KR910008732A - 3개의 트랜지스터를 가지는 eeprom셀 - Google Patents
3개의 트랜지스터를 가지는 eeprom셀 Download PDFInfo
- Publication number
- KR910008732A KR910008732A KR1019900016909A KR900016909A KR910008732A KR 910008732 A KR910008732 A KR 910008732A KR 1019900016909 A KR1019900016909 A KR 1019900016909A KR 900016909 A KR900016909 A KR 900016909A KR 910008732 A KR910008732 A KR 910008732A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- transistor
- programming
- floating gate
- transistors
- charge
- Prior art date
Links
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 claims 11
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 4
- 210000000352 storage cell Anatomy 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
- G11C16/0408—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors
- G11C16/0433—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors comprising cells containing a single floating gate transistor and one or more separate select transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B69/00—Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명에 따른 개선된 EEPROM의 배선도.
제5도는 본 발명의 EEPROM 셀을 사용한 프로그램가능 논리 장치의 한부분의 배선도.
Claims (12)
- 소거가능한 비-휘발성 축적 셀에 있어서, 출력 신호 라인에 연결되고 제어 입력을 가지는 선택 트랜지스터와: 상기 트랜지스터에 연결되며, 그 동작은 축적 전하 노드상에 축적된 전하에 의해 제어되는 부유 게이트 트랜지스터와, 상기 부유 게이트 트랜지스터와 전압 공급원에 연결되며, 제어 입력을 가지는 프로그래밍 트랜지스터로 구성되고, 상기 셀은 상기 프로그래밍 트랜지스터를 통해 축적 전하와 공급 전압 사이에 전하를 이동시켜 프로그램되고, 상기 선택 트랜지스터에 제어 신호를 인가하여 판독됨을 특징으로 하는 소거가능하는 비-휘발성 축적 셀.
- 제1항에 있어서, 상기 공급 전압은 전하를 축적 전하 노드상에 축적시키기 위하여 프로그래밍 전압 레벨로 상승되고, 그렇지 않으면 접지전위에 유지됨을 특징으로 하는 소거가능한 비-휘발성 축적 셀.
- 제1항에 있어서, 상기 셀은 또한 상기 축적 전하 노드상에 용량성 있게 공급되는 제2공급 전압을 가지며, 상기, 제2공급 전압은 프로그래밍 전압 레벨로 상승하여 전하를 상기 축적 전하 노드로부터 제거하거나, 그렇지 않으면 접지 전위에 남게함을 특징으로 하는 소거가능한 비-휘발성 축적 셀.
- 제3항에 있어서, 상기 공급 전압은 프로그래밍 전압 레벨로 상승하여 전하를 상기 축적 전하 노드에 축적시키거나, 그렇지 않으면 접지 전위에 남게함을 특징으로 하는 소거가능한 비-휘발성 축적 셀.
- 제1항에 있어서, 상기 프로그래밍 트랜지스터는 상기 선택 트랜지스터보다 물리적으로 더 크며, 정상 동작 전압보다 더 큰 프로그램밍 전압들은 상기 프로그래밍 트랜지스터에만 공급됨을 특징으로 하는 소거가능한 비-휘발성 축적 셀.
- 제1항에 있어서, 정상 동작동안, 상기 프로그램밍 트랜지스터는 항상 "스위치-온"되고 상기 공급 전압은 접지되며, 상기 선택 트랜지스터는 그 제어 입력에 인가된 고 전압에 의해 "스위치-온"됨으로써 상기 선택 트랜지스터가 "스위치-온"될때 상기 부유 게이트 트랜지스터가 상기 부유 게이트에 의해"온"으로 제어되면 출력신호 라인은 접지에 연결되고, 그렇지 않으면 상기 셀을 통해 접지에 연결되지 않음을 특징으로 하는 소거 가능한 비-휘발성 축적 셀.
