KR890014512A - 치환된 디플루오로벤조-1,3-디옥솔의 제조방법 - Google Patents

치환된 디플루오로벤조-1,3-디옥솔의 제조방법

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KR890014512A
KR890014512A KR1019890003441A KR890003441A KR890014512A KR 890014512 A KR890014512 A KR 890014512A KR 1019890003441 A KR1019890003441 A KR 1019890003441A KR 890003441 A KR890003441 A KR 890003441A KR 890014512 A KR890014512 A KR 890014512A
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퀘넬 한스-루에디
샤우브 브루노
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에른스트 알테르
시바-가이기 아게
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Abstract

내용 없음.

Description

치환된 디플루오로벤조-1,3-디옥솔의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (22)

  1. a) 불활성 용매 내에서 음이온성 강염기 존재하에서 2,2-디플루오로벤조-1,3-디옥솔을 알칼리 금속, 알칼리 금속 화합물 또는 알칼리 토금속 화합물과 반응시켜 하기 일반식(IV)의 화합물을 생성하고, 임의적으로는 MgZ2, ZnZ2, CdZ2, CuZ, CuZ2, PdZ2, AlZ3, SiZ4, SnZ2, SnZ4, TiZ4, BZ3또는 ZrZ4로부터 선택된 무수 금속 할로겐화물과 반응시켜 Y가 -Cu, -MgZ, -ZnZ, -CdZ, -Cuz, -PdZ, -NiZ, -AlZ2, -SnZ, TiZ3, SiZ3, BZ2또는 -ZrZ3이고 Z가 -Cl, -Br 또는 -I이고, 그리고 붕소인 경우 -OC1-C4알킬 또는 -O-아릴인 하기 일반식(IV)의 화합물을 얻은 다음, b) 하기 일반식(IV)의 화합물을 , X-CN, CO2, S8, COX2, B(OR2)3, X-SiR3 2, R2O-SiR3 2또는 XCOOR2(여기서 X는 -Cl 또는 -Br임)로부터 선택된 친전자성 화합물과 반응시키거나, 또는 포름화제 ; CH2O ; 에폭시드 ; 비치환되거나 또는 불소, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬, C1-C4플루오로알킬, 니트로 또는 시아노에 의해 치환된 벤즈알데히드 ; 비치환되거나 또는 -F, -Cl, -CN, C1-C6알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시페닐, C1-C4알킬티오페닐, C1-C4알킬페닐, C1-C4플루오로 알킬페닐, 니트로페닐 또는 시아노페닐에 의해 치환된 C1-C11알킬 -CHO와 반응시키거나, 또는 X1이 -Cl, -Br, C1-C6알콕시 또는 2급 아민 라디칼인 C1-C12아실 -X1과 반응시키거나, 또는 X2CnH2nCOOR2, X2-CR3-CR4R5, 하기 일반식(IIIa)의 화합물과 반응시키고, (c) 하기 일반식(I)의 화합물을 단리하거나 또는 먼저 반응혼합물을 가수분해 한 다음 하기 일반식(I)의 화합물을 단리하는 단계를 포함하는 하기 일반식(I)의 화합물의 제조방법.
    상기식에서, R1은 -OH, -SH, -CHO, -CN, -COOH, -B(OH)2, X가 염소 또는 브롬인 -COX, 또는 R2가 하이드록시기 없는 C1-C12알코올 잔기인 -COOR2, SiR2 3또는 R1은 n이 1 내지 4의 정수인 -CnH2nCOOR2, 비치환되거나 또는 -F, CN, C1-C6알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시-페닐, C1-C4알킬티오-페닐, C1-C4알킬-페닐, C1-C4플루오로알킬-페닐, 니트로페닐, 시아노페닐에 의해 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C12하이드록시알킬이고, 또는 R1은 불소, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬, C1-C4플루오로알킬, 니트로, 시아노에 의채 치환 또는 비치환된 벤질 알코올 또는 C1-C12아실이고, 또는 R1은 하기 일반식(II)
    상기 식에서, R5는 -CN, -CF3-COOR2, -CONH2, -CO-NHR2또는 -CONR2 2이고, R3와 R4는 직접 결합이거나 또는 각각 수소이고, 또는 R3가 수소이고 R4는 독립적으로 R5의 의미를 갖거나, 또는 R3와 R4는 R6가 제거가능한 보호기의 라디칼인 -CH2-NR6-CH2-, -CH2-NR6-CO- 또는 -CO-NR6-CO-임, 의 라디칼이고, 또는 R1은 하기 일반식(III)의 라디칼이고
    Y는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속이고 ; X2는 이탈기이다.
