JPS58217975A - 加熱定着装置 - Google Patents
加熱定着装置Info
- Publication number
- JPS58217975A JPS58217975A JP10162282A JP10162282A JPS58217975A JP S58217975 A JPS58217975 A JP S58217975A JP 10162282 A JP10162282 A JP 10162282A JP 10162282 A JP10162282 A JP 10162282A JP S58217975 A JPS58217975 A JP S58217975A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- ceramic
- offset
- liquid
- ceramic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2053—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
- G03G15/2057—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating relating to the chemical composition of the heat element and layers thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Fixing For Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子複写機およびファクシミリなどにおいて
トナー支持体にトナーを加熱して定着させる加熱定着装
置に関する。
トナー支持体にトナーを加熱して定着させる加熱定着装
置に関する。
従来から、加熱定着装置として、電気的絶縁性のセラミ
ック体中に給電により発熱する抵抗層を埋設してなるセ
ラミックヒータ−によりローラー芯体を形成し、かつ、
このローラー芯体の外表面にシリコンゴムからなるオフ
セット防止層を形成し℃なるものが知られている。
ック体中に給電により発熱する抵抗層を埋設してなるセ
ラミックヒータ−によりローラー芯体を形成し、かつ、
このローラー芯体の外表面にシリコンゴムからなるオフ
セット防止層を形成し℃なるものが知られている。
しかし、この加熱定着装置は、オフセット防止層の外表
面にシリコンオイルなどのオフセット防止液を塗布する
と、このオフセット防止液がローラー芯体のセラミック
体に浸み込むから、セラミック体の物性が変化し、また
、オフセット防止液の塗布量の制御がむずかしいという
欠点がある。
面にシリコンオイルなどのオフセット防止液を塗布する
と、このオフセット防止液がローラー芯体のセラミック
体に浸み込むから、セラミック体の物性が変化し、また
、オフセット防止液の塗布量の制御がむずかしいという
欠点がある。
本発明の目的は、上述の欠点を解消することができる・
加熱定着装置を提供することにある。
加熱定着装置を提供することにある。
本発明の特徴は、円筒状の電気的絶縁性のセラミック基
体と、この外表面に形成されていて給電により発熱する
抵抗層と、この外表面に形成された電気的絶縁性のセラ
ミック層と、この外表面に形成された液浸み込み防止層
と、この外表面に形成されたシリコンゴムからなるオフ
セット防止層とからなることにある。
体と、この外表面に形成されていて給電により発熱する
抵抗層と、この外表面に形成された電気的絶縁性のセラ
ミック層と、この外表面に形成された液浸み込み防止層
と、この外表面に形成されたシリコンゴムからなるオフ
セット防止層とからなることにある。
以下九図示した実施例に基づいて本発明の詳細な説明す
る。
る。
第１図において符号１は円筒状の電気的絶縁性のセラミ
ック基体を示している。このセラミック基体１は、加圧
焼結により厚さが１．５朋〜２．０朋程度である円筒状
に形成され、所定の強度を有し、かつ、熱容量が小さい
ものが望ましい。また、このセラミック基体１は熱伝導
率が小さいほうが望ましい６ 上記セラミック基体１は、ジャーナル部材２゜２を介し
て回転軸３に固定されている。この回転軸３は図示して
ない駆動手段により回転され、この回転軸３０回転にと
もなってセラミック基体１も回転される。
ック基体を示している。このセラミック基体１は、加圧
焼結により厚さが１．５朋〜２．０朋程度である円筒状
に形成され、所定の強度を有し、かつ、熱容量が小さい
ものが望ましい。また、このセラミック基体１は熱伝導
率が小さいほうが望ましい６ 上記セラミック基体１は、ジャーナル部材２゜２を介し
て回転軸３に固定されている。この回転軸３は図示して
ない駆動手段により回転され、この回転軸３０回転にと
もなってセラミック基体１も回転される。
上記セラミック基体１の外表面には、ニク四ムまたはタ
ングステンなどの金属からなる抵抗層４が形成されてい
る。この抵抗層４はイオンブレーティング方法またはパ
ターン印刷方法などにより形成されている。この抵抗層
４の厚さは、５０μＷ１〜１００μｍ程度である。
ングステンなどの金属からなる抵抗層４が形成されてい
る。この抵抗層４はイオンブレーティング方法またはパ
ターン印刷方法などにより形成されている。この抵抗層
４の厚さは、５０μＷ１〜１００μｍ程度である。
上記抵抗層４の外表面には、両端部を除く部分に熱伝導
率が大きい電気的絶縁性のセラミック層５が塗布して形
成されている。このセラミック層５の厚さは、数１００
μｍ程度である。
率が大きい電気的絶縁性のセラミック層５が塗布して形
成されている。このセラミック層５の厚さは、数１００
μｍ程度である。
上記セラミック層５の外表面には、液浸み込み防止層６
が形成されている。この液浸み込み防止層６は、アルミ
ニウムを蒸着することにより、または、亜鉛もしくはニ
ッケルをメッキすることにより形成される。この液浸み
込み防止層６は、シリコンオイルなどオフセット防止液
を透過させない耐熱性の合成樹脂たとえばフッ化シリコ
ンゴム、フッ素ゴムまたはテフロンなどで形成してもよ
い。
が形成されている。この液浸み込み防止層６は、アルミ
