KR900014249A - 안정제가 함유되지 않은 발연 실리카의 수용성 콜로이드 분산물 - Google Patents

안정제가 함유되지 않은 발연 실리카의 수용성 콜로이드 분산물 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

안정제가 함유되지 않은 발연 실리카의 수용성 콜로이드 분산물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (22)

  1. 물중에 분산된 적어도 약 35중량%의 발연 실리카로 구성되며, 안정하고 비팽창성인 안정화제를 함유하지 않은 수용성 콜로이드 분산물.
  2. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 양이 약 35-65%인 것을 특징으로 하는 분산물.
  3. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 양이 약 35중량%인 것을 특징으로 하는 분산물.
  4. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 양이 약 40중량%인 것을 특징으로 하는 분산물.
  5. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 양이 약 45중량%인 것을 특징으로 하는 분산물.
  6. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 양이 약 50중량%인 것을 특징으로 하는 분산물.
  7. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 표면적이 1그람 당 약 75평방 미터 미만인 것을 특징으로 하는 분산물.
  8. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 표면적이 1그람 당 약 10-75평방 미터인 것을 특징으로 하는 분산물.
  9. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 표면적이 1그람 당 약 35-60평방 미터인 것을 특징으로 하는 분산물.
  10. 제1항에 있어서, 발연 실리카의 표면적이 1그람 당 약 50평방 미터인 것을 특징으로 하는 분산물.
  11. 제1항에 있어서, 점도가 약 1000센티포이즈 이하인 것을 특징으로 하는 분산물.
  12. 제1항에 있어서, 점도가 약 250센터포이즈 이하인 것을 특징으로 하는 분산물.
  13. 발연 실리카의 농도가 최종 분산물에서의 소정 농도 이상이되도록 발연 실리카를 물에 첨가하여 제1분산물을 형성하는 공정 및, 이어서 제1분산물을 물로 희석시켜서 소정 농도의 발연 실리카를 함유하는 안정하고 비팽창성인 최종 분산물을 제조하는 공정으로 구성되는 것을 특징으로 하는 안정화제를 함유하지않는 발연 실리카의 수용성 콜로이드 분산물의 제조 방법.
  14. 제11항에 있어서, 최종 분산물 중의 발연 실리카의 농도가 적어도 약 35중량%인 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제11항에 있어서, 최종 분산물 중의 발연 실리카의 농도가 적어도 약 40중량%인 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제11항에 있어서, 최종 분산물 중의 발연 실리카의 농도가 적어도 약 45중량%인 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제11항에 있어서, 발연 실리카의 표면적이 1그람 당 약 10-75 평방 미터인 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제11항에 있어서, 발연 실리카의 표면적이 1그람 당 약 35-60 평방 미터인 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제11항에 있어서, 발연 실리카의 표면적이 1그람 당 약 50 평방 미터인 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제11항에 있어서, 제1분산물 중의 발연 실리카의 농도(중량%기준)가 최종 분산물중의 발연 실리카의 농도보다 적어도 5중량% 더 큰 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제11항에 있어서, 최종 분산물의 점도가 약 1000 센티포이즈 이하인 것을 특징으로 하는 방법.
  22. 제11항에 있어서, 최종 분산물의 점도가 약 250 센티포이즈 이하인 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900003706A 1989-03-21 1990-03-20 안정제가함유되지않은발연실리카의수성콜로이드상분산물 KR0145729B1 (ko)

