JPS58210551A - フオトルミネツセンス測定方法 - Google Patents
フオトルミネツセンス測定方法Info
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- JPS58210551A JPS58210551A JP9389382A JP9389382A JPS58210551A JP S58210551 A JPS58210551 A JP S58210551A JP 9389382 A JP9389382 A JP 9389382A JP 9389382 A JP9389382 A JP 9389382A JP S58210551 A JPS58210551 A JP S58210551A
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- Japan
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- excitation
- luminescence
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/6489—Photoluminescence of semiconductors
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１１） 発明の技術分野
不発明はフォト−ルミネッセンス（） Ｌ ） ６１１
１定万沃に・禰し、褥１／ｉ：呟／」１部がの７オトル
ミネツセンスＶ測足を行９方法に関丁ゐ。
１定万沃に・禰し、褥１／ｉ：呟／」１部がの７オトル
ミネツセンスＶ測足を行９方法に関丁ゐ。
１２） 咬術の背景
１）ａＡｓ／ＧａＡ４Ａｓ等の半導体結晶の評価を行な
う手段の一つとして、該半導体結晶に励起用の元を照射
して、該半導体結晶から発生するフォトルミ不ツヤンス
（ＰＬ）元のスペクトルもしくａ頻度ｆ御ｊ足して、か
かる結晶評価を行うことが行なわｎている。
う手段の一つとして、該半導体結晶に励起用の元を照射
して、該半導体結晶から発生するフォトルミ不ツヤンス
（ＰＬ）元のスペクトルもしくａ頻度ｆ御ｊ足して、か
かる結晶評価を行うことが行なわｎている。
（３） ［米・戊術と問題点
こＶ）ような結晶評価等、倣９部分のＰＬスペクトルも
しくはＰＬ強度倉６１１Ｊ足丁ゐ際、試料の所望の位１
１１ｖｃ、＋ｄ くしぼった励起光音照射する方法とし
て、−りには励匹元径お工びその位ｄｌｌ−りら〃・し
め固足し、試料の表面庇状２ｉ工９に所望の部分が励起
を位置にくゐ工う試料ケ桜動ざぜる方法、もしくは一旦
劫起元の照射域τ広くし、ｒｖカメラ等で試料のＰＩＩ
象をｍ−し、所望部６分が励起光の中心位置にく、０工
９試料もしくは励起光ｔ−移動嘔ぜた後膣ＴＦＪＪ起九
紫所望の大きさに絞り込む方法がとらｎできた。
しくはＰＬ強度倉６１１Ｊ足丁ゐ際、試料の所望の位１
１１ｖｃ、＋ｄ くしぼった励起光音照射する方法とし
て、−りには励匹元径お工びその位ｄｌｌ−りら〃・し
め固足し、試料の表面庇状２ｉ工９に所望の部分が励起
を位置にくゐ工う試料ケ桜動ざぜる方法、もしくは一旦
劫起元の照射域τ広くし、ｒｖカメラ等で試料のＰＩＩ
象をｍ−し、所望部６分が励起光の中心位置にく、０工
９試料もしくは励起光ｔ−移動嘔ぜた後膣ＴＦＪＪ起九
紫所望の大きさに絞り込む方法がとらｎできた。
しかしながら前記４１の方法でぼ、表面に顕著な形状が
ない４曾目標となめものがないために、位置決め精度を
高めることができず、又第２の方法（ゲ試料の表面形状
には関係なく応用できるが励起元来光系の元軸と励起光
の元軸がわずかでもずｎていると光束？広げたＶ絞った
り丁ゐためにレンズめるいはミラー上動かすとそれとと
もに、試料上での励起光の中心位置がずれてしまうとい
う火照がめった。また−ｊｔ、を細く絞ると、ＰＬ、駅
では励起光の照射された部分のみが光り、非照射領域は
Ｉｆｆ部となって竺く見えなくなるので試料の所望（１
）４ガに正４に励起光が照射さｆているかどうか〃二確
認できず、ｍえて測定の友びに元束會広げ友Ｖ）伏めた
りするため手数がρ噌する上、励起条件（たとえば励起
光径など）の再現性に乏しいといり入点がめった。
ない４曾目標となめものがないために、位置決め精度を
高めることができず、又第２の方法（ゲ試料の表面形状
には関係なく応用できるが励起元来光系の元軸と励起光
の元軸がわずかでもずｎていると光束？広げたＶ絞った
り丁ゐためにレンズめるいはミラー上動かすとそれとと
もに、試料上での励起光の中心位置がずれてしまうとい
う火照がめった。また−ｊｔ、を細く絞ると、ＰＬ、駅
では励起光の照射された部分のみが光り、非照射領域は
Ｉｆｆ部となって竺く見えなくなるので試料の所望（１
）４ガに正４に励起光が照射さｆているかどうか〃二確
認できず、ｍえて測定の友びに元束會広げ友Ｖ）伏めた
りするため手数がρ噌する上、励起条件（たとえば励起
光径など）の再現性に乏しいといり入点がめった。
（４）発明の目的
本発明は、試料の倣小郡分τフォトルミネッでンス元金
用いて揃足すΦ際に、試料の所望の位置に正４に励起光
を照射することがでさるフォトルミネッセンス測定方法
を提供しよりとするものでのる。
用いて揃足すΦ際に、試料の所望の位置に正４に励起光
を照射することがでさるフォトルミネッセンス測定方法
を提供しよりとするものでのる。
（５）発明の構成
このため、本発明に↓れば、被測定試料に、所足の照射
面積ｔゼして照射さｎ６渠１の励起用光と、該第１の励
起用光の照射域を言〜でその周囲に照射さｒｔΦ第２の
励起用光とｔ照射して、罰記４１測足試料からフォトル
ミネッセンス元ケ発生ぜし０、該フォトルミネッセンス
Ｍ：、に４いて前記第１の励廷用元？被測定試料のＩ’
、１１足・ａ置に照射し、該第１の励起用光によって励
起されたフォトルミネッセンス’７ｔ’ｔ”撰）］定す
ることｔ時機と丁りフォトルミ不ツセノスイｄｌ１足方
法が提供さｎる。
面積ｔゼして照射さｎ６渠１の励起用光と、該第１の励
起用光の照射域を言〜でその周囲に照射さｒｔΦ第２の
励起用光とｔ照射して、罰記４１測足試料からフォトル
ミネッセンス元ケ発生ぜし０、該フォトルミネッセンス
Ｍ：、に４いて前記第１の励廷用元？被測定試料のＩ’
、１１足・ａ置に照射し、該第１の励起用光によって励
起されたフォトルミネッセンス’７ｔ’ｔ”撰）］定す
ることｔ時機と丁りフォトルミ不ツセノスイｄｌ１足方
法が提供さｎる。
以−Ｆ不呪明ｆ実施列でもって詳細に説明すめ。
（６）発明の央雁例
図は本祐明にかかるフォトルミ不ッ七ンス、ｊｌ！ｊ足
＝ＡＩＩ１１の構成を示す。
＝ＡＩＩ１１の構成を示す。
図に２いて、工１は内えばＮ（１：ＹＡＧ ｖ−グーか
らなる励起用元弾、１２ぼ元ナヨッパー、１３ａビーム
エクスパ／ダーでめ９．１４はバー７ミ□ ラー、１５はレンズ、１６ｉミラー、１７はし／ズ、ｌ
８ Ｈ，１ツヤツタ−である。
らなる励起用元弾、１２ぼ元ナヨッパー、１３ａビーム
エクスパ／ダーでめ９．１４はバー７ミ□ ラー、１５はレンズ、１６ｉミラー、１７はし／ズ、ｌ
８ Ｈ，１ツヤツタ−である。
−ｆ′ｆｃ、 １９ＱＸ−Ｙステージ、２０ｉｄｇ’
１Ａ−Ｙステージ１９土に載ｔされた列えば工ｎＰ／工
ｎＧａＡｓＰヘテロｆｉ１を構造を有する仕付切半導体
基板でろゐ。
１Ａ−Ｙステージ１９土に載ｔされた列えば工ｎＰ／工
ｎＧａＡｓＰヘテロｆｉ１を構造を有する仕付切半導体
基板でろゐ。
また、２１ｉ巣元Ｌｙ ンＸ、２２Ｄフイルター、２３
ハｏＴＩＩＩｈミラーで＝ｂ、ａ、２４σ列えばＰ−ｏ
Ｏ−ＰｂＳビンコンからなり光検出器、２５ぼモニター
用ＣＲＴである。
ハｏＴＩＩＩｈミラーで＝ｂ、ａ、２４σ列えばＰ−ｏ
Ｏ−ＰｂＳビンコンからなり光検出器、２５ぼモニター
用ＣＲＴである。
更に、２０は分光器、２７は列えばＰ ｂ Ｓ光検出岳
、２８はコツクイ／アンプ、２９は記録針でめり０ このＬ′）なセ１ｊｉ＝ｔｉ直を用いてのフォトルミネ
ッセンス揃足は仄の工９に行なわれっ。丁なＶち、Ｉ刀
起用元源まｌから照射さｎたレーザー元（改長１、０６