ニウムを蒸着することにより、または、亜鉛もしくはニ
ッケルをメッキすることにより形成される。この液浸み
込み防止層６は、シリコンオイルなどオフセット防止液
を透過させない耐熱性の合成樹脂たとえばフッ化シリコ
ンゴム、フッ素ゴムまたはテフロンなどで形成してもよ
い。
上記液浸み込み防止層６の外表面には、シリコンゴムか
らなるオフセット防止層７が塗布して形成されている。
らなるオフセット防止層７が塗布して形成されている。
このオフセット防止層７の厚さは、３００μｍ〜５００
μｍ程度である。
μｍ程度である。
上記抵抗層４０両端部には、銅またはメタリックカーボ
ンなどからなる電極８が形成されている。
ンなどからなる電極８が形成されている。
これらの電極８には図示してない給電用ブラシをに給電
されるとジーール熱が発生する。この抵抗層４０発熱に
よりセラミック層５、液浸み込み防止層６およびオフセ
ット防止層７が加熱される。 ′ ゛□上記オフセッ
ト防止層７と接触するように図示してない加圧ローラー
が配置されている。上記セラミック基体１、抵抗層４、
セラミック層５、液浸み込み防止Ｍ６およびオフセット
防止層７が所定以上の温度に保たれ、これらと加圧ロー
ラーとが回転されている状態で、これらの間にトナー支
持体がトナーをオフセット防止層７の側に位置させて挿
入されると、トナーは加熱されて熔融されると共に加圧
されてトナー支持体に定着される。
されるとジーール熱が発生する。この抵抗層４０発熱に
よりセラミック層５、液浸み込み防止層６およびオフセ
ット防止層７が加熱される。 ′ ゛□上記オフセッ
ト防止層７と接触するように図示してない加圧ローラー
が配置されている。上記セラミック基体１、抵抗層４、
セラミック層５、液浸み込み防止Ｍ６およびオフセット
防止層７が所定以上の温度に保たれ、これらと加圧ロー
ラーとが回転されている状態で、これらの間にトナー支
持体がトナーをオフセット防止層７の側に位置させて挿
入されると、トナーは加熱されて熔融されると共に加圧
されてトナー支持体に定着される。
本発明の加熱定着装置は、オフセット防止層とセラミッ
ク層との間に液浸み込み防止層が形成されているから、
オフセット防止層にオフセット防止液を塗布してもオフ
セット防止液がセラミック層に浸み込むことがないので
、セラミック層の物性が変化せず、また、オフセット防
止液の塗布量の制御が容易である。
ク層との間に液浸み込み防止層が形成されているから、
オフセット防止層にオフセット防止液を塗布してもオフ
セット防止液がセラミック層に浸み込むことがないので
、セラミック層の物性が変化せず、また、オフセット防
止液の塗布量の制御が容易である。
第１図は本発明の加熱定着装置を示す横断面図、および
、第２図は同加熱定着装置を示す縦断面図である。 １・・・セラミック基体、４・・・抵抗層、５・・・セ
ラミック層、６・・・液浸み込み防止層、７・・・オフ
セット防止層
、第２図は同加熱定着装置を示す縦断面図である。 １・・・セラミック基体、４・・・抵抗層、５・・・セ
ラミック層、６・・・液浸み込み防止層、７・・・オフ
セット防止層
Claims (1)
- 円筒状の電気的絶縁性のセラミック基体と、この外表面
に形成されていて給電により発熱する抵抗層と、この外
表面に形成された電気的絶縁性の七ラミック層と、この
外表面に形成された液浸み込み防止層と、この外表面に
形成されたシリコンゴムからなるオフセット防止層とか
らなることを特徴とする加熱定着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10162282A JPS58217975A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | 加熱定着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10162282A JPS58217975A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | 加熱定着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58217975A true JPS58217975A (ja) | 1983-12-19 |
Family
ID=14305493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10162282A Pending JPS58217975A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | 加熱定着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58217975A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61194463A (ja) * | 1985-02-23 | 1986-08-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 定着装置 |
| EP0332105A2 (en) * | 1988-03-11 | 1989-09-13 | Hitachi, Ltd. | Fixing device and recording device |
-
1982
- 1982-06-14 JP JP10162282A patent/JPS58217975A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61194463A (ja) * | 1985-02-23 | 1986-08-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 定着装置 |
| EP0332105A2 (en) * | 1988-03-11 | 1989-09-13 | Hitachi, Ltd. | Fixing device and recording device |
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