KR890003447B1

KR890003447B1 - 공정가스 도입장치

Info

Publication number: KR890003447B1
Application number: KR1019860000389A
Authority: KR
Inventors: 브라운 퍼거슨 2세 윌리암; 에드워드 브레소와 제랄드; 버나드 휠러 루이스
Original assignee: 컴버스쳔 엔지니어링 인코포레이티드; 리챠드 에이취.버네이크
Priority date: 1985-01-22
Filing date: 1986-01-22
Publication date: 1989-09-21
Also published as: ES551009A0; DK29186D0; JPS6336801B2; EP0191949B1; EP0191949A2; EP0191949A3; KR860005596A; US4571311A; DE3575865D1; JPS61174901A; DK29186A; CA1234749A; ES8700079A1

Abstract

내용 없음.

Description

공정가스 도입장치

제 1도는 본 발명의 가스 분배 장치의 정면 부분 단면도.

제 2도는 제 1도의 2-2선에 따라 취한 평단면도.

제 3도는 제 1도의 3-3선에 따라 취한 평단면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

2 : 액체 분무장치 5 : 제 1부분

7 : 제 2부분 10 : 공정가스 도입장치

11 : 내부셸 12 : 제 1가스 입구 덕트

14 : 내부 환상 도관 22 : 제 2가스 입구 덕트

24 : 외부 환상 도관 30 : 수평나선형 가스 공급 덕트

32 : 격벽 수단 34 : 제 1가스 공급 부덕트

36 : 제 2가스 공급 부덕트 40 : 처리실

44 : 내부 유동 통로 46 : 외부 유동 통로

50 : 날개 60 : 제어기 수단

70 : 댐퍼 수단 72 : 댐퍼 구동수단

80 : 액체 - 기체 접촉지역

본 발명은 일반적으로 처리실에 공정가스를 도입하기 위한 장치, 특히 처리실속으로 액체를 분무하도록 배치된 액체 분무장치를 둘러싸는 액체-기체 접촉지역으로공정 가스를 도입하기 위한 장치에 관한 것이다.

종래, 처리실내에서 액체와 접촉시켜주기 위해 처리실속으로 공정가스를 도입시켜주어야 하는 적용기술들은 많이 있었다. 예를 들면, 우유나 또는 식품의 슬러리와 같은 식료품들을 건조한는데 있어서, 분말을 만들기 위해 우유나 식료품을 건조시키도록 액체를 더운 공기과 접촉시켜 주는 분무 건조기속으로 액체를 분무하는 것이 통상적이다. 이와 같은 분무 건조기들은 또한 거조기속으로 미립 흡수제의 슬러리를 분무해주고 실내에서 미립 슬러리를 고온 연도 가스와 접촉시키므로서 고온 연도가스로부터 오염 물질을 흡수하는데 사용되며, 그럼으로써 미립 흡수제는 연도 가스로부터 오염 물질을 제거하기 위해 건조염으로서 연도 가스내의 오염물질과 반응하게 된다.

그러한 장치에 있어서, 동종 용액 또는 미립 부유물의 슬러리일수 있는 액체는 처리 용기에 의해 한정된 처리실내에 중심적으로 배역된 노즐 또는 분무기 휘일과 같은 분무 장치에 의해서 미세화된다. 미세화된 분무는 액체 분무 장치로부터 액체-기체 접촉지역으로 우산형 분무 구름 형태로 방사 외향으로 향해진다. 공정 가스는 액체 분무장치로부터 방사 외향으로 통과하는 미세화된액체와 가능한한 균일하게 접촉하기 위해 액체 분무장치를 중심으로 액체-기체 접촉지역으로 환상으로 도입된다. 전형적으로, 공정가스는 액체 분무장치 둘레에 동심으로 배치되며 처리실속으로 개방하는 하나 이상의 원추형 덕트 속으로 공급 덕트를 통해 흘러간다. 공정가스가 가스 공급 덕트를 통과함에 따라, 가스에 회전 운동이 부여되어서 소용돌이 형태로 원추형 입구 덕트를 통해 처리실로 들어갈 수 있을 것이다. 원추형 입구 덕트는 액체 분무장치를 둘러싸는 액체-기체 접촉지역안으로 공정가스를 안내할 수 있도록 설계되어 있다. 이런 형태의 가스 분배 장치의 실예는 미합중국 특허 제 3,803,723호, 미합중국 특허 제 4,226,603호, 미합중국 특허 제 4,227,896호, 및 미합중국 특허 제 4,481,171호에서 발견될 수 있을 것이다.

몇몇 적용들에 있어서, 특히 연도 가스 세정 장치로서 사용된 경우에, 분무 건조기들은 광범위한 가스 유동 체적의 범위에 걸쳐서 작동되어야만 된다. 그래서, 액체-기체 접촉지역에서 공정 가스와 미세화된 미힙 흡수제 슬러리의 적절한 혼합을 보장하기 위해 비교적 일정한 속도로 광범위한 가스 유동 체적 범위에 걸쳐 액체-기체 접촉지역에 공정 가스를 공급할 수 있는 가스 유동 분배장치를 제공하는 것이 바람직하다.

