KR920002585A - 1-(치환된 피리디닐아미노)-1h-인돌-5-일 치환된 카바메이트, 이의 제조방법 및 이를 제조하기 위한 중간 생성물 및 약제로서의 이의 용도 - Google Patents

1-(치환된 피리디닐아미노)-1h-인돌-5-일 치환된 카바메이트, 이의 제조방법 및 이를 제조하기 위한 중간 생성물 및 약제로서의 이의 용도 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

1-(치환된 피리디닐아미노)-1H-인돌-5-일 치환된 카바메이트, 이의 제조방법, 이를 제조하기 위한 중간 생성물 및 약제로서의 이의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (12)

  1. 일반식(Ⅰa)의 화합물 및 이의 모든 광학 및 기하 입체 이성체 및 라세미 혼합물 및 이의 약제학적으로 허용되는 산부가염.
    상기식에서, n은 0또는 1이고; X는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 트리플루오로메틸, 저급 알킬 또는 저급 알콕시이며; Y는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 트리플루오로메틸, 저급 알킬 또는 저급 알콕시이고; R1은 수소, 저급 알킬, 아릴 저급 알킬, 저급 알케닐, 저급 알키닐, 저급 알카노일, 아릴 저급 알카노일, 헤테로아릴 저급 알킬 또는 헤테로아릴 저급 알카노일이며; R2는 수소, 저급 알킬, 포르밀 또는 시아노이고; R3은 수소 또는 저급 알킬이며; R4는 저급 알킬, 아릴 저급 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이거나; 또는 -NR3R4는 함께 결합하여
    형성하고; R5는 수소, 저급 알킬, 아릴, 아릴 저급 알킬, 헤테로 아릴 또는 헤테로아릴 저급 알킬이다.
  2. 제1항에 있어서, n이 0이고, X가 수소 또는 할로겐이며, Y가 수소인 일반식(Ⅰa)의 화합물.
  3. 제2항에 있어서, R1및 R2가 각각 독립적으로 H 또는 저급 알킬일 일반식(Ⅰa)의 화합물.
  4. 제3항에 있어서, R3이 수소이고, R4가 저급 알킬, 아릴 저급 알킬, 사이클로알킬이거나, 또는 -NR3R4가 함께 결합하여
    또는를 형서하는 일반식(Ia)의 화합물.
  5. 제1항에 있어서, 1-(프로필-4-피리디닐아미노)-1H-인돌-5-일 메틸카바메이트인 화합물.
  6. 제1항에 있어서 (S)-(-)-1-(프로필-4-피리디닐아미노)-1H-인돌-5-일 1-페닐에틸카바메이트인 화합물.
  7. 활성성분으로서 제1항에 정의된 화합물 및 이에 대한 적합한 담체를 포함하는 약제학적 조성물.
  8. 콜린 작동성 결함의 특징을 가진 기억 장애를 완화시키는 활성이 있는 약제를 제조하기 위한 제1항에 정의된 화합물의 용도.
  9. 일반식(Ⅰb)의 화합물 및 이의 모든 광학 및 기하 입체 이성체 및 라세미 혼합물.
    상기식에서, n은 0 또는 1이고; X는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 트리플루오로메틸, 저급 알킬 또는 저급 알콕시이며; Y는 수소, 할로겐, 니트로, 아미노, 트리플루오로메틸, 저급 알킬 또는 저급 알콕시이고; R1은 수소, 저급 알킬, 아릴 저급 알킬, 저급 알케닐, 저급 알키닐, 저급 알카노일, 아릴 저급 알카노일, 헤테로아릴 저급 알킬 또는 헤테로아릴 저급 알카노일이며; R2는 수소, 저급 알킬, 포르밀 또는 시아노이고; Z은 수소, 저급 알킬 또는 벤질이다.
  10. 제9항에 있어서, X가 할로겐 또는 수소이고, Y가 수소이며 R1및 R2가 각각 독립적으로 H 또는 저급 알킬인 일반식(Ⅰb)의 화합물.
  11. a)일반식(ⅩⅤ)의 화합물을 1,1'-카보닐디이미다졸과 반응시켜 중간 생성물을 수득하고 이를 일반식(a)의 아민으로 처리하거나, b)일반식(ⅩⅤ)의 화합물을 일반식(b)의 이소시아네이트와 반응시켜 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, X,Y,R1,R2,R4및 n은 상기 정의된 바와 같고, R3은 수소이다)을 수득함을 포함하는, 제1항에 정의된 일반식(Ⅰa)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서, X,Y,R1,R2,n,R3및 R4는 제1항에 정의된 바와 같다.
