KR910017234A - 유기용매에서 향상된 용해도를 갖는 아조색소, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 감광성 내식막 조성물 - Google Patents

유기용매에서 향상된 용해도를 갖는 아조색소, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 감광성 내식막 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR910017234A
KR910017234A KR1019910004928A KR910004928A KR910017234A KR 910017234 A KR910017234 A KR 910017234A KR 1019910004928 A KR1019910004928 A KR 1019910004928A KR 910004928 A KR910004928 A KR 910004928A KR 910017234 A KR910017234 A KR 910017234A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
pigment
alkyl
hydrogen
alkoxy
Prior art date
Application number
KR1019910004928A
Other languages
English (en)
Inventor
이이 포트빈 로버트
엠 브라운 데이빗
Original Assignee
에드먼드 에이콜린즈
획스트 세라니이즈 코오포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에드먼드 에이콜린즈, 획스트 세라니이즈 코오포레이션 filed Critical 에드먼드 에이콜린즈
Publication of KR910017234A publication Critical patent/KR910017234A/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B35/00Disazo and polyazo dyes of the type A<-D->B prepared by diazotising and coupling
    • C09B35/02Disazo dyes
    • C09B35/021Disazo dyes characterised by two coupling components of the same type
    • C09B35/03Disazo dyes characterised by two coupling components of the same type in which the coupling component is a heterocyclic compound
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B35/00Disazo and polyazo dyes of the type A<-D->B prepared by diazotising and coupling
    • C09B35/02Disazo dyes
    • C09B35/039Disazo dyes characterised by the tetrazo component
    • C09B35/205Disazo dyes characterised by the tetrazo component the tetrazo component being a derivative of a diaryl- or triaryl- alkane or-alkene
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/091Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S534/00Organic compounds -- part of the class 532-570 series
    • Y10S534/01Mixtures of azo compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

유기용매에서 향상된 용해도를 갖는 아조색소, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 감광성 내식막 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (16)

  1. 일반식:
    (식에서, R은 CF3또는 페닐이고, R1과 R2는 수소, 히드록시, 할로겐, C1내지 C3알킬 및 C1내지 C4알콕시로 구성되는 군으로 부터 선택되는 동일 또는 상이한 치환기이고, R3는 수소, C1내지 C3알킬, C1내지 C3알콜시, COOH, 및 R5가 C1내지 C4알킬인 COOR5로 구성되는 군으로부터 선택되고, R6는 수소, 술포닐, C1내지 C3알킬, C1내지 C3알콕시 및 할로겐으로 구성되는 군으로부터 선택되고, n은 0 또는 전체 1내지 3범위의 수임)을 갖는 유기 용매에 가용성인 색소.
  2. 제1항에 있어서, R이 CF3인 색소.
  3. 제2항에있어서, 아조 결합은 이소프로필리덴 결합기에 대해서 각각 메타이고, R1과 R2기는 각각 파라인색소.
  4. 제2항에 있어서, 아조 결합은 이소프로필리덴 결합기에 대해서 각각 파라이고 R1과 R2기는 각각 메타인 색소.
  5. 제2항에 있어서, R3가 메틸인 색소.
  6. 제2항에 있어서, R3가 COOH인 색소.
  7. 제2항에 있어서, R3가 COOR5인 색소.
  8. 제7항에 있어서, R5가 C2알킬인 색소.
  9. 제2항에 있어서, R1가 R2각각 수소인 색소.
  10. 제2항에 있어서, R1과 R2과 각각 히드록시인 색소.
  11. 제10항에 있어서, 상기 히드록시기는 상기 이 소프로필리덴 결합기에 대하여 파라이고 상기 아조 결합은 메타인 색소.
  12. 제1항에 있어서, 상기 용매는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이이트인 색소.
  13. a) 일반식:
    (식에서, R은 CF3,페틸 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기로 치환된 페닐이고, R1과 R2는 수소, 히드록시, 할고겐, C1내지 C3킬 및 C1내지 C4알콕시로 구성되는 군으로부터 선택되는 동일 또는 상이한 치환기임)을 갖는 화합물을 제조하고, b)상기 화합물을 디아조트화하고, c)상기의 테트라아조트화 화합물을 일반식:
    (식에서, R3는 수소, C1내지 C3알킬, C1내지 C3알콕시, COOH 및 R5가 C1내지C4알킬인 COOR5로 구성되는 군으로부터 선택되고 R4는 페닐기 또는 C1내지 C3알킬, C1내지 C3알콕시 또는 할로겐으로 부터 선택되는 1내지 3고리 치환제를 갖는 페닐기임)을 갖는 커플링제와 커플링시킴으로써 구성되는 색소의 제조방법.
  14. 감광성 물질과 제1항의 색소 혼합물로 구성되는 감광성 내식막 조성물.
  15. 수지 결합체, 광증감제 및 제1항의 색소 혼합물로 구성되는 감광성 내식막 조성물.
  16. 유기 용매에 용해된 제1항의 색소.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910004928A 1990-03-29 1991-03-28 유기용매에서 향상된 용해도를 갖는 아조색소, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 감광성 내식막 조성물 KR910017234A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/502,075 US5068319A (en) 1990-03-29 1990-03-29 Biz-diazotized diaryl diamine coupled dyes having improved solubility in organic solvent
US07/502,075 1990-03-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR910017234A true KR910017234A (ko) 1991-11-05

