KR890011123A - 불휘발성 기억장치 - Google Patents

불휘발성 기억장치 Download PDF

Info

Publication number
KR890011123A
KR890011123A KR1019880016076A KR880016076A KR890011123A KR 890011123 A KR890011123 A KR 890011123A KR 1019880016076 A KR1019880016076 A KR 1019880016076A KR 880016076 A KR880016076 A KR 880016076A KR 890011123 A KR890011123 A KR 890011123A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nonvolatile memory
memory device
delta
gamma
beta
Prior art date
Application number
KR1019880016076A
Other languages
English (en)
Other versions
KR910009045B1 (ko
Inventor
미쯔아끼 후지하라
Original Assignee
나까하라 쯔네오
스미도모덴기고오교오 가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 나까하라 쯔네오, 스미도모덴기고오교오 가부시기가이샤 filed Critical 나까하라 쯔네오
Publication of KR890011123A publication Critical patent/KR890011123A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR910009045B1 publication Critical patent/KR910009045B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/44Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using super-conductive elements, e.g. cryotron
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/82Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by variation of the magnetic field applied to the device

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)
  • Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

불휘발성 기억장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 불휘발성 기억장치의 구성을, 그 메모리셀의 단면에 의하여 도시한 도면.
제2도는 제1도에 도시한 메모리셀의 1비트데이터의 기억동작을 설명하는 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 검출부 2 : 기억부
10 : FET 21,22 : 초전도링
23 : 절연층

Claims (6)

  1. 적어도 하나는 선택적으로 전류를 인가할 수 있는 복수의 초전도링으로 이루어진 기억부와, 상기 초전도링에 전류를 인가했을때에 발생하는 자장내에 위치하여서 배설된 MOSFET를 구한 검출부를 구비한 메모리셀에 의하여 구성되고, 상기 MOSFET의 자장내에서의 게이트전압의존특성의 변화에 의하여, 디지탈치의 써넣기, 지워없애기 또는 보존이 가능한것을 특징으로 하는 불휘발성 기억장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 초전도링이, 일반식
    (단, α는 주기율표 IIa, IIIa족 원소로부터 선택된 1종이고, β는 주기율표 IIa, IIIa족 원소로서 α와 동일한 것을 함유한 원소로부터 선택된 원소이고, γ는 주기율표 Ib, IIb, IIIa, VIIIa족 원소로부터 선택된 적어도 1종의 원소이고, δ는 O,B(붕소), C(탄소), N, F 및 S중에서 선택된 적어도 1종이고, x는, α+β에 대한 의 원자비인데, 0.1≤x≤0.9이고, y 및 z는 (α1-xβx)를 1로 했을 경우에 0.4≤y≤3.0, 0.1≤y≤5가 되는 원자비이다)로 표시하한 조성을 가진 복합산화물초전도재료에 의하여 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 불휘발성 기억장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 원소 α가 Ba이고, 상기 원소 β가 Y이고, 상기 원소 γ가 Cu이며, 상기 δ가 O인것을 특징으로 하는 불휘발성 기억장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 원소 α가 Ba이고, 상기 원소 β가 La이고, 상기 원소 γ가 Cu이며, 상기 δ가 O인것을 특징으로 하는 불휘발성 기억장치.
  5. 제2항에 있어서, 상기 원소 α가 Sr이고, 상기 원소 β가 La이고, 상기 원소 γ가 Cu이며, 상기 δ가 O인것을 특징으로 하는 불휘발성 기억장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 원소 α가 Ba이고, 상기 원소 β가 H0이고, 상기 원소 γ가 Cu이며, 상기 δ가 O인것을 특징으로 하는 불휘발성 기억장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880016076A 1987-12-02 1988-12-02 불휘발성 기억장치 KR910009045B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30494087A JPH0671099B2 (ja) 1987-12-02 1987-12-02 不揮発性記憶装置
JP62-304940 1987-12-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR890011123A true KR890011123A (ko) 1989-08-12
KR910009045B1 KR910009045B1 (ko) 1991-10-28

Family

ID=17939148

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019880016076A KR910009045B1 (ko) 1987-12-02 1988-12-02 불휘발성 기억장치

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP0319427A3 (ko)
JP (1) JPH0671099B2 (ko)
KR (1) KR910009045B1 (ko)
AU (1) AU612207B2 (ko)
CA (1) CA1311053C (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0724314B2 (ja) * 1988-08-25 1995-03-15 シャープ株式会社 超伝導トランジスタ

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4048648A (en) * 1976-06-30 1977-09-13 International Business Machines Corporation High carrier velocity fet magnetic sensor
JPS5768092A (en) * 1980-10-15 1982-04-26 Hitachi Ltd Semiconductor memory device
FR2611300B1 (fr) * 1987-02-20 1989-04-21 Labo Electronique Physique Circuit de stockage d'informations a faible temps d'acces

Also Published As

Publication number Publication date
AU612207B2 (en) 1991-07-04
JPH01146377A (ja) 1989-06-08
JPH0671099B2 (ja) 1994-09-07
AU2645688A (en) 1989-06-08
EP0319427A3 (en) 1990-05-09
EP0319427A2 (en) 1989-06-07
KR910009045B1 (ko) 1991-10-28
CA1311053C (en) 1992-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR870000817A (ko) 화상 변환 장치
EP0525680A3 (ko)
WO1998006101A1 (de) Verfahren zum betrieb einer speicherzellenanordnung
DE4112070A1 (de) Elektrisch loeschbarer programmierbarer festwertspeicher mit steuereinheit zur verringerung der elektrischen feldstaerke
EP0916162A1 (de) Verfahren zum betrieb einer speicherzellenanordnung
KR890011123A (ko) 불휘발성 기억장치
FR2274114A1 (fr) Dispositifs de memoire emmagasinant un unique quantum de flux et moyen de detection correspondants
GB1526419A (en) Static storage elements for electronic data stores
EP0946991B1 (de) Nichtflüchtige speicherzelle
JPS5638860A (en) Semiconductor memory
KR960002868A (ko) 정보 기억 장치
Uehara et al. Trapped vortex memory cells
GB1281148A (en) Data storage apparatus
KR937000950A (ko) 비 휘발성 반도체 메모리 셀 필드가 있는 반도체 메모리
DE69217865D1 (de) Paralleldatenschieber von Teil- zu Gesamtwort
JPS6074578A (ja) 不揮発性半導体メモリ装置
KR910003815A (ko) 불휘발성 반도체 메모리장치
JPS55105374A (en) Nonvolatile semiconductor memory
KR900002646A (ko) 텔레텍스트 디코더에 사용적합한 문자 발생기
JPH05234386A (ja) 半導体記憶装置とその消去書き込み方法
McAteer et al. Associative memory system implementation and characteristics
JPS5698791A (en) Associative memory
Geller et al. Magnetic structures in the Ca2Fe2− xAlxO5 system-II
Withers et al. MNOS/CCD nonvolatile analog memory
JPS5498536A (en) Memory unit of polycrystal silicon resistor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19951027

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee