KR930006118A - 수용성 섬유 반응성 염료의 혼합물 및 그의 용도 - Google Patents

수용성 섬유 반응성 염료의 혼합물 및 그의 용도 Download PDF

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Abstract

수용성 섬유-반응성 염료의 혼합물 및 그이 용도 본 발명은 비교적 우수한 광 및 습윤광견뢰성을 갖는, 카복스아미도-함유 및 하이드록실-함유 섬유 물질상의 균일한 염색물을 수득하기 위한, 디옥사진 염료(Ⅰ) 및 디스아조 염료(Ⅱ)((Ⅱa) 내지 (Ⅱf)중의 하나이상)를 90:10 내지 10:90, 바람직하게는 60:40 내지 10:90, 특히 40:60 내지 15:85의 중량비로 함유하는 염료 주성물에 관한 것이다.

Description

수용성 섬유 반응성 염료의 혼합물 및 그의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 적어도 하나의 디옥사진 염료 및 하기 일반식(Ⅱa),(Ⅱb),(Ⅱc),(Ⅱd),(Ⅱe) 및 (Ⅱf)의 적어도 하나의 디스아조 염료를 90:10 내지 10:90중량부의 염료(Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 비로 함유하거나 또는 실질적으로 이들로 구성된, 수용성 섬유 반응성 염료의 염료 조성물:
    상기식들에서, 각각의 기호들은 서로 동일하거나 또는 상이한 의미를 가지며, Z'는 비닐설포닐 그룹, β-설페이토에틸설포닐 그룹 또는 알칼리에 의해 제거되어 비닐설포닐 그룹을 형성할 수 있는 치환체에 의해 β위치에서 치환되는 에틸설포닐 그룹이고; Z"는 Z'와 동일한 의미를 갖거나, 또는 카복실, 설포 또는 하기 일반식(Ⅲ)의 설폰아미드 그룹이고:
    (상기식에서, R6은 수소원자, C1-C4그룹, 또는 설포, 설페이토, 포스페이토 또는 카복실 그룹에 의해 치환되는 C1-C4그룹이고, R7은 수소원자, 또는 설페이토, 설포, 카복실 및 포스페이토를 포함하는 그룹중 의 1 또는 2개의 치환체에 의해 치환될 수 있는 C1-C4그룹이거나, 또는 설포 및 카복실을 포함하는 그룹중의 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있는 아릴 그룹이거나, 또는 아릴 그룹에 의해 치환되고 아릴 잔기가 설포 및 카복실을 포함하는 그룹중의 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있는 C1-C4그룹이다); R1은 수소원자, C1-C4그룹, 또는 설포, 설페이토, 포스페이토 또는 카복실 그룹에 의해 치환되는 C1-C4그룹이고; R2및 R3는 각각 서로 독립적으로, 수소원자, 설포 그룹, 카복실 그룹, C1-C4그룹, 탄소수 1 내지 4의 알콕시 그룹, 또는 할로겐 원자이고; R4는 일반식
    또는 일반식 -(CH2)n-Z'(V)의 그룹이고; (상기식에서, Z'는 상기 언급한 의미를 갖고 Z"'는 Z'와 동일한 의미를 갖고, n'은 0 내지 3의 정수이다); M은 수소원자 또는 알칼리 금속 원자이고; n, n2, n3 및 n4는 각각 서로 독립적으로 1 내지 3의 정수이고; A는 설포, 설페이트, 포스페이토 또는 카복실그룹이고; B는 -O-, -S-, -SO2-, -C(=O)-, -NH-, -NH-C(=O)- 또는 -C(=O)-NH-를 포함하는 그룹중에서 선택된 가교원이고; D는 하이드록실, 설포, 시아나마드 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시 그룹, 할로겐 원자, 또는 일반식 -NH6R7(Ⅵ)(여기에서 R6및 R7은 상기 언급한 의미를 갖는다)의 그룹이거나, 또는 일반식
    (여기에서, R6은 상기 언급한 의미를 갖고 R8은 할로겐 원자, 설포 그룹 또는 상기 정의한 일반식(Ⅲ)의 설폰아미드 그룹 또는 카복실 그룹, β-설페이토에틸설포닐 그룹, 비닐설포닐 그룹, 또는 알칼리에 의해 제거되어 비닐설포닐 그룹을 형성할 수 있는 치환체에 의해 β위치에서 치환되는 에틸설포닐 그룹이다)의 그룹이고; X는 할로겐 원자이다.
