(여기서, Y1은 제1항에 정의된 바와 같다)의 그룹이고; R2는 수소원자이거나, 또는 메틸, 메톡시, 에톡시 또는 설포 그룹 또는 염소원자이며; R3는 수소원자이거나, 또는 메틸, 메톡시, 에톡시 또는 카복실 그룹 또는 염소원자이다]
  9. 제1항 내지 제3항, 제5항 및 제7항중 어느 한 항에 있어서, k가 1인 염료.
  10. 제1항 내지 제3항 및 제9항중 어느 한 항에 있어서, n이 1인 염료.
  11. 제1항 내지 제7항, 제9항 및 제10항중 어느 한 항에 있어서, Z가 하기 일반식(3)의 그룹인 염료.
    (여기서, R및 Y는 제1항에 정의된 바와 같다)
  12. 제1항 내지 제11항중 어느 한 항에 있어서, R이 수소원자인 염료.
  13. 제1항 내지 제12항중 어느 한 항에 있어서, Y1이 β-설파토에틸 그룹인 염료.
  14. 제1항 내지 제13항중 어느 한 항에 있어서, Y가 β-설파토에틸 그룹인 염료.
  15. 수용성 염료 통상적인 전구체들(적어도 하나의 전구체는 일반식(2)의 그룹을 함유하며, 적어도 하나의 또다른 전구체는 일반식 -S02-Y1의 그룹을 함유한다)을 통상의 공정에 의해 서로 반응시켜 상응하는 염료를 제조하거나, 또는 시아누르산 크라로라이드를 임의의 목적하는 순서에 따라 하기 일반식(22)의 아미노 화합물 및 하기 일반식(23)의 아미노 화합물과 반응 시킴을 포함하는, 제1항에 언급하고 정의된 일반식(1)의 염료의 제조방법 :
    상기식들에서, Y, Y1, k, A, R1, R', R"및 n은 제1항에 정의된 바와 같다.
  16. 하이드록실-및/또는 카복스아미드-함유 물질, 특히 섬유 물질을 염색하고 날염하기 위한 제1항 내지 제15항중 어느 한 항에 따른 일반식(1) 화합물의 용도.
  17. 염료를 하이드록실-및/또는 카복스아미도-함유 물질, 바람직하게는 섬유 재료에 도포하거나 도입시키고, 염료를 열에 의해 또는 알칼리 시약을 사용하여 상기 물질위에 또는 상기 물질내에 고정시켜, 상기 물질, 바람직하게는 섬유 재료를 착색(날염을 비롯한 염색)시키는 방법에 있어서, 염료로서 제1항 내지 제15항중 어느 한 항에 따른 화합물을 사용함을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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