KR900018411A - 금속 표면의 물리 화학적 정련 방법 및 이를 위한 조성물 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (28)
- 물에 첨가되어 자성 스테인레스 스틸 표면의 물리 화학적 정련에 사용하기에 효과적인 수용액을 제공하는조성물에 있어서, 주요량으로서, 적어도 지백적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 및, 언급된 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28 내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트염 및 m-니트로벤젠 설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 물의 10중량%이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해됨을 특징으로 하는 조성물.
- 물에 첨가되어 자성 스테인레스 스틸 표면의 물리 화학적 정련에 사용하기에 효과적인 수용액을 제공하는 조성물에 있어서, 주요량으로서, 적어도 지배적으로 옥산산으로 이루어진 산 성분 및, 언급된 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트염 및 m-니트로벤젠 설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분 및, 언급된 조성물의 약 2.5내지 10중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제를 함유하고, 물의 10중량% 이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해됨을 특징으로 하는 조성물.
- 물에 첨가되어 자성 스테인레스 스틸 표면의 물리화학적 정련에 사용하기에 효과적인 수용액을 제공하는 조성물에 있어서, 주요량으로서, 적어도 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 및, 언급된 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트염 및 m-니트로벤젠 설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분, 언급된 조성물의 약 2.5내지 10중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제 및, 언급된 조성물의 약 0.2내지 0.6중량%의 양으로서, 폴리(옥시에틸렌)알킬 알콜 계면활성제를 함유하고, 물의 10중량%이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해됨을 특징으로 하는 조성물.
- 물에 첨가되어 자성 스테인레스 스틸 표면의 물리화학적 정련에 사용하게 효과적인 수용액을 제공하는 조성물에 있어서, 주요량으로서, 적어도 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 ; 산 성분과 자성 스테인레스스틸 표면 사이의 반응 속도를 촉진시키기에 충분한 소량으로, (a) 티오시아네이트염, 디티오카바메이트염, 티오우레아 및 테트라메틸티우람 모노설파이드로 이루어진 그룹 중에서 선택된 황-함유 화합물 및 (b) m-니트로벤젠 설폰산, 니트로이소프탈산, 니트로테레프탈산, 니트로-p-톨루산, 니트로벤조산, 클로로니트로벤조산, 언급된 산의 알칼리 금속 및 암모늄염, 및 4-클로로-3-니트로벤젠설폰아미드로 이루어진 부류 중에서 선택된 니트로-벤젠 화합물 산화제로 본질적으로 이루어진 촉진 성분; 및 언급된 조성물의 약3내지 8중량%의 양으로서, 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시 알킬아민 계면활성제를 함유하고, 물의 10중량% 이하의 양으로 20℃의 수중에 적오더 실질적으로 완전히 용해됨을 특징으로 하는 조성물.
- 물에 첨가되어 자성 스테인레스 스틸 표면의 물리화학적 정련에 사용하기에 효과적인 수용액을 제공하는 조성물에 있어서, 주요량으로서, 적어도 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분; 산 성분과 자성 스테인레스스틸 표면 사이의 반응 속도를 촉진시키기에 충분한 소량으로, (a) 티오시아네이트염, 디티오카바메이트염, 티오우레아, 및 테트라메틸티우람 모노설파이드로 이루어진 그룹 중에서 선택된 황-함유 화합물 및 (b) m-니트로벤젠 설폰산, 니트로이소프탈산, 니트로테레프탈산, 니트로-p-톨루산, 니트로벤조산, 클로로니트로벤조산, 언급된 산의 알칼리 금속 및 암모늄염, 및 4-클로로-3-니트로벤젠설폰아미드로 이루어진 부류 중에서 선택된 니트로-벤젠 화합물 산화제로 본질적으로 이루어진 촉진 성분; 언급된 조성물의 약 2.5내지 10중량%의 양으로서, 알킬 그룹에서 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제; 및 언급된 조성물의 약0.2내지 0.6중량%의 양으로서, 폴리-(옥시에틸렌)알킬 알콜 계면활성제를 함유하고, 물의 10중량%이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해됨을 특징으로 하는 조성물.
- 주요량으로서, 적어도 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 및, 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트 염 및 m-니트로벤젠 설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 모든 구성 성분이 약 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되고, 용액중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지함을 특징으로 하는 조성물 및 물을 함유하는, 자성 스테인레스 시틀 표면의 정련용 수용액.
- 주요량으로서, 적어도 지백적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 및, 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트염 및 m-니트로벤젠 설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 또한 조성물의 약 2.5내지 10중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제를 함유하고, 모든 구성 성분이 약20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되며, 용액중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지함을 특징으로 하는 조성물 및 물을 함유하는, 자성 스테인레스 스틸 표면의 정련용 수용액.
