KR890014701A - 전도성 니스 조성물 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 관계하는 조성물로부터, 수득한(실시예 1) 전도성 필름중 필름이 얇은 경우(두께 0.5㎛)의 결정 구조를 나타내는 편광 현미경사진이고,
제2도는 수득한(실시예 6) 전도성 필름이 두꺼운 경우(두께 12㎛)의 결정구조를 나타내는 광학 현미경 사진이다.
Claims (20)
- (A) 테트라시아노퀴노디메탄 착염 (B) 고분자 화합물 (C)(I) 아세탈, 오르소포름산 에스테르, 오르소아세트산 에스테르, 오르소탄산 에스테르, 실옥산, 실릴 에테르 및 오르소실릴산 에스테르 ; 또는 (ii) 계면활성제 또는 실리콘유, 또는 (iii)(i) 및 (ii)의 혼합물, 및 (d) 용매로 본질적으로 구성되는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, (c) 성분이 (c)(i) 성분임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, (c) 성분이 (c)(iii) 성분임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, (c) 성분이 (c)(ii) 성분임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, 테트라시아노퀴노디메탄 착염이 하기식에 의해 표시되는 유기 양이온을 함유함을 특징으로 하는 화합물.식중, R1은 H, 탄소수가 1~30인 알킬기, 벤질기 또는 페닐에틸기를 나타내고, R2, R3및 R4각각은 H 또는 탄소수가 1~12인 알킬기를 나타낸다.)
- 제1항에 있어서, 테트라시아노퀴노디메탄 착염이 4가 질소-함유 양이온기를 함유하는 고분자임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제 1항에 있어서, 테트라시아노퀴노디메탄 착염은 N-부틸이소퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-부틸퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-프로필 이소퀴놀리늄 테트라시아노 퀴노디메탄 착염, N-아밀 이소퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-헥신 퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-헥실 이소퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-옥틸 이소퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-옥틸 퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-데실 퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-도데실이소퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-도데실 퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-벤질 퀴놀리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-헥실-α-피롤리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-헥실-β-피콜리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-부틸-α-피콜리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-부틸-β-피콜리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-메틴-N-에틸 모르폴리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N,N -디에틸 모르폴리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염, N-부틸-N-메틸모르폴리늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염 및 N-벤질피리디늄 테트라시아노퀴노디메탄 착염으로 구성된 군으로부터 선택함을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, 고분자 화합물은 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리카르보네이트, 폴리비닐부티랄, As 수지, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아릴레이트, 폴리술폰, 폴리이미드, 폴리에스테르, 메틸메타크릴레이트의 n-부틸 아크릴레이트와의 공중합체 및 메틸메타크릴레이트의 스티렌과의 공중합체로 구성된 군으로부터 선택함을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, (c)(i) 성분이 하기식의 아세탈 :(식중 R1′및 R2′는 각각 H, 탄소수가 1~6인 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, R3′및 R4′는 각각 탄소수가 1~6인 탄소원자, 에틸렌기 또는 프로필렌기를 나타낸다.) 하기식의 오르소포름산 에스테르 :(식중 R은 탄소수가 1~6인 알킬기를 나타낸다.) 하기식의 오르소아세트산 에스테르 :(식중 R은 탄소수가 1~6인 알킬기를 나타낸다.) 하기식의 오르소탄산 에스테르 :(식중 R은 탄소수가 1~6인 알킬기를 나타낸다.) 실옥산, 실릴에테르 및 오르소실릭산 에스테르로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상의 화합물임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, (c)(i) 성분이 (CH3)2C(OCH3)2, (CH3)2C(OCH3)(OC2H5), PhCH(OC4H9)2, Ph2C(OC2H5)2, CH(OCH3)3, CH(OC2H5)3, CH(OC3H7)3, CH2C(OCH3)3, CH3C(OC2H5)3, CH3C(OC3H7)3, C(OCH3)4, C(OC2H5)4, ((CH3)3Si)2O, ((C2H5)3Si)2O, (CH3)3Si(OCH3), (C2H5)3Si(OC2H5), Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4및 Si(OC3H7)4로 구성된 군으로부터 선택한 1종 이상의 화합물임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제2항에 있어서, (c)(i) 성분이 디메틸아세탈, 디에틸아세탈, 메틸오르소포르메이트, 에틸오르소포르메이트, 에틸오르소카르보네이트, 헥사메틸디옥산 및 트리에틸에톡시실란으로 구성된 군으로부터 선택한 1종 이상의 화합물임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제3항에 있어서, (c)(i) 성분이 디메틸아세탈, 디에틸아세탈, 메틸오르소포르메이트, 에틸오르소포르메이트, 에틸오르소카르보네이트, 헥사메틸디옥산 및 트리에틸에톡시실란으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상의 화합물임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, (c)(ii) 성분은 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양성(amphoteric) 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 불소계 계면활성제 및 실리콘류로 구성된 군으로 부터 선택함을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제3항에 있어서, (c)(ii) 성분은 불소계 계면활성제, 폴리옥시에틸렌노닐페닐 에테르, 실리콘유, 소르비탄 모노라우레이트(sorbitan monolaurate) 및 폴리옥시에틸렌 라우릴에테르로 구성된 군으로부터 선택함을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제4항에 있어서, (c)(ii) 성분은 불소계 계면활성제, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 실리콘유, 소르비탄 모노라우레이트 및 폴리옥시에틸렌 라우릴에테르로 구성된 군으로부터 선택함을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, 용매가 아미드류, 니트릴류, 알코올류, 케톤류, 에스테르류, 방향족 탄화수소류 및 할로겐화 탄화수소류로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상의 화합물임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제1항에 있어서, 용매가 디메틸포름아미드, N-메틸 피롤리돈, γ-부티로락톤, 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 디옥산, 부틸아세테이트, 아밀아세테이트, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄 및 테트라클로로에탄으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상의 화합물임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제2항에 있어서, 테트라시아노퀴노디메탄 착염, 고분자 화합물 및 (c)(i) 성분의 분율이 용매의 중량을 기준으로 각각 0.05~30%, 0.05~100% 및 0.01~10%임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.
- 제3항에 있어서, 테트라시아노퀴노디메탄 착염, 고분자 화합물 (c)(i) 성분 및 (c)(ii) 성분의 분율이 용매의 중량을 기준으로 각각 0.05~30%, 0.05~100%, 0.01~10% 및 1% 미만임을 특징으로 하는 화합물.
- 제4항에 있어서, 테트라시아노퀸디메탄 착염, 고분자 화합물 및 (c)(ii) 성분이 용매의 중량을 기준으로 각각 0.05~30%, 0.05~100% 및 0.001~20%임을 특징으로 하는 전도성 니스 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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