- 프로그램가능 논리 장치용 어레이 접합 스위치 소장에 있어서, 출력 신호 라인과, 부유 게이트상에 축적된 전하로써 1비트의 연결 정보를 각각 축적하는데 제1 및 제2부유 게이트 트랜지스터들과; 상기 제1 및 제2부유게이트 트랜지스터들 각각과 상기 출력 신호 라인 사이에 연결된 제1및 제2프로그래밍 트랜지스터들로 구성되고, 상기 제1및 제2부유 게이트 트랜지스터들은 상기 각각의 제1및 제2프로그래밍 트랜지스터들을 통해 그들의 게이트들과 공급 전압 사이에 전하를 이동시켜 프로그램하고, 상기 제1및 제2선택 트랜지스터를 각각 "터온-온"시켜 판독함을 특징으로 하는 프로그램가능 논리 장치용 어레이 접합 스위칭 소자.
- 제7항에 있어서, 상기 제1및 제2프로그래밍 트랜지스터들은 상기 선택 트랜지스터들보다 물리적으로 더 크며, 상기 정상적인 동작 전압보다 더 큰 프로그래밍 전압들은 상기 프로그래밍 트랜지스터들에만 공급됨을 특징으로 하는 프로그램가능 논리 장치용 어레이 접합 스위칭 소자.
- 제7항에 있어서, 정상적인 동작 동안, 상기 프로그래밍 트랜지스터들은 항상 "스위치-온"되고, 공급 전압은 접지에 공급되며, 상기 선택 트랜지스터들은 그들의 제어 입력들에 인가된 고 전압에 의해 "스위치-온"되어, 상기 선택 트랜지스터들이 "스위치-온"될때 만약 상기 연결된 부유 게이트 트랜지스터가 그 부유 게이트에 의해 "온"으로 제어되면 상기 출력 신호 라인은 접지에 연결되고, 그렇지 않으면 상기 셀을 통해 접지에 연결되지 않음을 특징으로 하는 프로그램가능 논리 장치용 어레이 접합 스위칭 소자.
- 입력 신호 종열과 프로덕트 터엄 신호 라인들을 포함하는 AND-OR어레이를 가지는 프로그램가능 논리장치에 있어서, 프로덕트 터엄 신호 라인들과 종열의 각각의 접합은 스위칭 소자를 포함하며, 상기 스위칭 소자는, 제어 입력을 가지며 상기 프로덕트 터엄 신호 라인에 연결된 선택 트랜지스터와, 상기 선택 트랜지스터에연결되며, 그의 동작이 축적 전하 노드상에 축적된 전하에 의해 제어되는 부유 게이트 트랜지스터와, 상기 부유게이트 트랜지스터와 공급 전압에 연결되고 제어 입력을 가지는 프로그래밍 트랜지스터로 구성되며, 상기 스위칭소자는 상기 프로그램밍 트랜지스터를 통해 상기 축적 전하 노드와 공급 전압 사이의 전하를 이동시켜 프로그램되고, 상기 선택 트랜지스터에 제어 신호를 인가함으로써 판독됨을 특징으로 하는 AND-OR어레이를 가지는 프로그램가능 논리 장치.
- 제10항에 있어서, 상기 프로그래밍 트랜지스터는 상기 선택 트랜지스터보다 물리적으로 더 크며, 정상적인 동작 전압보다 더 큰 프로그래밍 전압들은 상기 프로그래밍 트랜지스터에만 공급됨을 특징으로 하는 AND-OR어레이를 가지는 프로그램가능 논리 장치.