  2. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 염료를 60:40 내지 10:90, 바람직하게는 40:60 내지 15:85중량부의 비로 함유하는 염료 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 일반식(Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 염료에서 Z'가 비닐설포닐 또는 β-설페이토에틸설포닐 그룹이고; Z"가 비닐설포닐, β-설페이토에틸설포닐, 설포 또는 R6이 수소원자이고 R7이 수소원자, 페닐 또는 나프틸 그룹, 바람직하게는 수소원자인 일반식(Ⅲ)의 설프아미드 그룹이고; R1이 수소원자 또는 메틸 그룹이고; R2가 수소원자, 메틸 또는 메톡시그룹, 염소 또는 브롬원자, 바람직하게는 수소원자이고; R3이 수소원자, 설포 또는 카복실 그룹, 메틸 또는 메톡시 그룹, 염소 또는 브롬원자, 바람직하게는 수소원자이고; R4가 Z"'이 비닐설포닐, β-설페이토에틸설포닐 또는 β-클로로에틸설포닐 그룹이고, n'가 0 또는 1인 일반식(Ⅳ)의 그룹이거나, 또는 Z'가 비닐설포닐, β-설페이토에틸설포닐 또는 β-클로로에틸설포닐 그룹이고, n이 2 또는 3인 일반식(Ⅴ)의 그룹이고; M이 수소원자 또는 알칼리 금속원자, 바람직하게는 나트륨, 칼륨 또는 리튬이고; n1 및 n4가 각각 1 내지 3의 동일한 수이고; n2 및 n3가 각각 1 내지 3의 동일한 수이고; A가 카복실 또는 설포 그룹이고; B가 -NH-C(=O)- 또는 -C(=O)-NH-를 포함하는 그룹중에서 선택된 가교원이고; D가 메톡시 그룹, 또는 R6이 수소원자이고, R8이 염소 그룹인 일반식(Ⅶ)의 그룹이고; X가 염소 또는 불소원자인 염료 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 염료에서 Z'가 β-설페이토에틸설포닐 그룹인 염료 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 염료에서, R5가 수소원자인 염료 조성물.
  6. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 염료에서, R2및 R3이 각각 수소원자이고; R4가 Z"'이 비닐설포닐 또는 β-클로로에틸설포닐 그룹인 일반식(Ⅳ)의 그룹이고; D가 메톡시 그룹, 또는 R8이 매번 메타 위치에서 염소원자, 비닐설포닐 또는 β-설페이토에틸설포닐 그룹인 일반식(Ⅶ)의 그룹인 염료 조성물.
  7. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 염료에서 Z', Z" 및 Z"'가 각각 β-설페이토에틸설포닐 그룹인 염료 조성물.
  8. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 일반식(Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 염료를 각각 하나씩 포함하는 염료 조성물.
  9. 제1항 및 제2항에 있어서, 하기 일반식(XIX)의 한 염료 및 하기 일반식(Ⅷ)의 한 염료를 포함하는 염료 조성물:
    상기식들에서, M은 수소 또는 알칼리 금속원자, 바람직하게는 리튬, 나트륨 또는 칼륨이고, Z'는 비닐설포닐 또는 β-설페이토에틸설포닐 그룹이다.
  10. 10 내지 50중량%의 염료(Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 전체 염료 함량 및 4 내지 7의 pH를 갖는 제1항 내지 제9항중 어느 한 항에 청구된 염료 조성물의 용액, 바람직하게는 수용액.
  11. 20 내지 80중량%, 바람직하게는 40 내지 60중량%의 염료(Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 전체 염료 함량을 갖는 제1항 내지 제9항중 어느 한 항에 청구된 염료 조성물의 분말 또는 과립.
  12. 카복스아미도-함유, 또는 바람직하게는 하이드록실-함유 섬유 물질의 염색 또는 날염을 위한 제1항 내지 제11항중 어느 한 항에 청구된 염료 조성물의 용도.
  13. 제12항에 있어서, 알칼리 염색 조건하에서 흡착법에 의해 셀룰로즈 섬유 물질을 염색하기 위한 용도.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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