KR910006710A - 이물질 검출방법 및 그 장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1의 실시예를 도시한 광학계의 사시도,
제2도 A~F는 제1도에 도시한 실시예의 발사조명계의 광로의 측면도, 평면도 및 일부 단면도.
Claims (27)
- 대상물을 조명하여 광학계를 거쳐서 그 방사광을 검출하고, 상기 대상물상의 이물질을 배경과 구별해서 검출하는 방법에 있어서, 대상물을 그 배경에서의 반사광이 억압되어 상대적으로 이물질에서의 반사광이 강조되는 제1의 조명을 실행하고, 상기 제1의 조명에 의한 상기 대상물에서의 반사광을 검출해서 제1의 검출신호를 얻고, 대상물을 그 배경에서의 반사광이 이물질에서의 반사광에 비해 상대적으로 억압받지 않는 제2의 조명을 실행하고, 상기 제2의 조명에 의한 상기 대상물에서의 반사광을 검출해서 제2의 검출신호를 얻고, 상기 제1의 검출신호에 대해서 제2의 검출신호를 사용해서 이물질 강조처리를 실행해서 이물질을 검출하는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 제1의 조명은 조명광으로써 편광이 사용됨과 동시에 상기 광학계의 광축의 바깥쪽에서 대상물에 대해 경사진 방향으로 조명을 실행하고, 상기 제2의 조명은 파장 및 편광중 적어도 한쪽을 상기 제1의 조명과 다르게 하여 상기 광학계의 광축에 따라서 대상물에 대한 조명을 실행하는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 제1의 조명과 제2의 조명을 시분할로 실행하고, 상기 시분할의 조명에 동기 시켜서 상기 대상물엣의 반사광을 시분할로 검출하여 제1의 검출신호 및 제2의 검출신호를 얻는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제1항 기재에 있어서, 상기 제1의 조명에 의한 상기 대상물에서의 산란광을 검출해서 제1의 검출신호를 얻고, 상기 제2의 조명에 의한 상기 대상물에서의 산란광을 검출해서 제2의 검출신호를 얻는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 제1의 조명에 의해 대상물상에 선형상의 조명영역을 형성하고, 제2의 조명에 의해 대상물상에 선형상의 조명영역을 형성하는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제5항에 있어서, 상기 제1의 조명에 의한 선형상의 조명영역에서의 산란광을 검출해서 제1의 검출신호를 얻고, 상기 제2의 조명에 의한 선형상의 조명영역에서의 산란광을 검출해서 제2의 검출신호를 얻는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제4항에 있어서, 대상물에서의 제2의 조명에 의한 반사광중 0차원 희절광을 차광하고, 이것에 의해서 차광되지 않은 산란광을 집광해서 제2의 검출신호를 얻는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 제2의 검출신호와 상기 제1의 검출신호를 비교하는 것에 의해 이물질 강초처리를 실행하는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 제1의 검출신호와 제2의 검출신호를 가산해서 이물질 강조처리를 실행하는 이물질 검출방법.
- 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 패턴부착의 대상물의 표면에 있는 이물질을 검출하는 경우에는 상기 제1 및 제2의 조명을 사용해서 제1 및 제2의 검출신호를 얻고, 이들에 따라서 이물질 강조처리를 실행해서 이물질 검출을 실행하고, 경면상의 이물질을 검출하는 경우에는 상기 제2의 조명을 사용해서 상기 제2의 검출신호를 얻고, 이것에 따라서 이물질 검출을 실행하는 이물질 검출방법.
- 대상물상에 있는 이물질을 상기 대상울 표면의 배경과 구별해서 검출하는 장치에 있어서, 대상물을 그 배경에서의 반사광이 억압되어 상대적으로 이물질에서의 반사광이 강조되는 조명을 실행하는 제1조명수단, 대상물을 그 배경에서의 반사광이 이물질에서의 반사광에 비해 상대적으로 억압받지 않는 조명을 실행하는 제2조명수단, 상기 제1조명수단에 의한 상기 대상물에서의 반사광을 검출해서 검출신호를 얻는 제1검출수단, 상기 제2조명수단에 의한 상기 대상물에서의 반사광을 검출해서 검출신호를 얻는 제2검출수단, 상기 대상물에서의 반사광을 상기 제1검출수단 및 제2검출수단에 인도하는 광학계, 상기 제1검출수단의 검출신호에 대해서 제2검출수단의 검출신호를 사용하여 이물질 강조처리를 실행해서 이물질을 검출하는 신호 처리수단을 구비하는 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제11항에 있어서, 상기 제1조명수단은 편광을 사출하는 1 또는 2이상의 광원을 갖고, 이 광원은 상기 광학계의 광축의 바깥쪽에서 대상물에 대해 경사진 방향으로 조명을 실행하도록 배채되고, 상기 제2조명수단은 파장 및 편광중 적어도 한쪽이 상기 제1조명수단의 조명광과 다른 광원과 상기 광원에서의 조명광을 상기 광학계의 광축에 따라서 대상물에 조사시키는 수단을 갖는 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 상기 제1조명수단 및 제2조명수단은 