- 주요량으로서, 적어도 지백적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 및, 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트염 및 m-니트로벤젠 설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 또한 조성물의 약 2.5내지 10중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제 및, 조성물의 약 2.0내지 0.6중량%의 양으로서, 폴리(옥시에텔렌)알킬 알콜 계면화성제를 함유하고, 모든 구성 성분이 약 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되며, 용액중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지함을 특징으로 하는 조성물 및 물을 함유하는, 자성 스테인레스 스틸 표면의 정련용 수용액.
- 주요량으로서, 적어도 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분; 및 산성분과 자성 스테인레스 스틸 표면 사이의 반응 속도를 촉진시키기에 충분한 소량으로, (a) 티오시아네이트염, 디티오카바메이트염, 티오우레아, 및 테트라메틸티우람 모노설파이드로 이루어진 그룹 중에서 선택된 황-함유 화합물 및 (b) m-니트로벤젠 설폰산, 니트로이소프탈산, 니트로테레프탈산, 니트로-p-톨루산, 니트로벤조산, 클로로니트로벤조산, 언급된 산의 알칼리 금속 및 암모늄염, 및 4-클로로-3-니트로벤젠설폰아미드로 이루어진 부류 중에서 선택된 니트로-벤젠 화합물 산화제로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 또한 조성물의 약3내지 8중량%의 양으로서, 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제를 함유하며, 모든 구성 성분이 약 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되고, 용액중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지함을 특징으로 하는 조성물 및 물을 함유하는, 자성 스테인레스 스틸 표면의 정련용 수용액.
- 주요량으로서, 적어도 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분; 및 산 성분과 자성 스테인레스 스틸 표면 사이의 반응 속도를 촉진시키기에 충분한 소량으로, (a) 티오시아네이트염, 디티오카바메이트염, 티오우레아, 및 테트라메틸티우람 모노설파이드로 이루어진 그룹 중에서 선택된 황-함유 화합물 및 (b) m-니트로벤젠 설포산, 니트로이소프탈산, 니트로테레프탈산, 니트로-p-톨루산, 니트로벤조산, 클로로니트로벤조산, 언급된 산의 알칼리 금속 및 암모늄염, 및 4-클로로-3-니트로벤젠설폰아미드로 이루어진 부류 중에서 선택된 니트로-벤젠 화합물 산화제로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 또한 조성물의 약 2.5내지 10중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제 및 조성물의 약 0.2내지 0.6중량%의 양으로서 폴리(옥시에틸렌) 알킬 알콜 계면활성제를 함유하며, 모든 구성 성분이 약20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되고, 용액 중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지함을 특징으로 하는 조성물 및 물을 함유하는, 자성 스테인레스 스틸 표면의 정련용 수용액.
- (a) 주요량으로서, 거의 지백적으로 옥살사으로 이루어진 산 성분 및, 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트염 및 m-니트로벤젠설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 물의 10중량%이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되며, 용액 중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지하는 조성물의 수용액을 제공하고, (b) 자성 스테인레스 스틸 표면을 갖는 다량의 목적물을 함유한 구성 요소의 집합체를 다량 마무리 처리 유니트의 용기에 도입하며, (c) 언급된 구성 요소의 집합체를 언급된 용액으로 습윤시키고, (d) 언급된 표면들을 언급된 용액으로 습윤 상태로 유지시키면서, 구성 요소의 집합체를 급속히 진탕(이의 과정은 구성 요소들 사이의 적절한 운동 및 접촉, 및 언급된 용액의 실질적 산화를 일으킨다)시키며, (e) 언급된 진탕 단계를 표면의 거침도가 상당히 감소되기에 충분한 기간 동안 계속 수행함을 특징으로 하여, 목적물의 자성 스테인레스 스틸 표면을 정련하는 물리 화학작 방법.
- (a) 주요량으로서, 거의 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 및, 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트염 및 m-니트로벤벤설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 또한 조성물의 약2.5내지 10중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제를 함유하며, 물의 10중량%이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되고, 용액 중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트염을 제공하는 농도를 유지하는 조성물의 수용액을 제공하고, (b) 자성 스테인레스 스틸 표면을 갖는 다량의 목적물을 함유한 구성 요소의 집합체를 다량 마무리 처리 유니트의 용기에 도입하며, (c) 언급된 구성 요소의 집합체를 언급된 용액으로 습윤시키고, (d) 언급된 표면들을 언급된 용액으로 습윤 상태로 유지시키면서, 구성 요소의 집합체를 급속히 진탕(이의 과정은 구성 요소들 사이의 적절한 운동 및 접촉, 및 언급된 용액의 실질적 산화를 일으킨다)시키며, (e) 언급된 진탕 단계를 표면의 거침도가 상당히 감소되기에 충분한 기간 동안 계속 수행함을 특징으로 하여, 목적물의 자성 스테인레스 스틸 표면을 정련하는 물리 화학적 방법.
