KR920001188A - 자성피막을 가진 센서 및 그의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 자성피막 및 비자성 피막이 표면에 형성되어 있는 축형상부재로 이루어진 센서의 부분단면도.
제2도는 자성피막 및 비자성 피막의 일단부의 부분 확대도.
제3도는 한쌍의 자기신호기록수단에 의해 자성피막상에 기록된 자기신호를 도시한 도면.
Claims (19)
- 자기기록용의 자성피막과 자성재료로 이루어진 베이스금속을 가지며, 상기 베이스 금속과 상기 자성피막 사이에 비자성 피막층을 함유하는 것을 특징으로 하는 자성피막을 가진 센서.
- 제1항에 있어서, 상기 비자성 피막은 그의 단부에 있어서도 외부로 노출되지 않는 것을 특징으로 하는 자성피막을 가진 센서.
- 제1항에 있어서, 상기 베이스금속은 축형상부재이며, 이 축형상부재를 회전하면서, 상기 축형상부재의 표면에 형성된 상기 비자성 피막의 표면에, 자성재료, 바인더 및 용매로 이루어진 자성액을 도포하여 자성피막을 형성해서 이루어진 것을 특징으로 하는 자성 피막을 가진 센서.
- 제1항에 있어서, 상기 비자성 피막이 Ti게 금속인 것을 특징으로 하는 자성피막을 가진 센서.
- 제1항에 있어서, 상기 베이스금속이 상기 비자성 피막을 구성하는 고밀도의 비자성 재료를 가지는 조밀한 표면층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 자성피막을 가진 센서.
- 제1항에 있어서, 상기 자성피막의 표면에, 자기신호기록헤드 또는 자기신호해독헤드의 헤드표면보다 부드러운 연성재료와 자성재료로 이루어진 표면층을 형성한 것을 특징으로하는 자성 피막을 가진 센서.
- 제6항에 있어서, 상기 연성재료가 상기 표면층의 20∼30Wt%로 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 자성피막을 가진 센서.
- 제6항에 있어서, 상기 연성재료가 흑연인 것을 특징으로 하는 자성피막을 가진 센서.
- 제6항에 있어서, 상기 표면층이, 상기 표면층의 자성재료보다 투자율이 높은 고투자율의 재료를 함유하는 것을 특징으로하는 자성피막을 가진 센서.
- 제9항에 있어서, 상기 고투자율의 재료가 상기 표면층의 10∼20Wt%로 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 비자성피막을 가진 센서.
- 제9항에 있어서, 상기 고투자율의 재료가 퍼어말로이인 것을 특징으로하는 자성피막을 가진 센서.
- 제1항에 있어서, 상기 비자성 피막이 다공성으로 형성되어있는 것을 특징으로하는 자성피막을 가진 센서.
- 제12항에 있어서, 상기 비자성 피막의 기공률이 5∼10%인 것을 특징으로하는 자성피막을 가진 센서.
- 자성재료로 이루어진 베이스금속의 표면에 비자성 재료로 비자성 피막을 형성하는 공정과, 상기 비자성 피막의 표면에 상기 자성재료로 자기기록용의 자성피막을 형성하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 자성피막을 가진 센서의 제조방법.
- 제14항에 있어서, 상기 자성피막을 형성하는 공정에서는 상기 비자성 피막의 표면에 자성재료를 플라즈마 용사하는 것을 특징으로하는 자성피막을 가진 센서의 제조방법.
- 제14항에 있어서, 상기 비자성 피막을 형성하기 전에, 상기 베이스금속의 최외표면을 어니일팅하고 이 베이스금속의 표면을 거칠게하는 표면처리공정을 포함하며, 상기 베이스금속은 철계금속으로 이루어지고 딱딱한 표면층을 가지며, 상기 비자성 피막을 형성하는 공정에서는, 상기 베이스금속의 표면에 상기 비자성 재료를 플라즈마 용사하는 것을 특징으로하는 자성피막을 가진 센서의 제조방법.
- 제14항에 있어서, 상기 자성피막을 형성하는 공정을 시행하기 전에 상기 비자성 피막을 거칠게 하기 위한 표면처리공정을 시행하고, 상기 베이스 금속은 철계금속으로 이루어지며, 상기 비자성 피막을 형성하는 공정에서는, 상기 베이스금속보다 낮은 표면 경도를 가지는 상기 비자성 피막을 형성하는 것을 특징으로하는 자성피막을 가진 센서의 제조방법.
- 제17항에 있어서, 상기 비자성 피막을 형성하는 공정에서는, 상기 비자성 피막을 상기 베이스금속에 고착한 후 또는 상기 베이스 금속의 표면에 상기 비자성 재료를 공급하는 동안에 상기 베이스 금속에 상기 베이스 금속의 표면을 용융하기 위한 높은 에너지를 제공하여 처리하는 것을 특징으로하는 자성피막을 가진 센서의 제조방법.
- 제17항에 있어서, 상기 베이스금속의 표면에는, 반화층을 포함하여, 상기 비자성 피막을 형성하는 공정에서는, 상기 베이스금속의 표면에, 비자성 재료인 Ti게 금속을 용사처리하는 것을 특징으로 하는 자성피막을 가진 센서의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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