Family

ID=23996227

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019910004928A KR910017234A (ko) 1990-03-29 1991-03-28 유기용매에서 향상된 용해도를 갖는 아조색소, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 감광성 내식막 조성물

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5068319A (ko)
EP (1) EP0449650A3 (ko)
JP (1) JPH04224867A (ko)
KR (1) KR910017234A (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3048742B2 (ja) 1992-03-31 2000-06-05 オリヱント化学工業株式会社 新規な造塩体染料およびインキ組成物
JPH08181049A (ja) * 1994-12-21 1996-07-12 Fujitsu Ltd パターン形成方法
JP3973730B2 (ja) * 1997-05-06 2007-09-12 富士ゼロックス株式会社 帯電付与部材とその製造方法、それを用いた静電潜像現像剤、画像形成装置及び画像形成方法
US6878196B2 (en) 2002-01-15 2005-04-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink, ink jet recording method and azo compound
US6923855B2 (en) 2002-08-06 2005-08-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink, ink-jet-recording method and bis-azo compound
US7365108B2 (en) * 2004-07-14 2008-04-29 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Pigmented ink-jet inks with improved print quality and reliability
US7812140B2 (en) 2007-04-04 2010-10-12 Xerox Corporation Colorant compounds
BRPI0915988B1 (pt) * 2008-07-23 2019-03-26 Clariant Finance (Bvi) Limited Tinturas ácidas, seu processo de preparação e seus usos
EP2251386A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-17 Clariant International Ltd. Pyrazolone bisazo dyes
EP2251385A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-17 Clariant International Ltd. Pyrazolone bisazo dyes
JP2012194297A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Nitto Denko Corp 組成物およびそれを用いた偏光膜の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1869064A (en) * 1929-08-09 1932-07-26 Firm Of J R Geigy S A Manufacture of disazodyestuffs for dyeing and printing wool
DE717219C (de) * 1937-08-27 1942-02-09 Siemens Ag Installationsselbstschalter
US2512251A (en) * 1947-08-30 1950-06-20 American Cyanamid Co 1-aryl-5-pyrazolone azo compounds
US3310573A (en) * 1963-06-17 1967-03-21 Du Pont Diaryl fluoro compounds
BE786778A (fr) * 1971-07-26 1973-01-26 Acna Nouveaux pigments disazoiques et leur procede de preparation
JPS59102955A (ja) * 1982-12-02 1984-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd ビスアゾ系黄色色素
JPS59101607A (ja) * 1982-12-02 1984-06-12 Fuji Photo Film Co Ltd カラ−撮像装置
US4906741A (en) * 1987-10-07 1990-03-06 Hoechst Celanese Corporation Azo dimers containing the hexafluoroisopropylidene group

Also Published As

Publication number Publication date
EP0449650A3 (en) 1992-09-30
JPH04224867A (ja) 1992-08-14
EP0449650A2 (en) 1991-10-02
US5068319A (en) 1991-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910017234A (ko) 유기용매에서 향상된 용해도를 갖는 아조색소, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 감광성 내식막 조성물
JPS5584943A (en) Laminated type electrophotographic photoreceptor
KR960010669A (ko) 알콕시페닐-치환 비스아실포스핀 옥시드
YU48133B (sh) 4-benzoil izoksazol derivati i postupak za njihovo dobivanje
GB1430412A (en) Ink compositions
KR930010622A (ko) 네가티브형 레지스터 조성물
KR930004404A (ko) 염료-함유 편광 필름
KR950032245A (ko) 이합체성 비스아실포스핀, 옥사이드 및 술파이드 화합물 및 이들 화합물을 포함하는 조성물
KR970002215B1 (ko) 수-환원성 염료 조성물
KR870010138A (ko) 표면 개량 안료 조성물
KR950014231A (ko) 반응성 염료, 이들의 제조방법 및 용도
KR840004203A (ko) 하이드라존의 전이-금속 착화합물의 제조방법
KR860003201A (ko) 톨루엔디아민 조성물
JPS5575405A (en) Photopolymerizable composition
KR840006184A (ko) 모노아조 염료 조성물
DE2960353D1 (en) 1,3-bisaryl ethers of glycerol and their application
KR960017790A (ko) 열전사 기록용 피리돈계 옐로우 모노아조 염료
RU2003122195A (ru) Антрахиновые красители, их получение и применение
KR830010150A (ko) 염색제제
KR910020123A (ko) 아조염료 및 이의 제조방법 및 용도
KR920008538A (ko) 광중합성 조성물용 보레이트 공개시제
KR920700264A (ko) 수지 조성물 및 투명 박막 형성법
JPS5690833A (en) Leucotriphenylmethane polymer and photoconducting composition employing the same
KR870007249A (ko) 수용성 아조화합물의 제조방법
KR940007128A (ko) 분산염료

Legal Events

Date Code Title Description
WITB Written withdrawal of application