  2. 제1항에 있어서, a) 불활성 용매 내에서 음이온성 강염기 존재하에서 2,2-디플루오로벤조-1,3-디옥솔을 알칼리 금속, 알칼리 금속 화합물 또는 알칼리 토금속 화합물과 반응시켜 하기 일반식(IV)의 화합물을 생성하고, 임의적으로는 MgZ2, ZnZ2, CdZ2, CuZ, CuZ2, PdZ2, NiZ2, AlZ3, SiZ4, SnZ2, SnZ4, TiZ4, BZ3또는 ZrZ4로부터 선택된 무수 금속 할로겐화물과 반응시켜 Y가 -Cu, -MgZ, -ZnZ, -CdZ,-Cuz, -PdZ, -NiZ, -AlZ2, SiZ3, SnZ2, -SnZ3, -TiZ3, BZ2또는 -ZrZ3이고 Z가 -Cl, -Br 또는 -I이고, 그리고 붕소인 경우 -OC1-C4알킬인 하기 일반식(IV)의 화합물을 얻은 다음, b) 하기 일반식(IV)의 화합물을 , X-CN, CO2, B(OR2)3, COX2또는 XCOOR2(여기서 X는 -Cl 또는 -Br임)로부터 선택된 친전자성 화합물과 반응시키거나, 또는 포름화제 ; CH2O ; 에폭시드 ; 비치환되거나 또는 F, -Cl, -CN, C1-C6알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시페닐, C1-C4알킬티오페닐, C1-C4알킬페닐, C1-C4플루오로알킬페닐, 니트로페닐 또는 시아노페닐에 의해 치환된 C1-C11알킬 -CHO와 반응시키거나, 또는 X1이 -Cl, -Br, C1-C6알콕시 또는 2급 아민 라디칼인 C1-C12아실 -X1과 반응시키거나, 또는 X2CnH2nCOOR2, X2-CR3-CR4R5, 하기 일반식(IIIa)의 화합물과 반응시키고, c) 일반식(I)의 화합물을 단리하거나 또는 먼저 반응혼합물을 가수분해한 다음 일반식(I)의 화합물을 단리하는 단계를 포함하는 하기 일반식(I)의 화합물의 제조방법.
    일반식(I) 및 상기 식에서, R1은 -CHO, -CN, -COOH, B(OH)2, X가 염소 또는 브롬인 -COX, 또는 R2가 하이드록시기 없는 C1-C12알코올 잔기인 -COOR2또는 -B(OR2)3이고, 또는 R1은 n이 1 내지 4의 정수인 -CnH2nCOOR2, 비치환되거나 또는 -F, -CN, C1-C6알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시페닐, C1-C4알킬티오페닐, C1-C4알킬페닐, C1-C4플루오로알킬페닐, 니트로페닐, 시아노페닐에 의해 각각 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C12하이드록시알킬 또는 C1-C12아실이고, 또는 R1은 하기 일반식(II)이 라디칼이고,
    상기 식에서, R5는 -CN, -CF3-COOR2, -CONH2, -CO-NHR2또는 -CONR2 2이고, R3와 R4는 직접 결합이거나 또는 각각 수소이고, 또는 R3가 수소이고 R4는 독립적으로 R5의 의미를 갖거나, 또는 R3와 R4는 R6가 제거가능한 보호기의 라디칼인 -CH2-NR6-CH2-, -CH2-NR6-CO- 또는 -CO-NR6-CO-임, 또는 R1은 하기 일반식(III)의 라디칼이고
    Y는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속이다.
