JPS58220165A - 加熱定着装置 - Google Patents

加熱定着装置

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Publication number
JPS58220165A
JPS58220165A JP10339382A JP10339382A JPS58220165A JP S58220165 A JPS58220165 A JP S58220165A JP 10339382 A JP10339382 A JP 10339382A JP 10339382 A JP10339382 A JP 10339382A JP S58220165 A JPS58220165 A JP S58220165A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
ceramic
thermal conductivity
fixing device
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10339382A
Other languages
English (en)
Inventor
Setsuo Soga
節夫 曽我
Tomohiro Oikawa
及川 智博
Yasumori Nagahara
永原 康守
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP10339382A priority Critical patent/JPS58220165A/ja
Publication of JPS58220165A publication Critical patent/JPS58220165A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/20Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
    • G03G15/2003Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
    • G03G15/2014Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
    • G03G15/2053Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
    • G03G15/2057Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating relating to the chemical composition of the heat element and layers thereof

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Fixing For Electrophotography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電子複写機またはファクシミリなどにおいて
トナー支持体のトナーを加熱して熔融することによりト
ナー支持体に定着させる加熱定着装置に関する。
従来から、セラミック体に発熱導体を埋設してローラー
芯体を形成し、かつ、この外表面にオフセット防止層を
形成してなる加熱定着装置が知られている。
しかし、この加熱定着装置は、ローラー芯体のセラミッ
ク体の熱伝導率が0.04〜0. I Cal /yn
・5ec−1::程度であるから、発熱導体の熱がセラ
ミック体の内部側に伝わる率が大きいので、オフセット
防止層と発熱導体とこれらの間のセラミック体の温度の
立ち上がり時間が長くなるという欠点がある。
本発明の目的は、上述の欠点を解消することができる加
熱定着装置を提供することにある。
本発明の特徴は、熱伝導率が0.003 Ca l 7
cm。
・see、・C以下である円筒状のセラミック基体と、
この外表面に形成された抵抗層と、この外表面に形成さ
れていて熱伝導率が0.04 Cal 7cm・sec
・C以上であるセラミック層と、この外表面に形成され
たオフセット防止層とからなることにある。
以下に図示した実施例に基づいて本発明の詳細な説明す
る。
第1図において符号1は円筒状のセラミック基体を示し
ている。このセラミック基体1は、加圧焼結により形成
され、電気的絶縁性を有(7ており、かつ、熱伝導率が
0.003 Cal 7cm −sec −C以下であ
る。このセラミック基体1は、例えば多孔質のアルミナ
で形成される。このセラミック基体1の厚さは1.5龍
〜2朋程度である。このセラミック基体1はジャーナル
部材2を介して回転軸3に固定されており、この回転軸
3は図示してない駆動手段により回転される。この回転
軸3にともなってセラミック基体1も回転される。
上記士ラミック基体1の外表面には、この両端部を除く
部分にニクロムまたはタングステンなどからなる抵抗層
4が形成されている。この抵抗層4はイオングレーティ
ング方法などにより形成される3、この抵抗層4の厚さ
は50μm〜100μ解程度である。
上記抵抗層4の外周面にはセラミック層5が塗布して形
成されている。このセラミック層5は、電気的絶縁性を
有し1.かつ1、熱伝導率が0.04Cal/am・5
ee−1:以上である。このセラミック層5は、抵抗層
4を保護するためのものであり、セラミック層5の厚さ
は数100μm程度である。
上記セラミック層5の外周面にはテフロンまたはシリコ
ンゴムかもなるオフセット防止層6が塗布して形成され
ている。このオフセット防止層6をテフロンで艙成する
場合にはオフセット防止層6の厚さは7μm〜数10μ
m程度であり、また、オフセット防止層6をシリコンゴ
ムで形成する場合にはオフセット防止層6の厚さは30
0μm〜500μm程度である。
上記抵抗層40両端部には銅またはメタリックカーボン
などからなる電極7が形成されている。
これらの電極7の厚さは10μm〜100μm程度であ
る。これらの電極7には図示してない給電ブラシを介し
て電源回路が接続されており、この電源回路により給電
ブラシおよび電極7を介して抵抗層4に給電されるとジ
ュール熱が発生する。
この抵抗層40発熱によりセラミック層5、オフセット
防止層6およびセラミック基体1が加熱される。
上記オフセット防止層6に圧接するように加圧ローラー
(図示してない)が配置されている。上記抵抗層40発
熱によりオフセット防止層6の外表面の温度が所定以上
に保たれ、セラミック基体1、抵抗層4、セラミック層
5、オフセット防止層6および加圧ローラーが回転され
ている状態で、オフセット防止層6と加圧ローラーの間
にトナー支持体がトナーをオフセット防止層6の側に位
置させて挿入されると、トナーは加熱されて熔融される
と共に加圧されてトナー支持体に定着される。
次に本発明の加熱定着装置の温度の立ち上がり特性を調
べた実験例を示す。
実験例(1) 上記セラミック基体1は、外径が30+atであると共
に厚)が2隨であり、かつ、熱伝導率が0.003 C
al 7cm −sec −Cであり、抵抗層4は厚さ
が50μmであって抵抗がほぼ7,7Ωであり、セラミ
ック層5は厚さが200μmであって熱伝導率が0.0
4 Cal /am −Sec −Cであり、かつ、オ
フセット防止層6はテフロンからなり−厚さが20μm
である加熱定着装置において、上記電極7゜7に100
■の電圧を印加したところ、オフセット防止層6の温度
が200から1901:’までに上昇する時間はほぼ1
分間であった。
実験例(2) 上記セラミック基体1の熱伝導率が0.0001Cal
/an・5ec−T::である点のほかは実験例(1)
と同じ条件で実験したところ、オフセット防止層6の温
度が20Cから190Cまでに上昇する時間はほぼ30
秒であった。
本発明の加熱定着装置は、セラミック基体の熱伝導率が
0.003 Cal /as −sec −C以下であ
り、かつ、セラミック層の熱伝導率が0.04 Cal
 /an・5ec−C以上であるから、抵抗層の熱がセ
ラミック基体へ伝わりにくく、かつ、セラミック層およ
びオフセット防止層へ伝わりやすいから、オフセット防
止層の温度の立ち上がり時間を短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の加熱定着装置を示す横断面図、および
、第2図は同上装置を示す縦断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電気的絶縁性を有していて熱伝導率が0.003Cal
     /rs −sec −C以下である円筒状のセラミッ
    ク基体と、この外表面に形成された抵抗層と、この外表
    面に形成されていて電気的絶縁性を有し、かつ、熱伝導
    率が0.04 Cal /am −sec −C以上で
    あるセラミック層と、この外表面に形成されたオフセッ
    ト防止層とからなることを特徴とする加熱定着装置。
JP10339382A 1982-06-16 1982-06-16 加熱定着装置 Pending JPS58220165A (ja)

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JP10339382A JPS58220165A (ja) 1982-06-16 1982-06-16 加熱定着装置

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JP10339382A JPS58220165A (ja) 1982-06-16 1982-06-16 加熱定着装置

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JPS58220165A true JPS58220165A (ja) 1983-12-21

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Family Applications (1)

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JP10339382A Pending JPS58220165A (ja) 1982-06-16 1982-06-16 加熱定着装置

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JP (1) JPS58220165A (ja)

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