KR920001634A - 전자 빔 증착원 - Google Patents

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KR920001634A
KR920001634A KR1019910010958A KR910010958A KR920001634A KR 920001634 A KR920001634 A KR 920001634A KR 1019910010958 A KR1019910010958 A KR 1019910010958A KR 910010958 A KR910010958 A KR 910010958A KR 920001634 A KR920001634 A KR 920001634A
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KR1019910010958A
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핑챙
에이 조엘 스미스 피이
Original Assignee
로버트 아이 퍼얼맨
더 비이오우시이 그루우프 인코포레이팃드
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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    • H01J37/02Details
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Abstract

내용 없음

Description

전자 빔 증착원
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 본 발명에 따른 전자 빔 공급원의 평면도.
제2도 제1도의 선(2-2)를 따라 취해진 단면도.
제3도 캔형 용기 부분들이 파단되어 있는 본 발명에 따른 사분극의 평면도.

Claims (5)

  1. 증착제를 포함하는 도가니, 증착제를 증착시키도록 증착제의 축격영역에서 그 증착제에 충격을 가하는 전자빔을 발생하는 전자 빔 총 수단, 도가니의 대향 측면들을 따라 배치된 한쌍의 자극편들, 상기 자극편들을 횡방향으로 연결하며 전자빔을 도가니 안으로 활모양으로 약 270°로 구부려서 수직으로 편향시키도록 상기 자극편들을 가로지는 자계를 발생하는 자계수단, 및 전자빔을 수평평면으로 선택적으로 편향시킴으로써증착제를 완전하게 이용하도록 증착제 상의 전자 빔의 충격 영역이 재배치 될 수 있게 하는 자기 배치수단을 포함하는 전자 빔 증착원으로서, 정방형으로 단부대 단부로 부착된 두쌍의 대향 전자석들의 세트로서, 상기 두쌍의 전자석들 사이로 전자빔이 통과하도록 배치되어 있고, 상기 전자석들중의 한쌍의 전자석들이 전자빔을 자극편들에 평행한 제1방향으로 편향시키도록 협력하며, 다른 한쌍의 전자석들은 그 전자 빔을 상기 자극 편들에 대해 횡방향인 제2방향으로 편향시키기 위해 협력하도록 그 전자석들에 전선을 감아서 배향시킴으로써, 거의 균일한 자계균일한 자계편향으로 제공하여 전자 빔을 수평으로 편향시키고 재배치도리 때 발생하는 충격 영역의 변형을 거의 방지하는 두쌍의 대향 전자석들로 구성된 사분극을 포함하는 자기 편향수단, 전자 빔 증착 원 위쪽의 자계의 플럭스 밀도내 수직변화를 감소시켜 전자 빔이 제1방향으로 편향되어 전자 빔 총 수단에서 멀어질때 발생하는 충격 영역의 길이증가를 방지하도록 수정의 두께와 소정의 간격을 가지며, 전자 빔의 제2방향으로의 편향시에 횡방향 위치들의 말단에서 충격영역내에 꼬리 부분들을 발생시키는 자극편들, 및 한단부가 약 45°의 각도로 상기 자극편들에 연결된 한쌍의 표면쌍극자들로서 전자 빔들이 활 모양으로 구부러져 수직하게 배치될때 상기 한쌍의 표면 쌍극자들의 타단부들 사이로 전자 빔이 통과하여 전자 빔의 제2방향으로 편향시에 횡방향 위치들의 말단에서 충격 영역내에 꼬리 부분들이 거의 형성되지 않도록 자극 편들을 따라 배치되어서, 충격영역이 거의 변형되지 않고, 그 길이가 길어지지 않으며, 꼬리 부분들이 형성되지 않음으로써 충격영역의 크기와 충격영역에서의 전자 빔의 충력밀도 및 증착제의 증착율을 임의의 전자 빔 위치에서도 거의 일정하게 유지시키는 한쌍의 표면 쌍극자들을 포함하는 전자 빔 증착원.
  2. 제1항에 있어서, 자계수단은 도가니 아래에 배치된 한쌍의 여구자석들을 포함하고 사분극은 전자 빔 증착원의 풋프린트를 감소시키도록 도가니 주위에 배치되는 전자 빔 증착원.
  3. 제1항에 있어서, 전자 빔을 제1 및 제2방향으로 편향시키도록 각 쌍의 전자석들에 연속으로 전선이 감겨짐으로써 바이어스 전류가 상기 각 쌍의 전자석들에 공급될수 있는 전자 빔 증착원.
  4. 제1항에 있어서, 자극편들의 소정 두께는 약 1.27㎝이고 자극편들의 소정 간격은 약 15.875㎝인 전자 빔 증착원.
  5. 제1항에 있어서, 표면 쌍극자들의 길이는 약 4.763㎝인 전자 빔 증착원.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910010958A 1990-06-29 1991-06-28 전자 빔 증착원 KR920001634A (ko)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/546,269 1990-06-29
US07/546,269 US5012064A (en) 1990-06-29 1990-06-29 Electron beam evaporation source

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KR920001634A true KR920001634A (ko) 1992-01-30

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JP (1) JPH04231458A (ko)
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EP0463829A2 (en) 1992-01-02
EP0463829A3 (en) 1992-02-26
JPH04231458A (ja) 1992-08-20
US5012064A (en) 1991-04-30

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