KR900002312A - 저온에서 고공간 분해도를 갖는 광루미네슨스로 반도체 샘플을 특정짓는 장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

저온에서 고공간 분해도를 갖는 광루미네슨스로 반도체 샘플을 특정짓는 장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명의 장치를 도시한 일부 절결 사시도.

Claims (23)

1. (가) 웨이퍼를 수용하도록 되어 있는 냉각 샘플 캐리어가 제공되고 광 루미네슨스 공정에서 주어진 광선을 전달하는 적어도 하나의 창문이 제공된 저온유지 진공실과, (나) 레이저 비임으로부터 웨이퍼상에 광점을 형성하고 반사된 광 루미네슨스 비임을 감지기로 전달하는 광학수단을 적어도 포함하며 저온에서 고공간 해상도로써 광 루미네슨스에 의해 반도체 재료 웨이퍼를 특징짓는 장치에 있어서, 넓은 초점 맞추어지지 않은 광점을 레이저 비임으로부터 웨이퍼상에 형성하는 제1광학수단과, 광점표면의 광 루메네슨스 화상을감지기 수용 표면상의 단위 면적을 초과하는 배율로 형성하도록 고해상도의 제2광학수단을 포함하며, 감지기는 그 디지탈 화상을 공급하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 제1광학수단은 이 초점 맞추어지지 않은 레이저 비임이 진공실의 상기 창문을 통해 웨이퍼 표면에 독특한 범위로 전달되고그리하여 광점이 형성되도록 투사 레이저 비임의 경로내에 배치된 평면경 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 제2광학수단은 광 루미네슨스 비임의 경로내에 수많은 구멍이 배치된 미러를 갖고 분산 한계점에서 작동하며 표면의 큰 중앙부분으로부터 광점까지 목표물로써 큰 배율로 광 루미네슨스의 파장에서 형성된 유사 평행 화상 비임을 고려하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 장치
4. 제3항에 있어서, 미러를 포함하는 반굴절 광학 시스템이 진공실내에 배치되어 있고, 광 루미네슨스의 유사 평행 비임이 진공실의 상기 제2창문을통해 감지기 수용 표면으로 전달되고, 이 창문은 상기 지지체에 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
5. 제4항에 있어서, 상기 제2광학 수단은 저온유지 진공실로부터 일단 방출된 것을 감지기 수용표면에 광 루미네슨스의 비임을 전달하기 위해 비임의 경로내에 배치된 평면경 시스템도 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 제2광학 수단은 광 루미네슨스 파장과는 다른 파장을 갖는 방사선의 방출하기 위해 저온 유지 진공실과 감지기 사이의 비임의 경로내에 배치된 필터를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
7. 제6항에 있어서, 웨이퍼와 광학 수단의 상대적 변위를 수행하는 기계적 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
8. 제7항에 있어서, 기계적 변위 수단은 광학 수단뿐 아니라 감지기 및 고정되어 있는 장치의 기타 부분에도 설치되는 것을 특징으로 하는 장치.
9. 제8항에 있어서, 기계적 수단은 감지기의 변위와 샘플 웨이퍼 평면에 평행인 X,Y 두 방향으로 제1및 제2광학 수단의 거리 및 방향으로 동시에 변위할 수 있도록 협동하는 것을 특징으로 하는 장치.
10. 제9항에 있어서, 상기 기계적 수단은 웨이퍼 평면에 직각인 Z방향으로 상기 광학 수단을 변위시키고 또 감지기도 변위시키도록 서로 협동하는 것을 특징으로 하는 장치.
11. 제10항에 있어서, 광학 수단은 상기 제2창문 지지체에 고정된 3자유도를 갖는 플랫포옴을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
12. 제11항에 있어서, 변위 운동은 제2창문 지지체와 일체로된 목표물 캐리어에 의해 진공실내의 반굴절 광학 시스템에 전달되고, 또 변위중 진공 상태를 유지하기 위해 진공밀폐 벨로우즈는 상기 제2창문의 상기 지지체를 저온 유지 진공실 본체에 연결하는 것을 특징으로 하는 장치.
13. 제12항에 있어서, 제1 및 제2광학 수단의 동시적 변위를 얻기위해, 상기 제1 광학 수단은 투사 레이저 비임 경로내에 비치된 두개의 평면경에 의해 구성되고, 이들 거울은 각각 3자유도를 갖는 플랫포옴의 기계적 부분과 일체로 되어 X나 Y 어느 방향에 평행한 운동과 연결되어 이 X,Y방향으로 주어진 거리만큼 웨이퍼 표면상에서의 광점의 변위를 얻게한 것을 특징으로 하는 장치.
14. 제13항에 있어서, 상기 제2 광학 수단에서 광 루미네슨스 비임을 복귀시키는 시스템은 평면경으로 구성되며, 상기 제2 광학 수단과 감지기는 운동X 및 Y가 전달되어 광점변위를 따르고 운동 Z가 반굴절 광학 시스템의 위치결정을 할 수 있게 제2 창문의 상기 지지체에 연결되어 있는 것을 특징으로하는 장치.
15. 상기항중 어느 한 항에 있어서, 샘플 캐리어는 웨이퍼 캐리어를 냉각할 수 있게 하는 저온 유지기에 접속되어 있고, 이 저온 유지기는 상기 실내의 진공을 유지하도록 진공실과 일체로 되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
16. 제15항에 있어서, 저온 유지기는 액체 헬륨으로 작동되며, 10°K 정도의 샘플 웨이퍼 온도를 얻을 수 있게된 것을 특징으로 하는 장치.
17. 제16항에 있어서, 샘플 캐리어와 샘플을 액체 헬륨으로 냉각하기 위해 저온 유지기는 주름을 가지며, 거기서 액체 헬륨의 순환이 펌프에 의해 달성되는 것을 특징으로 하는 장치.
18. 상기항중 어느 한 항에 있어서, 샘플의 온도를 제어하기 위해 샘플 캐리어에 열전대가 제공된 것을 특징으로 하는 장치.
19. 상기항중 어느 한 항에 있어서, 샘플 캐리어는 동을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
20. 상기항중 어느 한 항에 있어서, 감지기는 CCD형 디지탈 카메라이며, 이 데이타는 컴퓨터 및 비데오 스크린에 전달되는 것을 특징으로 하는 장치.
21. 제7항 내지 제20항중 어느 한 항에 있어서, 기계적 수단은 자동화되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
22. 상기항중 어느 한 항에 있어서, 투사 레이저 비임은 각각 0.51㎛ 및 1.06㎛의 파장을 갖는 투사 방사선을 얻을 수 있는 YAG 레이저나 아르곤 레이저중에서 선택한 레이저 원으로부터 나오는 것을 특징으로 하는 장치.
23. 상기항중 어느 한 항에 있어서, 광학 정렬을 얻기 위해 사용된 레이저 원은 헬륨-네온 레이저인 것을 특징으로 하는 장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.