  3. 제2항에 있어서, a) 불활성 용매 내에서 음이온성 강염기 존재하에서 2,2-디플루오로벤조-1,3-디옥솔을 알칼리 금속, 알칼리 금속 또는 알칼리 금속 화합물과 반응시켜 하기 일반식(IV)의 화합물을 생성하고, 임의적으로는 MgZ2, ZnZ2, CdZ2, CuZ, CuZ2, PdZ2, NiZ2, AlZ3, SiZ4, SnZ2, SnZ4, TiZ4, 또는 ZrZ4로부터 선택된 무수 금속 할로겐화물과 반응시켜 Y가 -Cu, -MgZ, -ZnZ, -CdZ, -Cuz, -PdZ, -NiZ, -AlZ2, -SiZ3, SnZ2, -SnZ3, -TiZ 또는 -ZrZ3이고 Z가 -Cl, -Br 또는 -I인 하기 일반식(IV)의 화합물을 얻은 다음, b) 하기 일반식(IV)의 화합물을 ; -X-CN, CO2, COX2또는 XCOOR2(여기서 X는 -Cl 또는 -Br임)로부터 선택된 친전자성 화합물과 반응시키거나, 또는 포름화제 ; 비치환되거나 또는 -F, -CN, C1-C6알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시페닐, C1-C4알킬티오페닐, C1-C4알킬페닐, C1-C4플루오로알킬페닐, 니트로페닐, 시아노페닐에 의해 치환된 C1-C12할로알코올; CH2O; 비치환되거나 또는 -F, -CN, C1-C6알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시페닐, C1-C4알킬티오페닐, C1-C4알킬페닐, C1-C4플루오로알킬페닐, 니트로페닐, 시아노페닐에 의해 치환된 C1-C11알킬 -CHO ;에폭시드 ; 비치환되거나 또는 -F, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬, C1-C4플루오로알킬, 니트로, 시아노에 의해 치환된 벤즈알데히드와 반응시키거나, 또는 X1이 -Cl, -Br, C1-C6알콕시 또는 2급아민 라디칼인 C1-C12아실 -X1과 반응시키거나, 또는 X2CnH2nCOOR2, X2-CR3-CR4R5, 하기 일반식(IIIa)의 화합물과 반으이키고, c) 하기 일반식(I)의 화합물을 단리하거나 또는 먼저 반응혼합물을 가수분해 한 다음 하기 일반식(I) 화합물을 단리하는 단계를 포함하는 하기 일반식(I)의 화합물의 제조방법.
    상기식에서, R1은 -CHO, -CN, -COOH, X가 염소 또는 브롬이 -COX, 또는 R2가 하이드록시기 없는 C1-C12알코올 잔기인 -COOR2이고, 또는 R1은 n이 1 내지 4의 정수인 -CnH2nCOOR2, 비치환되거나 또는 -F, -CN, C1-C16알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시페닐, C1-C4알킬티오페틸, C1-C4알킬페닐, C1-C4플루오로알킬페닐, 니트로페닐, 시아노페닐에 이해 각각 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C12하이드록시알킬 또는 C1-C12아실이고, 또는 R1은 하기 일반식(II)
    상기 식에서, R5는 -CN-CF3, -COOR2또는 R3가 수소이고, R4는 독립적으로 R5의 의미를 갖거나, 또는 -CONR2 2이고, R3와 R4는 직접결합이거나 또는 각각 수소이고, 또는 R3와 R4는 R6기 제거가능한 보호기의 라디칼인 -CH2-NR6-CH2-, -CH2-NR6-CO- 또는 -CO-NR6-CO-임, 의 라디칼이고, 또는 R1은 하기 일반식(III)의 라디칼이고
    Y는 알칼리 금속이다.
  4. 제3항에 있어서,
    a) 불활성 용매 내에서 음이온성 강염기 존재하에서 2,2-디플루오로벤조-1,3-디옥솔을 알칼리 금속, 알칼리 금속 화합물 또는 알칼리 토금속 화합물과 반응시켜 하기 일반식(IV)의 화합물을 생성하고, 임의적으로는 MgZ2, ZnZ2, CdZ2, CuZ, CuZ2, PdZ2, NiZ2, AlZ3, SiZ4, SnZ2, TiZ4, BZ3또는 ZrZ4로부터 선택된 무수 금속 할로겐화물과 반응시켜 Y가 -Cu, -MgZ, -ZnZ, -CdZ, -Cuz, -PdZ, -NiZ, -AlZ2, -SiZ3, SnZ, -SnZ3, -TiZ3, -BZ2또는 -ZrZ3이고 Z가 -Cl, -Br 또는 -I인 하기 일반식(IV)의 화합물을 얻은 다음, b) 하기 일반식(IV)의 화합물을 , X-CN, CO2, 또는 COX2(여기서 X는 -Cl 또는 -Br임)로부터 선택된 친전자성 화합물과 반응시키거나, 또는 포름화제 ; X2-CR3-CR4R5, 하기 일반식(IIIa)의 화합물과 반응시키고, (c) 일반식(I)의 화합물을 단리하거나 또는 먼저 반응혼합물을 가수분해한 다음 일반식(I)의 화합물을 단리하는 단계를 포함하는 방법.