각각 대상물상에 선형상의 조명영역을 형성하는 기능을 갖는 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 상기 광학계는 대상물에서의 반사광을 제1조명수단에 의해 발생한 제1의 반사광과 제2조명수단에 의해 발생한 제2의 반사광을 분리하는 기능을 구비하며, 또한 상기 제1검출수단과 제2검출수단은 반사광을 전기신호로 변환하는 검출기를 각각 구비하고, 제1검출수단의 검출기는 상기 분리된 제1의 반사광을 수광하는 위치에, 상기 제2검출수단의 검출기는 상기 분리된 제2의 반사광을 수광하는 위치에 각각 배치되는 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제13항에 있어서, 상기 광학계는 대상물의 선형상 조명영역에서의 반사광을 제1조명수단에 의해 발생한 제1의 반사광과 제2조명수단에 의해 발생한 제2의 반사광으로 분리하는 기능을 구비하며, 또한 상기 제1검출수단과 제2검출수단은 다수개의 화소를 선형상으로 배열해서 제1고체촬상소자를 형성하고, 상기 화소단위에 반사광을 전기신호로 변환하는 검출기를 각각 구비하고, 제1검출수단의 검출기는 상기 분리된 제1의 반사광을 수광하는 위치에, 상기 제2검출수단의 검출기는 상기 분리된 제2의 반사광을 수광하는 위치에 각각 화소의 선형상 배열을 상기 선형상 조명영역에서의 반사광의 선형상 분포에 대응시켜서 배치되는 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제14항에 있어서, 상기 광학계는 대상물에서의 반사에 의해 발생한 산란광을 집광하고, 상기 제1검출수단 및 제2검출수단에 입사시키는 기능을 갖는 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제14항에 있어서, 상기 광학계는 대상물의 경면에서의 반사광을 차광하고, 대상물상의 이물질에서의 반사에 의한 산란광을 투과시키는 차광수단을 구비한 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 제1조명수단과 제2조명수단은 서로 다른 파장의 조명광을 발생하는 광원을 갖는 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제14항에 있어서, 상기 광학계는 대상물에서의 반사광을 파장에 의해 분리하는 색분해형분기소자를 구비한 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제19항에 있어서, 상기 색분해형 분기소자는 색분해프리즘, 하프미러와 색 필터를 조합한 것, 색선별미러 프리즘 및 색선별 미러와 색필터를 조합한 것 중에서 선택되는 어느것인 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제11항에 있어서, 상기 신호처리수단은 상기 제1검출수단의 검출신호와 대응하는 제2검출수단의 검출신호를 비교해서 이물질 강조처리를 실행하는 비교회로를 구비한 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제21항에 있어서, 상기 비교회로가 분할기능을 갖는 것인 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제11항에 있어서, 상기 신호처리수단은 상기 제1검출수단의 검출신호와 대응하는 제2검출수단의 검출신호를 가산해서 이물질 강조처리를 실행하는 가산회로를 구비한 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제11항에 있어서, 상기 신호처리수단은 상기 제1검출수단의 검출신호와 대응하는 제2검출수단 검출신호로 비교해서 이물질 강조처리를 실행하는 비교회로를 구비한 제1의 신호처리수단, 상기 제1검출수단의 검출신호와 대응하는 제2검출수단의 검출신호를 가산하여 이물질 강조 처리를 실행하는 가산회로를 구비한 제2의 신호 처리 수단 및 이들을 선택적으로 동작시키는 선택수단을 구비한 이물질 검출장치.
- 대상물상에 있는 이물질을 상기 대상물 표면의 배경과 구별해서 검출하는 장치에 있어서, 대상물을 그 배경에서의 반사광이 억압되어 상대적으로 이물질에서의 반사광이 강조되는 조명을 실행하는 제1조명수단, 대상물을 그 배경에서의 반사광이 이물질에서의 반사광에 비해 상대적으로 억압받지 않는 조명을 실행하는 제2조명수단, 상기 제1조명수단과 제2조명수단을 시분할해서 조명시키도록 제어하는 수단, 상기 시분할의 조명에 동기시켜서 상기 대상물에서의 반사광을 시분할로 검출하여 제1의 검출신호 및 제2의 검출신호를 얻는 검출수단, 상기 대상물에서의 반사광을 상기 검출수단에 인도하는 광학계 및 상기 검출수단에서 출력되는 상기 제1검출신호에 대하여 상기 제2검출신호를 사용해서 이물질 강조 처리를 실행하여 이물질을 검출하는 신호처리수단을 구비한 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제25항에 있어서, 상기 제1조명수단은 편광을 사출하는 1 또는 2이상의 광원을 갖고, 이 광원은 상기 광학계의 광축의 바깥쪽에서 대상물에 대해 경사진 방향으로 조명을 실행하도록 배치되고, 상기 제2조명수단은 파장 및 편광중 적어도 한쪽이 상기 제1조명수단의 조명광과 다른 광원과 상기 광원에서의 조명광을 상기 광학계의 광축에 따라서 대상물에 조사시키는 수단을 갖는 이물질 검출장치.