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Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6546939B1 (en) 1990-11-05 2003-04-15 Ekc Technology, Inc. Post clean treatment
US5888587A (en) * 1992-07-07 1999-03-30 Alcatel N.V. Method of manufacturing silica powder and use of such powder in making an optical fiber preform
FR2693451B1 (fr) * 1992-07-07 1994-08-19 Alcatel Nv Procédé de fabrication d'une poudre de silice et application d'une telle poudre à la réalisation d'une préforme pour fibre optique.
IL107932A0 (en) * 1992-12-08 1994-04-12 Miroevski Piotr Ravilevich Method and apparatus for producing a silicon based binding composition and product prepared therefrom
EP0727478A3 (en) * 1995-02-14 1997-06-25 Toyota Motor Co Ltd Dilatant composition
US6343490B1 (en) 1996-05-14 2002-02-05 Lucent Technologies, Inc. Processing entailing sol-gel fabrication of silica glass
DE69705258T2 (de) * 1996-05-14 2002-04-11 Lucent Technologies Inc., Murray Hill Sol-Gel Verfahren zur Herstellung von Silica-Glas
KR100510815B1 (ko) * 1997-05-07 2005-10-24 제이에스알 가부시끼가이샤 무기입자의 수성분산체 및 그의 제조방법
KR19990023544A (ko) * 1997-08-19 1999-03-25 마쯔모또 에이찌 무기 입자의 수성 분산체와 그의 제조 방법
US6036873A (en) * 1997-11-26 2000-03-14 Eastman Kodak Company Process for generating precision polished non-plannar aspherical surfaces
EP1124693B1 (en) 1998-10-02 2004-12-08 Cabot Corporation Silica dispersion, coating composition and recording medium
JP4428473B2 (ja) 1999-01-18 2010-03-10 株式会社東芝 気相法無機酸化物粒子の含水固体状物質及び研磨用スラリーの製造方法
JP3721497B2 (ja) 1999-07-15 2005-11-30 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨用組成物の製造方法
DE19936478A1 (de) * 1999-08-03 2001-02-15 Degussa Sinterwerkstoffe
EP1148026B1 (de) * 2000-04-12 2016-08-10 Evonik Degussa GmbH Dispersionen
EP1182168B1 (de) * 2000-08-21 2004-05-12 Degussa AG Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid
US6679945B2 (en) * 2000-08-21 2004-01-20 Degussa Ag Pyrogenically prepared silicon dioxide
DE60133411T2 (de) * 2000-11-15 2009-04-16 Cabot Corp., Boston Verfahren zur herstellung einer dispersion pyrogener metalloxide
US6571582B2 (en) * 2001-04-19 2003-06-03 Fitel Usa Corp. Manufacture of silica bodies using sol-gel techniques
WO2004005189A1 (en) * 2002-07-10 2004-01-15 Lanewood Inc. A stable aqueous dispersion of microsilica
US20040094026A1 (en) * 2002-11-19 2004-05-20 Integrity Testing Laboratory Inc. Method of making a protective material and articles made therefrom
JP4426192B2 (ja) * 2003-02-14 2010-03-03 ニッタ・ハース株式会社 研磨用組成物の製造方法
WO2004089813A2 (en) * 2003-04-02 2004-10-21 Northwestern University Methods of controlling nanoparticle growth
JP2005286048A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Nitta Haas Inc 半導体研磨用組成物
JP2005286047A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Nitta Haas Inc 半導体研磨用組成物
GB0407198D0 (en) * 2004-03-30 2004-05-05 British Telecomm Joint fault detection
DE602005023557D1 (de) 2004-04-12 2010-10-28 Jsr Corp Wässrige Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren und chemisch-mechanisches Polierverfahren
ATE469863T1 (de) * 2004-05-04 2010-06-15 Cabot Corp Verfahren zur herstellung einer dispersion von metalloxid-aggregatteilchen mit einem gewünschten aggregatteilchendurchmesser
DE102004054392A1 (de) * 2004-08-28 2006-03-02 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Verbinden von Bauteilen aus hochkieselsäurehaltigem Werkstoff, sowie aus derartigen Bauteilen zusammengefügter Bauteil-Verbund
KR100497413B1 (ko) * 2004-11-26 2005-06-23 에이스하이텍 주식회사 텅스텐-화학적 기계적 연마에 유용한 슬러리 및 그 제조방법
US20070209288A1 (en) * 2005-03-28 2007-09-13 Yoshiharu Ohta Semiconductor Polishing Composition
DE102006002545A1 (de) * 2006-01-18 2007-07-19 Ewald Dörken Ag Siliziumbasiertes Korrosionsschutzmittel
US7989506B2 (en) * 2007-04-04 2011-08-02 Eastman Kodak Company Method and apparatus for dispersion of high-surface-area, low-bulk-density fumed silica
KR101673692B1 (ko) * 2014-11-07 2016-11-07 현대자동차주식회사 건식 실리카 입자를 포함하는 상변이 현탁 유체 조성물 및 이의 제조방법
CN109942002B (zh) * 2017-12-20 2020-08-28 中国地质大学（北京） 一种生产氧化锆的副产物硅灰中二氧化硅微球解聚方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2884629A (en) * 1945-11-29 1959-04-28 Samuel J Mason Metal-plate lens microwave antenna
US2984629A (en) * 1957-11-04 1961-05-16 Cabot Corp Aqueous dispersions of pyrogenic silica
DE1667460B1 (de) * 1967-10-12 1971-07-08 Degussa Verfahren zur herstellung stabiler dispersionen von pyrogen gewonnener kieselsaeure
GB1326574A (en) * 1970-10-30 1973-08-15 Degussa Production of stabilised dispersions of pyrogenic silica
FR2094790A5 (fr) * 1970-11-24 1972-02-04 Degussa Procede pour la preparation de dispersions aqueuses stables de dioxydes de silicium par voie ignee
US4042361A (en) * 1976-04-26 1977-08-16 Corning Glass Works Method of densifying metal oxides
US4200445A (en) * 1977-04-28 1980-04-29 Corning Glass Works Method of densifying metal oxides
US4321243A (en) * 1980-08-05 1982-03-23 Cornwell Charles E Method of producing stabilized aqueous dispersions of silica fume
US4613454A (en) * 1983-06-30 1986-09-23 Nalco Chemical Company Metal oxide/silica sols
JPS60129132A (ja) * 1983-12-14 1985-07-10 Denki Kagaku Kogyo Kk シリカヒユ−ム水分散体の製法

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