    일반식(I) 및 상기 식에서, R1은 -CHO, -CN, -COOH, X가 염소 또는 브롬인 -COX, 또는 R1은 하기 일반식(II)
    상기식에서, R5는 -CN, -CF3, -COOR2또는 -CONH2이고, R3와 R4는 직접결합하거나 또는 각각 수소이고, 또는 R3가 수소이고 R4는 독립적으로 R5의 의미를 갖거나,또는 R3와 R4는 R6기 제거가능한 보호기의 라디칼인 -CH2-NR6-CO-임, 의 라디칼이고, 또는 R1은 하기 일반식(III)의 라디칼이고
    Y는 알칼리 금속이다.
  5. 제4항에 있어서, R1이 -CHO이거나 또는 하기 일반식(II)의 라디칼이며,
    이때, 상기 일반식(Ⅱ)에서 R5가 -CN, -COOR2, -CONH2이고 R3과 R4가 각각 H이거나, 또는 R3가 H이고 R4가 독립적으로 R5와 같은 상기 일반식(I)와합물의 제조방법.
  6. 제3항에 있어서, 일반식(Ⅰ)에서 R1이 -CHO 또는 -COOR2이고, 일반식(Ⅱ)에서 R3와 R4가 직접 결합이고 R5가 -CN이거나 또는 R3가 H이고 R4가 -CN이며 R5가 -COOR2, CONR2 2, -CN이거나 또는 R3와 R4가 같이 -CH2-NR6-CH2-, -CH2-NR6-CO-, -CO-NR6-CO-이며 R5가 -CN이고, 일바식(III)에서 R5가 -CN인 방법.
  7. 제3항에 있어서, 반응이 -150℃ 내지 150℃에서 행해지는 방법.
  8. 제3항에 있어서, 용매가 비극성 또는 극성의 반 양성자성 용매인 방법.
  9. 제8항에 있어서, 용매가 지방족 또는 방향족 탄화수소, 에테르, 3급아민, N-알킬화된 산 아미드, 락탐 또는 고리형 우레아, 술폭시드, 술폰, 니트릴, 케논 또는 그것들의 혼합물인 방법.
  10. 제3항에 있어서, 반응 혼합물이 더불어 착화제를 함유하고있는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 착화제가 3급아민, N-치환된 카르복시산아미드, 락탐 또는 고리형 우레아, 에테르 또는 술폭시드, 크라운에테르, 알칼리 금속 할로겐화물, 할로겐화 마그네슘 또는 할로겐화 구리인 방법.
  12. 제3항에 있어서, 알카리 금속이 Li, Na, K이고, 알칼리 금속화합물 또는 알칼리 토금속 화합물이 LP, Na-, K-, Ca-, Sr- 또는 Ba-알킬, -아릴하이드리드, -아미드 또는 -알코올레이트인 방법.
  13. 제3항에 있어서, 포르밀화제가 포르밀 할리드, 포름산 에스테르, 오르토포름산 에스테르, 알콕시메틸렌 아닐린 또는 N-치환된 포름아미드인 방법.
  14. 제3항에 있어서, 2급아민 라디칼로서 X1이 C1-C4알킬 -N1-OC1-C4알킬, C1-C4알킬, -N1-CH2CH2O-C1-C4알킬(C1-C4알킬 COH2CH2)2N-또는 -O- 및 -N-C1-C4알킬기로부터 선택된 다른 헤테로 원자를 함유할 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로 고리 아민라디칼인 방법.
  15. 제3항에 있어서, 이탈기로서 X2가 할리드, C1-C6알콕시, C6-C10아릴옥시, C1-C12-2급아미노, C1-C8아실옥시 또는 술폰산의 라디칼인 방법.
  16. 제3항에 있어서, 보호기 R6이 총 1 내지 18의 탄소 원자를 갖는 트리알킬실릴기, C1-C12아실 또는-COOR2인 방법.