- 특허청구의 범위 제25항에 있어서, 상기 신호처리수단은 상기 제1의 검출신호를 일시적으로 기억 유지하는 제1신호 유지수단, 상기 제2의 검출신호를 일시적으로 기억유지하는 제2신호 유지수단, 상기 검출수단에서의 제1의 검출신호와 제2의 검출신호를 상기 제1 및 제2의 신호유지수단에 상기 시분할 동기해서 선택적으로 입력시키는 전환회로, 이들의 제1 및 제2의 신호유지 수단에 유지되는 신호에 따라서 제1의 검출신호와 제2의 검출신호를 비교하는 비교수단및 이 비교결과를 2진화하는 2진화 회로를 구비해서 구성되는 이물질 검출장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220005439A (ko) * | 2019-05-13 | 2022-01-13 | 유니서스 리미티드 | 유체 샘플에서 입자의 특성을 결정하는 방법 및/또는 유체 샘플에서 오염 특성을 결정하는 방법 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3314440B2 (ja) * | 1993-02-26 | 2002-08-12 | 株式会社日立製作所 | 欠陥検査装置およびその方法 |
US5428452A (en) * | 1994-01-31 | 1995-06-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Optical fourier transform method for detecting irregularities upon two-dimensional sheet material such as film or tape |
JP3373327B2 (ja) * | 1995-04-24 | 2003-02-04 | 松下電器産業株式会社 | 異物検査装置 |
US5926266A (en) * | 1996-09-23 | 1999-07-20 | International Business Machines Corporation | Optical apparatus for rapid defect analysis |
JPH10161195A (ja) * | 1996-12-02 | 1998-06-19 | Sony Corp | オートフォーカス方法及びオートフォーカス装置 |
JP2001512576A (ja) * | 1997-02-21 | 2001-08-21 | ブラジンスキー,シドニー | 半導体ウェーハを走査して欠陥を検査する方法 |
US6351549B1 (en) * | 1997-10-24 | 2002-02-26 | Ultratouch Corporation | Detection head for an apparatus for detecting very small breast anomalies |
US20040030672A1 (en) * | 2001-08-01 | 2004-02-12 | Garwin Jeffrey L | Dynamic health metric reporting method and system |
US6597006B1 (en) * | 2001-10-09 | 2003-07-22 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Dual beam symmetric height systems and methods |
TWI291729B (en) | 2001-11-22 | 2007-12-21 | Semiconductor Energy Lab | A semiconductor fabricating apparatus |
US7105048B2 (en) * | 2001-11-30 | 2006-09-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus |
TWI267145B (en) * | 2001-11-30 | 2006-11-21 | Semiconductor Energy Lab | Manufacturing method for a semiconductor device |
US7133737B2 (en) * | 2001-11-30 | 2006-11-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Program for controlling laser apparatus and recording medium for recording program for controlling laser apparatus and capable of being read out by computer |
US7214573B2 (en) | 2001-12-11 | 2007-05-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device that includes patterning sub-islands |
US7135389B2 (en) * | 2001-12-20 | 2006-11-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Irradiation method of laser beam |
JP4141138B2 (ja) | 2001-12-21 | 2008-08-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
US6984573B2 (en) * | 2002-06-14 | 2006-01-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation method and apparatus |
JP4183492B2 (ja) * | 2002-11-27 | 2008-11-19 | 株式会社日立製作所 | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
KR100493847B1 (ko) * | 2003-04-09 | 2005-06-08 | 삼성전자주식회사 | 파티클을 검출하기 위한 장치 및 방법 |
TWI276149B (en) * | 2004-05-05 | 2007-03-11 | Bobst Sa | Method and device for detecting patterns on a substrate |
US7349082B2 (en) * | 2004-10-05 | 2008-03-25 | Asml Netherlands B.V. | Particle detection device, lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102006059190B4 (de) * | 2006-12-15 | 2009-09-10 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Vorrichtung zur Wafer-Inspektion |
JP2016120535A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP6475069B2 (ja) * | 2015-04-23 | 2019-02-27 | アズビル株式会社 | 粒子検出装置及び粒子の検出方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3790287A (en) * | 1972-03-31 | 1974-02-05 | Western Electric Co | Surface inspection with scanned focused light beams |
US4391524A (en) * | 1981-03-16 | 1983-07-05 | Rca Corporation | Method for determining the quality of light scattering material |
US4740079A (en) * | 1984-10-29 | 1988-04-26 | Hitachi, Ltd. | Method of and apparatus for detecting foreign substances |
US4889998A (en) * | 1987-01-29 | 1989-12-26 | Nikon Corporation | Apparatus with four light detectors for checking surface of mask with pellicle |
US4806774A (en) * | 1987-06-08 | 1989-02-21 | Insystems, Inc. | Inspection system for array of microcircuit dies having redundant circuit patterns |
-
1990
- 1990-09-18 KR KR1019900014697A patent/KR920007196B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-09-18 US US07/584,120 patent/US5225886A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220005439A (ko) * | 2019-05-13 | 2022-01-13 | 유니서스 리미티드 | 유체 샘플에서 입자의 특성을 결정하는 방법 및/또는 유체 샘플에서 오염 특성을 결정하는 방법 |
Also Published As
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---|---|
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