  12. a)일반식(Ⅳ)의 화합물을 일반식(C)의 할로피리딘과 반응시켜 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, X,Y,R2및 n은 제9항에서 정의된 바와 같고, Z는 벤질 또는 저급 알킬이며, R1은 수소이다)을 수득하고, b)단계 a)에서 수득된 일반식(Ⅰb)의 화합물을 임의로 상응하는 음이온을 제공하는 적합한 염기와 반응시키며, 이를 일반식(d)의 할라이드와 반응시켜 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 벤질 또는 저급 알킬이고, R1은 수소를 제외하고는 제9항에 정의된 바와 같다)을 수득하고, c)단계 a)에서 수득된 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, R2는 수소이다)을 임의로 상응하는 음이온을 제공하는 적합한 염기와 반응시키며, 이를 일반식(e)의 디저급 알킬설페이트와 반응시켜 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 벤질 또는 저급 알킬이고, R1은 저급 알킬이다)을 수득하고, d)단계 a), b) 또는 c)에서 수득된 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, R2는 수소이다)을 임의로 옥시염화인 및 디메틸포름 아미드와 반응시켜 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 벤질 또는 저급 알킬이고, R2는 포르밀이다)을 수득하며, e)단계 b)에서 수득된 일반식(Ⅰb)의 화합물을 임의로 일반식(f)의 일리드와 반응시켜 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, R2는 저급 알케닐이다)을 수득하고, 이를 환원시켜 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 벤질 또는 저급 알킬이고, R2는 저급 알킬이다)을 수득하며, f)단계 d)에서 수득된 일반식(Ⅰb)의 화합물을 임의로 하이드록실아민과 반응시켜 상응하는 옥심을 수득하고, 이를 벤젠설포닐 클로라이드로 처리하여 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 벤질 또는 저급 알킬이고, R2는 시아노 그룹이다)을 수득하며, g)단계 a)에서 수득된 일반식(Ⅰb)의 화합물을 임의로 에틸 클로로포르메이트와 반응시켜 상응하는 N-에틸카바 메이트를 수득하고, 이를 단계d), e)또는 f)에 기술된 바와 같이 임의로 처리하여 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 벤질 또는 저급 알킬이고, R1은 알콕시카보닐이며, R2는 포르밀, 저급 알킬 또는 시아노이다)을 수들하며, h)상기 단계들 a)내지 g)중 하나의 단계로 부터 수득된 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 벤질이다)을 임의로 가수소분해시켜 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 수소이다)을 수득하고, i)상기 단계들 a)내지 g)중 하나로부터 수득된 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 저급 알킬이다)을 임의로 적합한 분리 시약(예 : HBr, 삼브롬화붕소 에테레이트, 트리메틸실릴 요오다이드 또는 에틸머캅단의 나트륨염)과 방응시켜 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물(여기서, Z는 수소이다)을 수득함을 포함하는, 제9항에 따른 일반식(Ⅰb)의 화합물의 제조방법.
    상기식에서, R2,Y,X, 및 n은 제9항에 정의된 바와 같고, R1은 일반식(d)에서는 수소를 제외하고 제9항에 정의된 바와 같으며; 일반식(e)에서는 저급 알킬이고, Hal은 일반식(C)에서는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드이며; 일반식(d)에서는 염소, 브롬 또는 요오드이며, R6및 R7은 각각 독립적으로 수소 또는 저급 알킬이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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