- 제10항에 있어서, 상기 정상적인 동작동안, 상기 프로그래밍 트랜지스터는 항상"스위치-온되고, 상기 공급 전압은 접지에 공급되며, 상기 선택 트랜지스터는 그 제어 입력에 인가된 고 전압에 의해 "스위치-온되어:상기 선택 트랜지스터가"스위치-온"될때 만일 상기 부유 게이트 트랜지스터가 상기 부유 게이트에 의해 "온"으로 제어되면 상기 프로덕트 터엄 신호 라인이 접지 연결되고, 그렇지 않으면 상기 셀을 통해 접지에 연결되지 않음을 특징으로 하는 AND-OR어레이를 가지는 프로그램가능 논리 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/429308 | 1989-10-31 | ||
US07/429,308 US5170373A (en) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | Three transistor eeprom cell |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR910008732A true KR910008732A (ko) | 1991-05-31 |
Family
ID=23702691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900016909A KR910008732A (ko) | 1989-10-31 | 1990-10-22 | 3개의 트랜지스터를 가지는 eeprom셀 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5170373A (ko) |
EP (1) | EP0426282B1 (ko) |
JP (1) | JPH03210818A (ko) |
KR (1) | KR910008732A (ko) |
DE (1) | DE69031648T2 (ko) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4121053C2 (de) * | 1991-06-26 | 1995-10-19 | Eurosil Electronic Gmbh | Speicherzelle mit Floating-Gate-Transistor |
US5864162A (en) * | 1993-07-12 | 1999-01-26 | Peregrine Seimconductor Corporation | Apparatus and method of making a self-aligned integrated resistor load on ultrathin silicon on sapphire |
US5863823A (en) * | 1993-07-12 | 1999-01-26 | Peregrine Semiconductor Corporation | Self-aligned edge control in silicon on insulator |
US5930638A (en) * | 1993-07-12 | 1999-07-27 | Peregrine Semiconductor Corp. | Method of making a low parasitic resistor on ultrathin silicon on insulator |
JPH09512658A (ja) * | 1994-04-29 | 1997-12-16 | アトメル・コーポレイション | 高速で、不揮発性の電気的にプログラム可能で、かつ消去可能なセルおよび方法 |
US5596524A (en) * | 1995-04-21 | 1997-01-21 | Advanced Micro Devices, Inc. | CMOS memory cell with gate oxide of both NMOS and PMOS transistors as tunneling window for program and erase |
US5754471A (en) * | 1995-06-06 | 1998-05-19 | Advanced Micro Devices, Inc. | Low power CMOS array for a PLD with program and erase using controlled avalanche injection |
US5742542A (en) * | 1995-07-03 | 1998-04-21 | Advanced Micro Devices, Inc. | Non-volatile memory cells using only positive charge to store data |
US5581501A (en) * | 1995-08-17 | 1996-12-03 | Altera Corporation | Nonvolatile SRAM cells and cell arrays |
US5587945A (en) * | 1995-11-06 | 1996-12-24 | Advanced Micro Devices, Inc. | CMOS EEPROM cell with tunneling window in the read path |
US6005806A (en) | 1996-03-14 | 1999-12-21 | Altera Corporation | Nonvolatile configuration cells and cell arrays |
US5646901A (en) * | 1996-03-26 | 1997-07-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | CMOS memory cell with tunneling during program and erase through the NMOS and PMOS transistors and a pass gate separating the NMOS and PMOS transistors |
US6018476A (en) * | 1996-09-16 | 2000-01-25 | Altera Corporation | Nonvolatile configuration cells and cell arrays |
US6327182B1 (en) | 1998-06-22 | 2001-12-04 | Motorola Inc. | Semiconductor device and a method of operation the same |
US6232634B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-05-15 | Motorola, Inc. | Non-volatile memory cell and method for manufacturing same |
US6064595A (en) * | 1998-12-23 | 2000-05-16 | Vantis Corporation | Floating gate memory apparatus and method for selected programming thereof |
US6706402B2 (en) | 2001-07-25 | 2004-03-16 | Nantero, Inc. | Nanotube films and articles |
US7430137B2 (en) * | 2004-09-09 | 2008-09-30 | Actel Corporation | Non-volatile memory cells in a field programmable gate array |
US8320191B2 (en) | 2007-08-30 | 2012-11-27 | Infineon Technologies Ag | Memory cell arrangement, method for controlling a memory cell, memory array and electronic device |
JP2012191455A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
JP5771315B2 (ja) * | 2014-06-23 | 2015-08-26 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7905548A (nl) * | 1979-07-17 | 1981-01-20 | Unilever Nv | Vaste koolwaterstofharsen. |