- (a) 주요량으로서, 거의 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 및, 조성물의 1내지 24중량%의 양으로서, 각각 0.28내지 2.8 : 1.0의 몰비로 존재하는 티오시아네이트염 및 m-니트로벤젠설포네이트 염으로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 또한 조성물의 약 10중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제 및 조성물의 약0.2내지 0.6중량%의 양으로서, 폴리(옥시에틸렌)-알킬 알콜 계면활성제를 함유하며, 물의 10중량% 이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되고, 용액중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지하는 조성물의 수용액을 제공하고, (b) 자성 스테인레스 스틸 표면을 갖는 다량의 목적물을 함유한 구성 요소의 집합체를 다량 마무리 처리 유니트의 용기에 도입하며, (c) 언급된 구성 요소의 집합체를 언급된 용액으로 습윤시키고, (d) 언급된 표면들을 언급된 용액으로 습윤된 상태로 유지시키면서, 구성 요소의 집합체를 금속히 진탕(이의 과정은 구성 요소들의 적절한 운동 및 접촉, 및 언급도니 용액의 실질적 산화를 일으킨다)시키며, (e) 언급된 진탕 단계를 표면의 거침도가 상당히 감소되기에 충분한 기간 동안 계속 수행함을 특징으로 하여, 목적물의 자성 스테인레스 스틸 표면을 정련하는 물리 화학적 방법.
- (a) 주요량으로서, 거의 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분; 및 산 성분과 자성 스테인레스 스틸 표면 사이의 반응 속도를 촉진시키기에 충분한 소량으로, (a) 티오시아네이트염, 디티오카바메이트염, 티오우레아, 및 테트라메틸티우람 모노설파이드로 이루어진 그룹 중에서 선택된 황-함유 화합물 및 (b) m-니트로벤젠설폰산, 니트로이소프탈산, 니트로테레프탈산, 니트로-p-톨루산 니트로벤조산, 클로로니트로벤조산, 언급된 산의 알칼리 금속 및 암모늄염, 및 4-클로로-3-니트로벤젠설폰아미드로 이루어진 부류중에서 선택된 니트로-벤젠 화합물 산화제로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 또한 조성물의 약3내지 8중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제를 함유하며, 물의 10중량%이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되고, 용액 중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지하는 조성물의 수용액을 제공하고, (b) 자성 스테인레스 스틸 표면을 갖는 다량의 목적물을 함유한 구성 요소의 집합체를 다량 마무리 처리 유니트의 용기에 도입합며, (c) 언급된 구성 요소의 집합체를 언급된 용액으로 습윤시키고, (d) 언급된 표면들을 언급된 용액으로 습윤된 상태로 유지시키면서, 구성 요소의 집합체를 급속히 진탕(이의 과정은 구성 요소들의 적절한 운동 및 접촉, 및 언급된 용액의 실질적 산화를 일으킨다) 시키며, (e) 언급된 진탕 단걔를 표면의 거침도가 상당히 감소되기에 충분한 기간 동안 계속 수행함을 특징으로 하여, 목적물의 자성 스테인레스 스틸 표면을 정련하는 물리화학적 방법.
- (a) 주요량으로서, 거의 지배적으로 옥살산으로 이루어진 산 성분 ; 및 산 성분과 자성 스테인레스 스틸 표면 사이의 반응 속도를 촉진시키기에 충분한 소량으로, (a) 티오시아네이트염, 디티오카바메이트염, 티오우레아, 및 테트라메틸티우람 모노설파이드로 이루어진 그룹중에서 선택된 황-함유 화합물 및 (b) m-니트로벤젠설폰산, 니트로이소프탈산, 니트로테레프탈산, 니트로-p-톨루산 니트로벤조산, 클로로니트로벤조산, 언급된 산의 알칼리 금속 및 암모늄염, 및 4-클로로-3-니트로벤젠설폰아미드로 이루어진 부류 중에서 선택된 니트로-벤젠 화합물 산화제로 본질적으로 이루어진 촉진 성분을 함유하고, 또한 조성물의 약 2.5내지 10중량%의 양으로서 알킬 그룹에 2내지 4개의 탄소원자를 함유한 하이드록시알킬아민 계면활성제 및 조성물의 약0.2내지 0.6중량%의 폴리(옥시에틸렌)알킬 알콕 계면 활성제를 함유하며, 물의 10중량%이하의 양으로 20℃의 수중에 적어도 실질적으로 완전히 용해되고, 용액중에 용해시 ℓ당 0.03내지 0.6g의 언급된 티오시아네이트 염을 제공하는 농도를 유지하는 조성물의 수용액을 제공하고, (b) 자성 스테인레스 스틸 표면을 갖는 다량의 목적물을 함유한 구성 요소의 집합체를 다량 후처리 유니트의 용기에 도입하며, (c) 언급된 구성 요소의 집합체를 언급된 용액으로 습윤시키고, (d) 언급된 표면들을 언급된 용액으로 습윤된 상태로 유지시키면서, 구성 요소의 집합체를 급속히 진탕(이의 과정은 구성 요소들의 적절한 운동 및 접촉, 및 언급된 용액의 실질적 산화를 일으킨다)시키며, (e) 언급된 진탕 단계를 표면의 거침도가 상당히 감소되기에 충분한 기간 동안 계속 수행함을 특징으로 하여, 목적물의 자성 스테인레스 스틸 표면을 정련하는 물리 화학적 방법.