  17. 하기 일반식(Ia)의 화합물
    상기식에서, R1은 -OH, -SH, -CHO, -CN, -COOH, -B(OH)2, X가 염소 또는 브롬인 -COX, 또는 R2가 하이드록시기 없는 C1-C12아코올 잔기인 -COOR2, -SiR3 2또는 -B(OR2)2이고, 또는 R1은 n이 1 내지 4의 정수인 -CnH2nCOOR2, 비치환되거나 또는 -F, -CN, C1-C6알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시-페닐, C1-C4알킬티오페닐, C1-C4알킬페닐, C1-C4플루오로알킬-페닐, 니트로페닐, 시아노페닐에 의해 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C12하이드록시알킬이고, 또는 R1은 비치환되거나 또는 불소, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬, C1-C4플루오로알킬, 니트로, 시아노에 의해 각각 치환된 벤질 알코올, 또는 C1-C12아실이고, 또는 R1은 하기 일반식(II)
    상기식에서, R5은 -CN, -CF3, -COOR2, -CONH2, -CO-NHR2또는 -CONR2 2이고, R3와 R4는 직접결합이거나 또는 각각 수소이고, 또는 R3가 수소이고 R4는 독립적으로 R5의 의미를 갖거나, 또는 R3와 R4는 R6가 제거가능한 보호기의 라디칼인 -CH2-NR6-CH-, -CH2-NR6-CO- 또는 -CO-NR6-CO-임, 의 라디칼이고, 또는 R1은 R5가 -CN이 아닌 하기 일반식(III)의 라디칼이다.
  18. 제17항에 있어서, R1이 -CHO, -CN, -COOH, -B(OH)2, X가 염소 또는 브롬인 -COX, 또는 R2가 하이드록시기 없는 C1-C12알코올 잔기인 -COOR2, 또는 -B(OR2)2이고 또는 R1이 n이 1 내지 4의 정수인 -CnH2nCOOR2, 비치환되거나 또는 -F, -CN, C1-C6알콕시, 페닐, 플루오로페닐, C1-C4알콕시페닐, C1-C4알킬티오페틸, C1-C4알킬페닐, C1-C4플루오로알킬페닐, 니트로페닐, 시아노페닐에 의해 각각 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C12하이드록시알킬 또는 C1-C12아실이고, 또는 R1은 하기 일반식(II)
    상기식에서, R5는 -CN, -CF3, -COOR2, -CONH2, -CO-NHR2또는 -CONH2 2이고, R3와 R4는 직접 결합이거나 또는 각각 수소이고, 또는 R3가 수소이고 R4는 독립적으로 R5의 의미를 갖거나, 또는 R3와 R4는 R6가 제거가능한 보호기의 라디칼인 -CH3-NR6-CH2-, -CH2-NR6-CO- 또는 -CO-NR6-CO-임, 의 라디칼이고 또는 R1이 R5가 -CN이 아닌 하기 일반식(III)의 라디칼인 일반식(Ia)의 화합물.
  19. 제18항에 있어서, R1이 -CN, -CHO, -COOH, R2가 하이드록시기 없는 알코올 잔기인 -COOR2이고 또는 R1이 n이 1 내지 4의 정수인 -CnH2nCOOR2이거나 또는 일반식(II)의 라디칼이고.
    상기 식에서, R3와 R4는 각각 H이고, R5는 -CN, -CF3, -CONR2 2, -COOR2이거나, 또는 R5가 -CN, -CF3, -COOR2, -CONR2 2이고 R3및 R4가 직접 결합이고 또는 R3가 H이고 R4가 독립저으로 R5와 같거나, 또는 R3와 R4가 제거가능한 보호기의 라디칼인 -CH2-NR6-CH2-, -CH2-NR6-CO-, -CO-NR6-CO- 임, 또는 R1이 R5가 -CN이 아닌 하기 일반식(III)의 라디칼인 일반식(Ia)의 화합물.
  20. 제19항에서, 일반식(Ia)에서 R1이 -CHO, -COOR2또는 일반식(II)의 라디칼이고, 이때 일반식(II)에서 R3와 R4는 직접결합이고 R5는 -CN이거나, 또는 R3가 H이고 R4가 독립적으로 R5와 같으며 R5가 -CN, -COOR2, CONR2 2이거나, 또는 R3와 R4가 같이 -CH2-NR6-CH2-, -CH2-NR6-CO-, -CO-NR6-CO-이고 R5가 -CN인 화합물.
  21. 제19항에 있어서, R-가 C1-C6알킬인 화합물.
  22. 제19항에 있어서, 보호기 R6가 층 1 내지 18의 탄소 원자를 갖는 트리알킬실릴기, C1-C12아실 또는 COOR2인 화합물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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