Claims (5)
투명유리판(1)의 상면에 투명전도막(2), 제1절연층(3), 발광층(4), 제2절연층(5), 배면전극(6)이 순차적으로 적층형성되는 박막 EL표시소자에 있어서, 상기 제2절연층(5)과 배면전극(6)의 사이에 광흡수층(7)과 고저항층(8)이 적층형성된 것을 특징으로 하는 박막 EL표시소자.A thin film EL display in which a transparent conductive film 2, a first insulating layer 3, a light emitting layer 4, a second insulating layer 5, and a back electrode 6 are sequentially stacked on an upper surface of the transparent glass plate 1 A thin film EL display element according to claim 1, wherein a light absorption layer (7) and a high resistance layer (8) are laminated between the second insulating layer (5) and the back electrode (6).
제1항에 있어서, 상기 광흡수층(7)/고저항층(8)/배면전극(6)은 각각 AlN/Al2O3/AL로 형성된 것임을 특징으로 하는 박막 EL표시소자.The thin film EL display device according to claim 1, wherein the light absorption layer (7) / high resistance layer (8) / back electrode (6) is formed of AlN / Al 2 O 3 / AL, respectively.
제1항에 있어서, 상기 제2절연층(5)/광흡수층(7)/고저항층(7)은 각각 SiON/SiN/SiO2로 형성된 것임을 특징으로 하는 박막 EL표시소자.2. The thin film EL display device according to claim 1, wherein the second insulating layer (5) / light absorption layer (7) / high resistance layer (7) is formed of SiON / SiN / SiO 2 , respectively.
제1항에 있어서, 상기 제2절연층(5)/광흡수층(7)은 각각 Ta2O5/TaN으로 형성되고, 고저항층(8)/배면전극(6)은 각각 Al2O3/Al로 형성된 것임을 특징으로 하는 박막 EL표시소자.The method of claim 1, wherein the second insulating layer (5) / light absorption layer (7) is formed of Ta 2 O 5 / TaN, respectively, the high resistance layer (8) / back electrode (6) are each Al 2 O 3 A thin film EL display device, characterized in that formed of / Al.
박막 EL표시소자의 제조방법에 잇어서, 투명유리기판(1)의 상면에 투명전도막(2), 제1절연층(3), 발광층(4), 제2절연층(5), 배면전극(6)을 순차적으로 형성하되, 각층의 기본 원소가 같은 경우 동일한 챔버의 내에서 동일한 기본원소 타케트를 사용하여 연속적으로 중착함을 특징으로 하는 박막 EL표시소자의 제조방법.In the method for manufacturing a thin film EL display device, a transparent conductive film 2, a first insulating layer 3, a light emitting layer 4, a second insulating layer 5, and a back electrode are formed on an upper surface of the transparent glass substrate 1. 6) is sequentially formed, but if the basic elements of each layer are the same, the method of manufacturing a thin film EL display device characterized in that it is continuously deposited using the same basic element target in the same chamber.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.※ Note: This is to be disclosed by the original application.