- 제2항 또는 4항에 있어서, 하이드록시알킬아민 계면활성제가 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 및 이소부탄올민으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물.
- 제7항 또는 9항에 있어서, 하이드록시알킬아민 계면활성제가 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 및 이소부탄올아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 용액.
- 제12항 또는 14항에 있어서, 하이드록시알킬아민 계면활성제가 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 및 이소부탄올아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 방법.
- 제3항 또는 5항에 있어서, 하이드록시알킬아민 계면활성제가 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 및 이소부탄올아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택되고, 폴리(옥시에틸렌)알킬 알콜 계면 활성제가 알킬 그룹에 98내지 11개의 탄소원자를 함유하고 알콜 몰당 평균 6몰의 에텔렌 옥사이드를 함유한 직쇄 일급 알콜 에톡실레이트 화합물 및 알콜 몰당 2내지 30몰의 에틸렌 옥사이드를 함유한 노닐펜옥시폴리(에틸렌옥시) 에탄올 화합물로 이루어진 부류 중에서 선택되는 조성물.
- 제8항 또는 10항에 있어서, 하이드록시알킬아민 계면활성제가 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 및 이소부탄올아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택되고, 폴리(옥시에틸렌)알킬 알콜 계면 활성제가 알킬 그룹에 9내지 11개의 탄소원자를 함유하고 알콜 몰당 평균 6몰의 에틸렌 옥사이드를 함유한 직쇄 일급 알콜 에톡실레이트 화합물 및 알콜 몰당 2내지 30몰의 에틸렌 옥사이드를 함유한 노닐펜옥시폴리(에틸렌옥시) 에탄올 화합물로 이루어진 부류 중에서 선택되는 용액.
- 제13항 내지 15항중 어느 한 항에 있어서, 하이드록시알킬아민 계면활성제가 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 및 이소부탄올아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택되고, 폴리(옥시에틸렌)알킨 알콜 계면활성제가 알킬 그룹에 9내지 11개의 탄소원자를 함유하고 알콜 몰당 평균 6몰의 에틸렌 옥사이드를 함유한 직쇄 일급 아콜 에톡실레이트 화합물 및 알콜 몰당 2내지 30몰의 에틸렌옥사이들 함유한 노닐펜옥사폴리(에틸렌옥시)에탄올 화합물로 이루어진 부류 중에서 선택되는 방법.
- 제11내지 15항중 어느 한 항에 있어서, 구성 요소의 집합체가 다량의 비마모성 고밀도 매질을 포함하는 방법.
- 제1항 내지 3항중 어느 한 항에 있어서, 몰비가 0.7내지 1.12 : 1.0인 조성물.
- 제1항 내지 3항중 어느 한 항에 있어서, 산 성분의 양이 조성물의 12중량%를 초과하지 않는 조서물.
- 제6내지 8항중 어느 한 항에 있어서, 몰비가 0.7내지 1.12 : 1.0이고, 산 성분의 양이 조성물의 12중량%를 초과하지 않는 방법.
- 제11내지 13항중 어느 한 항에 있어서, 몰비가 0.7내지 1.12 : 1.0이고, 산 성분의 양이 조성물의 12중량%를 초과하지 않는 방법.
- 제11항 내지 13항중 어느 한 항에 있어서, 단계(e)의시간이 5시간 이하인 방법.
- 제11항 내지 13항중 어느 한 항에 있어서, 유니트가 진동식 다량 마무리 처리 유니트이고, 이의 용기가 개방되거나 대기로 통풍되는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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