US4380804A (en) * | 1980-12-29 | 1983-04-19 | Ncr Corporation | Earom cell matrix and logic arrays with common memory gate |
US4715014A (en) * | 1985-10-29 | 1987-12-22 | Texas Instruments Incorporated | Modified three transistor EEPROM cell |
JPS62266793A (ja) * | 1986-05-13 | 1987-11-19 | Mitsubishi Electric Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JPS63138598A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Mitsubishi Electric Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JPH0777078B2 (ja) * | 1987-01-31 | 1995-08-16 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体メモリ |
US5008856A (en) * | 1987-06-29 | 1991-04-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electrically programmable nonvolatile semiconductor memory device with NAND cell structure |
JPH07120719B2 (ja) * | 1987-12-02 | 1995-12-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
US4855955A (en) * | 1988-04-08 | 1989-08-08 | Seeq Technology, Inc. | Three transistor high endurance eeprom cell |
US5101378A (en) * | 1988-06-15 | 1992-03-31 | Advanced Micro Devices, Inc. | Optimized electrically erasable cell for minimum read disturb and associated method of sensing |
US5005155A (en) * | 1988-06-15 | 1991-04-02 | Advanced Micro Devices, Inc. | Optimized electrically erasable PLA cell for minimum read disturb |
US4935698A (en) * | 1989-03-03 | 1990-06-19 | Sprague Electric Company | Sensor having dual Hall IC, pole piece and magnet |
US4963769A (en) * | 1989-05-08 | 1990-10-16 | Cypress Semiconductor | Circuit for selective power-down of unused circuitry |
-
1989
- 1989-10-31 US US07/429,308 patent/US5170373A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-08-30 EP EP90309521A patent/EP0426282B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-30 DE DE69031648T patent/DE69031648T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-22 KR KR1019900016909A patent/KR910008732A/ko not_active Application Discontinuation
- 1990-10-31 JP JP2292205A patent/JPH03210818A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0426282B1 (en) | 1997-10-29 |
EP0426282A2 (en) | 1991-05-08 |
US5170373A (en) | 1992-12-08 |
DE69031648D1 (de) | 1997-12-04 |
JPH03210818A (ja) | 1991-09-13 |
DE69031648T2 (de) | 1998-03-19 |
EP0426282A3 (en) | 1992-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR910008732A (ko) | 3개의 트랜지스터를 가지는 eeprom셀 | |
US5245570A (en) | Floating gate non-volatile memory blocks and select transistors | |
US5247478A (en) | Programmable transfer-devices | |
US4715014A (en) | Modified three transistor EEPROM cell | |
US4760555A (en) | Memory array with an array reorganizer | |
US5138576A (en) | Method and apparatus for erasing an array of electrically erasable EPROM cells | |
KR950015395A (ko) | 불휘발성 반도체 메모리장치 | |
KR960019315A (ko) | 불휘발성 반도체 메모리장치 | |
US4387444A (en) | Non-volatile semiconductor memory cells | |
JPS62117196A (ja) | 電気的に消去可能なプログラム可能なメモリ・セルとその製法 | |
JPH02141994A (ja) | 不揮発性半導体メモリ | |
KR950020749A (ko) | 반도체 불휘발성 기억장치 | |
US4635229A (en) | Semiconductor memory device including non-volatile transistor for storing data in a bistable circuit | |
US5274278A (en) | High-speed tri-level decoder with dual-voltage isolation | |
KR960005620A (ko) | 비휘발성 메모리 | |
KR100758885B1 (ko) | 플래시 메모리용 고속 디코더 | |
US6515911B2 (en) | Circuit structure for providing a hierarchical decoding in semiconductor memory devices | |
US4805150A (en) | Programmable semiconductor memory device having grouped high voltage supply circuits for writing data | |
US4785423A (en) | Current limited epld array | |
US5978263A (en) | Negative voltage switch architecture for a nonvolatile memory | |
US6166957A (en) | Nonvolatile semiconductor memory device with a level shifter circuit | |
EP0389584A1 (en) | TRANSISTOR BREAKTHROUGH PROTECTION CIRCUIT. | |
JP2533213B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
GB2201059A (en) | High voltage FET circuit | |
JP2515703B2 (ja) | Eeprom装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |