KR900000976A - 열처리 장치 - Google Patents

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KR900000976A
KR900000976A KR1019890008008A KR890008008A KR900000976A KR 900000976 A KR900000976 A KR 900000976A KR 1019890008008 A KR1019890008008 A KR 1019890008008A KR 890008008 A KR890008008 A KR 890008008A KR 900000976 A KR900000976 A KR 900000976A
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heat treatment
film
treatment apparatus
heating element
thin film
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KR1019890008008A
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Inventor
키미하루 마츠무라
에이이치 시라카와
Original Assignee
다카시마 히로시
테루 쿠우슈우 가부시끼 가이샤
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

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Abstract

내용 없음

Description

열처리 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는, 본 발명의 1 실시예인 열처리 장치의 구성을 나타낸 설명도.
제3도는, 제1도의 열처리 장치의 발열부를 나타낸 설명도.
제5도는, 본 발명에서 온도시험을 행하는 실험장치의 설명도.
제9도는, 제1도의 열처리장치의 발열온도를 검사하기 위한 도면.

Claims (11)

  1. 한쪽면에 피처리체를 얹어놓는면을 갖는 발열판(1),(1A)과, 이 발열판(1),(1A)의 다른면쪽에 형성된 막형상의 발열체와, 이 막형상의 발열체에 형성된 전극(3)과, 이 전극(3)에 소정의 전력을 공급하는 급전기구(9)와, 를 구비하는 열처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 막형상의 발열체가, 도전성 박막(2)으로 형성되어 있는것인 열처리장치.
  3. 제2항에 있어서, 도전성 박막(2)의 재질은, 금속단일체, 탄소계 재료의 단일체, 합금, 폴리머계 복합재료, 복합 세라믹 재료중의 어느것인가로 부터 이루어지는 도전성을 가짐과 동시에, 통전에 의하여 발열 저항체로서 기능할수 있는 것인 열처리 장치.
  4. 제1항에 있어서, 발열판(1),(1A)의 재질이, 알루미나, 산화지르코늄, 탄화규소, 질화규소, 다이아몬드 중에서 선택된 세라믹, 또는, 석영, 금흥석 중의 어느것인가의 금속 산화물, 또는, 고알루미나연와, 카아본 연와중의 어느것인가의 연와로서 열전도성이 양호하고, 또한 전기절연성이 우수한 것인 열처리장치.
  5. 제2항에 있어서, 도전성 박막(2)은, 중착, CVD(Chemical Vapor Deposition), 스패터, 이온 플레이팅의 막형성 수단중의 어느것인가에 의하여 발열판(1),(1A)에 부착되어 있는 것인 열처리 장치.
  6. 제3항에 있어서, 금속단일체는, 크롬, 니켈, 백금, 탄탈, 텅스텐, 주석, 철, 납, 알루멜, 베릴륨, 안티몬, 인듐, 크로멜, 코발트, 스트론튬, 로듐, 파라듐, 마그네슘, 몰리브덴, 리튬, 루바듐중의 어느것인가 하나이고, 탄소계 재료의 단일체는, 카아븐 블랙, 그라파이트중의 어느것인가 하나이며, 합금은, 니크롬, 스테인레스, 스테인레스 스틸, 청동 황동중의 어느것인가 하나이고, 폴리머계 복합재료는, 폴리머 그라파이트 카아본중의 어느것인가이며, 복합 세라믹 재료는, 규화 몰리브덴인것인 열처리장치.
  7. 제1항에 있어서, 전극(3)은, 막형상의 발열체의 끝단부에도 형성되어 있으며, 이 전극(3)에 급전을 행하는 전원장치(4), 상기 막형상의 발열체에 측정단자를 접촉한 온도측정수단, 이 온도측정수단으로 부터의 출력신호에 의하여 상기 전원장치(4)에서 상기 전극(3)으로 공급하는 급전량을 제어하는 신호를 상기 전원장치(4)로 공급하는 온도제어장치(7)에 의하여 급전기구(9)가 구성되어 있는 것인 열처리장치.
  8. 제1항에 있어서, 발열판(1A)과 막형상의 발열체와의 사이에 세라믹 박막(1B)이 개재되어 있는 것인 열처리장치.
  9. 한쪽면에 피처리체를 얹어놓는면을 갖는 발열판(1a),(1b),(1c)과, 이 발열판(1a),(1b)(1c)의 다른면쪽에 형성된 막형상의 발열체와, 이 막형상의 발열체에 형성된 전극(3a),(3b),(3c)과, 이 전극(3a),(3b),(3c)에 소정의 전력을 공급하는 급전기구(9)와로 이루어지는 열처리 유니트의 복수개를 소정의 간격으로서 다단으로 적층하여 이루어지는 것인 열처리 장치.
  10. 제1항에 있어서, 피처리체가, 반도체 웨이퍼(8), LCD, 인쇄저항기 중의 어느것인 열처리 장치.
  11. 제1항에 있어서, 막형상의 발열체의 온도검출은 열기전력을 측정함으로써 검출 하는 것인 열처리 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890008008A 1988-06-15 1989-06-10 열처리 장치 KR0139813B1 (ko)

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JP148719 1988-06-15
JP14871988 1988-06-15

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KR0139813B1 KR0139813B1 (ko) 1998-07-15

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH084000Y2 (ja) * 1991-03-28 1996-01-31 信越化学工業株式会社 複層セラミックスヒ−タ−
US5911896A (en) * 1997-06-25 1999-06-15 Brooks Automation, Inc. Substrate heating apparatus with glass-ceramic panels and thin film ribbon heater element
KR100442088B1 (ko) * 2001-11-08 2004-08-02 박종현 수지용기의 마개접합을 위한 실링체

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5941276A (ja) * 1982-09-01 1984-03-07 Nec Corp ドツトマトリツクス型シリアルプリンタ
JPS5999715A (ja) * 1982-11-29 1984-06-08 Toshiba Corp 真空中試料加熱装置
JPS6054189A (ja) * 1983-09-02 1985-03-28 山本　昌夫 遠赤外線面発熱体
JPS63216283A (ja) * 1987-03-03 1988-09-08 東京エレクトロン株式会社 加熱装置

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