KR910009844A - 디케토피롤로피롤을 기재로 하는 물질의 조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

디케토피롤로피롤을 기재로 하는 물질의 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (11)

  1. a) 하기 일반식(I)의 디케토피롤로피롤 1 이상 및 b)디케토피롤로피롤 a)를 기준으로 하여 하기 일반식(I)의 상이한 대칭적 및 비대칭적 디케토피롤로피롤 3종 이상의 혼합물 0.5 내지 10중량%를 함유하는 물질의 조성물:
    상기 식에서, a)에서는 R1, R2, R3및 R4는 서로 독립적으로 H, Cl, Br, CH3, OCH3, C6H5또는 CN이며, b)에서는 R1, R2, R3및 R4는 서로 독립적으로 H, Cl, Br, CH3, OCH3, C6H5또는 일반식 -SO3 X의 기이고, X는 H또는 일반식또는 N(R5) (R6) (R7) (R8)의 기이고, Mn 는 n가의 금속 양이온이고, n은 1 내지 3이고, R5, R6, R7, 및 R8은 서로 독립적으로 수소, C1-C18알킬, C5-C6시클로알킬 또는 비치환 또는 C1-C18알킬에 의해 치환된 페닐이거나, 또는 R7과 R8은 N원자와 함께 피롤리딘, 이미다졸리딘, 피페리딘, 피페라진 또는 모르폴린 라디칼을 형성하거나, 또는 R6, R7, 및 R8은 N원자와 함께, 피롤, 피리딘, 피콜린, 피라진, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린 라디칼을 형성하며, 단, 이 혼합물에서 라디칼 R1, R2, R3또는 R4중 1개 이상은 일반식 -SO3 X의 기이다.
  2. 제1항에 있어서, 일반식(I)의 디케토피롤로피롤이 a) 및 b) 모두에서 R2및 R4가 수소이고 R1및 R3이 서로 독립적으로 수소, 4-Cl, 4-Br, 4-CH3, 4-OCH3, 4-C6H5또는 3-CN인 디케토피롤로피롤인 물질의 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 일반식(I)의 디케토피롤로피롤이 a)와 b) 모두에서 R2및 R4가 수소이고 R1및 R3이 서로 독립적으로 수소, 4-Cl인 디케토피롤로피롤인 물질의 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 술폰화된 디케토피롤로피롤 혼합물 b)를 디케토피롤로피롤 a)에 대해 1.5 내지 7중량%의 양으로 디케토피롤로피롤 a)에 혼합하는 물질의 조성물.
  5. 제1항에 있어서, X가 H또는 일반식의 기이고, Mn 가 알칼리금속, 알칼리토금속, 알루미늄 또는 전이 금속 양이온인 물질의 조성물.
  6. 제1항에 있어서, X가 일반식의 기이고, Mn 가 알칼리금속 또는 알칼리토금속 양이온이며, n이 1 또는 2인 물질의 조성물.
  7. 제1항에 있어서, X가 칼슘 양이온인 물질의 조성물.
  8. 하기 일반식(I)의 상이한 대칭적 비대칭적 및 디케토피롤로피롤 3종 이상의 혼합물;
    상기 식에서, R1, R2, R3및 R4는 서로 독립적으로 H, Cl, Br, CH3, OCH3, C6H5또는 일반식 -SO3 X의 기이고, X는 H또는 일반식또는 N(R5) (R6) (R7) (R8)의 기이고, Mn 는 n가의 금속 양이온이고, n은 1 내지 3이고, R5, R6, R7, 및 R8은 서로 독립적으로 수소, C1-C18알킬, C5-C6시클로알킬 또는 비치환 또는 C1-C18알킬에 의해 치환된 페닐이거나, 또는 R7과 R8은 N원자와 함께 피롤리딘, 이미다졸리딘, 피페리딘, 피페라진 또는 모르폴린 라디칼을 형성하거나, 또는 R6, R7및 R8은 N원자와 함께, 피롤, 피리딘, 피콜린, 피라진, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린 라디칼을 형성하며, 단, 이 혼합물에서 라디칼 R1, R2, R3또는 R4중 1개 이상은 일반식 -SO3 X의 기이다.
  9. 강염기의 존재하에서 하기 일반식(Ⅲ) 및 (Ⅳ)의 상이한 니트릴 2종의 혼합무레(Ⅲ) : (Ⅳ)의 몰비는 9 : 1 내지 1 : 9임] 2몰과 하기 일반식(Ⅲ)의 숙식산 디에스테르 1몰을 반응시킨 후 생성된 혼합물을 발연황산, 진한황산, 액체 삼마산화황 또는 클로로술폰산에 의해 공지 방법으로 술폰화시킴으로써, 하기 일반식(I)의 상이한 대칭적 및 비대칭적 디케토피롤로피롤 3종 이상의 혼합물을 제조하는 방법;
    상기 식(Ⅰ)에서, R1, R2, R3및 R4는 서로 독립적으로 H, Cl, Br, CH3, OCH3, C6H5또는 일반식 -SO3 X의 기이고, X는 H또는 일반식또는 N(R5) (R6) (R7) (R8)의 기이고, Mn 는 n가의 금속 양이온이고, n은 1 내지 3이고, R5, R6, R7, 및 R8은 서로 독립적으로 수소, C1-C18알킬, C5-C6시클로알킬 또는 비치환 또는 C1-C18알킬에 의해 치환된 페닐이거나, 또는 R7과 R8은 N원자와 함께 피롤리딘, 이미다졸리딘, 피페리딘, 피페라진 또는 모르폴린 라디칼을 형성하거나, 또는 R6, R7및 R8은 N원자와 함께, 피롤, 피리딘, 피콜린, 피라진, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린 라디칼을 형성하며, 단, 이 혼합물에서 라디칼 R1, R2, R3또는 R4중 1개 이상은 일반식 -SO3 X의 기이며, 상기 식(Ⅱ), (Ⅲ) 및 (Ⅳ)에서, R은 저급 알킬이고, R1, R2, R3및 R4는 서로 독립적으로 H, Cl, Br, CH3, OCH3또는 C6H5이고, 라디칼 R1, R2, R3및 R4중 1개 이상은 수소이어야 한다.
  10. 제1항에 따른 물질의 조성물을 함유하는 고분자량 유기 물질.
  11. 제8항에 따른 혼합물을 함유하는 고분자량 유기 물질.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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