＆ （＃ｍ ） ）Ｌ ａはチｗｙパー１２に工って
周波数２００（Ｈｚ〕の峡続元ｂｂとさｎ、史にビーム
エクスパングー１３．にぶり劉えは直径６（ｍｍ＄）の
平何元尿Ｌｃと孕几心。
、２８はコツクイ／アンプ、２９は記録針でめり０ このＬ′）なセ１ｊｉ＝ｔｉ直を用いてのフォトルミネ
ッセンス揃足は仄の工９に行なわれっ。丁なＶち、Ｉ刀
起用元源まｌから照射さｎたレーザー元（改長１、０６
＆ （＃ｍ ） ）Ｌ ａはチｗｙパー１２に工って
周波数２００（Ｈｚ〕の峡続元ｂｂとさｎ、史にビーム
エクスパングー１３．にぶり劉えは直径６（ｍｍ＄）の
平何元尿Ｌｃと孕几心。
かかる平行光束Ｌｃの一部は、ハーフミラ−１番にて分
岐され、レンズ１５によって試料２ｏ上にｂ−ハて直径
５〜１０（μｍグ〕の太ささとなる↓う桑光される。η
島かる元Ｌ（ｌか７オトルミ不ツセンス玉励起用の元と
なる。
岐され、レンズ１５によって試料２ｏ上にｂ−ハて直径
５〜１０（μｍグ〕の太ささとなる↓う桑光される。η
島かる元Ｌ（ｌか７オトルミ不ツセンス玉励起用の元と
なる。
一方呵内己平行光束ｉ、Ｉｃｖ浅部Ｌｃ’は、／ヤシタ
ー１８が退避状態でめる時、ミラー１６７こて反射ざｎ
、レンズ１γに工って試料２ｏ土に２いて前記王励起用
几シｄの照射領域金言む直径１００〜６υＯ〔μｍダ〕
の範囲を照射し励起丁ゐ元Ｌｅとなゐ０ かかるｊ助匹用元Ｌｄ及びＬｅの照射に＝っで試＠２０
から王したフォト少ミネッセンス元シｐζ、ＯＴ＠ミラ
ー２３が迷逝吠、憾でめΦ時、十元し／ユ２１及びフィ
ルターに２ｒ通して光検出器２４ｖｃて慎出さｒし、そ
ニター用１ｊｉ−ｔＴ２５の［！ｌｉ面に映し出さｎめ
。この時励起用７ｉ：ｂｄが照射、ざｎた成域のフォト
ルミネッセンス強（ぼ、励起用光Ｌｅが照１ざｆた頭載
のフォトルｄ不ッｔンス強度よりｔ大であり、励起用光
１ａ（ｌ Ｋ、４’つく７オトルミ不ツセンス１戚は０
ｄＴ２５の画面に２いて、７妨起用元ＬｅＶｃ基づくフ
ォトルミ不ツセ／ス１原＝９を日いスポットとして砿祭
さｆ’Ｌｃ＋。
ー１８が退避状態でめる時、ミラー１６７こて反射ざｎ
、レンズ１γに工って試料２ｏ土に２いて前記王励起用
几シｄの照射領域金言む直径１００〜６υＯ〔μｍダ〕
の範囲を照射し励起丁ゐ元Ｌｅとなゐ０ かかるｊ助匹用元Ｌｄ及びＬｅの照射に＝っで試＠２０
から王したフォト少ミネッセンス元シｐζ、ＯＴ＠ミラ
ー２３が迷逝吠、憾でめΦ時、十元し／ユ２１及びフィ
ルターに２ｒ通して光検出器２４ｖｃて慎出さｒし、そ
ニター用１ｊｉ−ｔＴ２５の［！ｌｉ面に映し出さｎめ
。この時励起用７ｉ：ｂｄが照射、ざｎた成域のフォト
ルミネッセンス強（ぼ、励起用光Ｌｅが照１ざｆた頭載
のフォトルｄ不ッｔンス強度よりｔ大であり、励起用光
１ａ（ｌ Ｋ、４’つく７オトルミ不ツセンス１戚は０
ｄＴ２５の画面に２いて、７妨起用元ＬｅＶｃ基づくフ
ォトルミ不ツセ／ス１原＝９を日いスポットとして砿祭
さｆ’Ｌｃ＋。
仄いでかかるフォトルミネッセンス像を観察しながらＸ
−Ｙステージ１９ｔ−操作して、試料２０の仮組り足部
分に前ｄ己スポットを重ね甘ゎせめ。この時Ｉｒｙ起用
充Ｌｅに基っくフォトルミネッセンス康に工ってスポッ
トの周＄（１）領域を鍜察し得るために４！ｌ測足部号
とスポットとの位置甘くか極めて４易になきｎｏｏ 仄いで呵６ピノヤツター１８ｉ閉じて、試料２０への励
起用７ｅＬｅのＨ＠射を遮断する。
−Ｙステージ１９ｔ−操作して、試料２０の仮組り足部
分に前ｄ己スポットを重ね甘ゎせめ。この時Ｉｒｙ起用
充Ｌｅに基っくフォトルミネッセンス康に工ってスポッ
トの周＄（１）領域を鍜察し得るために４！ｌ測足部号
とスポットとの位置甘くか極めて４易になきｎｏｏ 仄いで呵６ピノヤツター１８ｉ閉じて、試料２０への励
起用７ｅＬｅのＨ＠射を遮断する。
仄いで０Ｔ−ミラー２３を駆動して、フォトルミ不ッｔ
ノス元Ｌｐｋ７：−光器２６へ入力し、ｄ分元＃２６に
２いて波焚炬肴して７オトルミ不ツでンスのスペクトル
の測定τ行なう。
ノス元Ｌｐｋ７：−光器２６へ入力し、ｄ分元＃２６に
２いて波焚炬肴して７オトルミ不ツでンスのスペクトル
の測定τ行なう。
なお、以上の構成に２いて分光器に代えて、励起用光味
云用口／グバスフィルタを設け、フォトルミイッセンス
元才元検出器にて受光すｎば、フォトルミネッセンス光
の強度を測定子ゐことができゐ０ 筐た、前記芙＃例においては、率−の光源から出た光音
ミラーで分岐じて各々の励起元巣元系に用いているが、
それぞ７”Ｌの勃起光果光系ごとに別々の光源を用いて
も工い。こう′ｒると、七ｎぞｎの励起慢度金目田に変
兇し侍るりで、ｍ１１］足の目出度が大さくなるとこも
に、装置構戟工１．／）目出度も大さくなめ。
云用口／グバスフィルタを設け、フォトルミイッセンス
元才元検出器にて受光すｎば、フォトルミネッセンス光
の強度を測定子ゐことができゐ０ 筐た、前記芙＃例においては、率−の光源から出た光音
ミラーで分岐じて各々の励起元巣元系に用いているが、
それぞ７”Ｌの勃起光果光系ごとに別々の光源を用いて
も工い。こう′ｒると、七ｎぞｎの励起慢度金目田に変
兇し侍るりで、ｍ１１］足の目出度が大さくなるとこも
に、装置構戟工１．／）目出度も大さくなめ。
ｆた、Ｉ／１７１起尤源としてはＹ −Ａ Ｇレーデ−
に限っず、池の波長の異るレーザーめるいぼフラッフ−
ランプやアークラング４倉用いることかで＠ゐ。
に限っず、池の波長の異るレーザーめるいぼフラッフ−
ランプやアークラング４倉用いることかで＠ゐ。
更に不祐明は、■１１Ｆ／工Ｈｉ）ａＡｓＰの評１曲に
かぎらずＧａＡｓ／ＧａＡｔＡｓなど他の牛導不材材な
どり評１曲に５ｂＣ）用できめ。
かぎらずＧａＡｓ／ＧａＡｔＡｓなど他の牛導不材材な
どり評１曲に５ｂＣ）用できめ。
（７）発明の動水
以上の工うに、不兇例に工ｎ、ば、試料の倣小部分に励
起用元金照射して７オトルミ不ツセ／ス元金発王さぜΦ
吸、該励起用元と試料の破測定填Ｊｔ１．丁なわち該破
励元用元り照射唄域との征膚曾ゎぜτ極のて４易にσう
ことがでさめ。
起用元金照射して７オトルミ不ツセ／ス元金発王さぜΦ
吸、該励起用元と試料の破測定填Ｊｔ１．丁なわち該破
励元用元り照射唄域との征膚曾ゎぜτ極のて４易にσう
ことがでさめ。
便って、かかるフすトルミネソセ／ス用いての仰」足を
正（４に且つ極りて効率良く央癩す０ことがで＠勾。
正（４に且つ極りて効率良く央癩す０ことがで＠勾。
ｄｉ本発明の笑肩にρ１刀よるフォトルミネッセンス測
足裟直の構成を示す元字系−亀気糸結−図でめる。 図ＶＣａいて、１ま・・・励任用光源 Ｌｄ・・・第１の励起用元 Ｌｅ ・・第２の励起用元 Ｌｐ・・・フォトルミネッセンス光 にＯ・・・被測足試料
足裟直の構成を示す元字系−亀気糸結−図でめる。 図ＶＣａいて、１ま・・・励任用光源 Ｌｄ・・・第１の励起用元 Ｌｅ ・・第２の励起用元 Ｌｐ・・・フォトルミネッセンス光 にＯ・・・被測足試料
Claims (1)
- ７Ａ測定試料に、所足の照射面積をＭして照射さ′ｎ／
）ｆ！Ｊ１の励起用元と、区第１の励起用九の照射域金
言んでヤの周囲に照射さｎ／：）第２の勃起用元とｆｐ
＠射し゛Ｃ，＠記被測足拭科からフォトルミネッセンス
７ｔτ発王ぜしＶ、該フォトルミ不ツセンス元に￥いて
前記第１の励起用光倉被測足試料のＬ′９Ｔ定に１１に
照射し、該第１の励起用元によって励起さｔ′したフォ
トルミネッセンス元を測定子０ことτ＃似とするフォト
ルミネッセンス測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9389382A JPS58210551A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | フオトルミネツセンス測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9389382A JPS58210551A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | フオトルミネツセンス測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58210551A true JPS58210551A (ja) | 1983-12-07 |
Family
ID=14095154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9389382A Pending JPS58210551A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | フオトルミネツセンス測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58210551A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0254149A (ja) * | 1988-07-08 | 1990-02-23 | Philips Gloeilampenfab:Nv | 光ルミネセンスによる半導体試料の特性表示デバイス |
| JPH03115957A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-16 | Hitachi Ltd | ルミネッセンス測定装置 |
| WO1993007470A1 (en) * | 1991-10-01 | 1993-04-15 | Tadahiro Ohmi | Analyzer |
| WO1999005511A1 (fr) * | 1997-07-28 | 1999-02-04 | Nippon Steel Corporation | Procede et dispositif servant a determiner la cause d'une anomalie de surface d'un materiau |
| WO2006061359A1 (de) * | 2004-12-06 | 2006-06-15 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Verfahren zur auswahl einer wellenlänge und mikroskop |
-
1982
- 1982-06-01 JP JP9389382A patent/JPS58210551A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0254149A (ja) * | 1988-07-08 | 1990-02-23 | Philips Gloeilampenfab:Nv | 光ルミネセンスによる半導体試料の特性表示デバイス |
| JPH03115957A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-16 | Hitachi Ltd | ルミネッセンス測定装置 |
| WO1993007470A1 (en) * | 1991-10-01 | 1993-04-15 | Tadahiro Ohmi | Analyzer |
| US5578833A (en) * | 1991-10-01 | 1996-11-26 | Tadahiro Ohmi | Analyzer |
| WO1999005511A1 (fr) * | 1997-07-28 | 1999-02-04 | Nippon Steel Corporation | Procede et dispositif servant a determiner la cause d'une anomalie de surface d'un materiau |
| WO2006061359A1 (de) * | 2004-12-06 | 2006-06-15 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Verfahren zur auswahl einer wellenlänge und mikroskop |
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