따라서, 본 발명의 목적은 광범위한 저감(turndown)범위에 걸쳐 처리실로 도입되는 공정가스와 미세화된 액체의 적절한 혼합을 보장하도록 액체 분무 장치를 둘러싸는 영역에서 수용 가능한 최소 수준이상으로 속도를 유지할 수 있도록 된, 처리실속으로 공정가스를 도입하기 위한 장치를 제공하는데 있다.

본 발명의 공정 가스 도입장치는 액체 분무장치를 수용하여 지지하기 적합한 내부 셸 둘레에 배치되며 공정가스를 받아들이는 접선 방향 입구 개구와 그곳으로부터 연장하는 제 1 및 제2가스 입구덕트와 결합하는 출구 개구를 갖는 수평 나선형 가스 공급 덕트를 포함한다. 제 1가스 입구덕트는 액체 분무장치 둘레에 중심적으로 배치되며, 액체 분무장치 둘레에서 처리실속으로 개구하는 환상 출구를 가진 내부 환상 도관을 한정해 준다. 제 2가스 입구 덕트는 제 1가스 입구 덕트에 대해 동심으로 그리고 제 1가스 입구 덕트로 부터 반경방향으로 간격져 배치되며, 제 1가스 입구 덕트 둘레에서 처리실속으로 개구하는 환상 출구를 가진 외부 환상 도관을 한정해 준다.

본 발명에 의하면, 수형 나선형 가스 공급 덕트내에는 이 나선형 가스 공급 덕트를 제 1 및 제 2가스 공급부덕트(sub-duct)로 분할해주도록 격벽 수단이 배치되어 있다. 제 1가스 공급 부덕트는 공정 가스의 제 1부분을 처리실, 특히 액체 분무 장치를 바로 둘러싸는 액체-기체 접촉지역으로 향하게 해주는 내부 통로를 함께 형성하기 위해 제 1가스 입구 덕트와 결합되어 그속으로 개방한다. 제 2가스 공급 부덕트는 처리실속에 도입된 공정가스의 제 1부분을 둘러싸는 환상 스트림내에서 공정가스의 제 2부분을 처리실로 향하게 해주는 외부 통로를 함께 형성하기 위해 제 2가스 입구 덕트와 결합되어 그속으로 개방한다. 부가적으로, 제 2가스 공급 부덕트에는 그 입구 근처에 제 2가스 부덕트를 통한 공정가스의 흐름을 조절하기 위한 댐퍼 수단이 배치되어 있다. 이 댐버 수단은 수평 나선형 가스 공급 덕트에 대한 입구와 처리실에 대한 내부 및 외부 가스 입구 덕트의 출구 사이에서의 압력편차를 제어하기 위해 가스 공급덕트의 입구에서 횡단면 유동면적을 조절할 수 있도록 제 2가스 공급 부덕트를 가로질러 선택적으로 위치되어질 수 있다.

또한, 본 발명에 의하면, 일반적으로 수직인 다수의 날개가 내부 환상 도관속으로 반경 방향으로 연장하도록 원주방향으로 떨어진 간격을 두고 내부 셸 둘레에 설치되어 있다. 이 날개들은 일반적으로 내부 환상 도관의 환상 출구 개구 평면에서 종료하기 위해 내부 셸의 외벽을 따라 수직으로 연장하며, 제한된 거리만큼, 양호하게는 그들 사이의 반경 거리의 약 1/2정도 만큼 내부 셸로부터 제 1가스 입구 덕트쪽으로 방사 외향으로 연장된다. 이들 날개들은 내부 환상 도관으로부터 나아가는 공정가스의 소용돌이 운동을 제거하거나 또는 적어도 실질적으로 가소 시켜주므로써, 심하게 소용돌이치는 가스 스트림과 관련된 분무 구름의 상승을 크게 감소 또는 제거해주기 위해 제공된다.

도면을 참조하면, 처리실속으로 공정가스를 도입하기 위해 본 발명에 따른 공정가스 도입장치(10) 가 도시되어 있다. 공정가스 도입장치(10)는 처리 용기(4)의 지붕에 결합 상태로 장착되며, 처리실(40)의 액체-기체 접촉지역(80)속으로 미세화된 액체 분무를 도입하기 위해 처리실(40)속으로 연장하도록 처리 용기(4)의 지붕내의 개구내에서 중심적으로 액체 분부장치(2)를 지지할 수 있도록 하기 위해 액체 분무장치(2)둘레에 동심으로 배치된다. 액체 분무장치(2)는 기계적으로 미세화되는 분무 노즐, 음속 분무노즐, 또는 도면에 도시된 바와같이 회전 휘일형 분무기와 같은 다수의 공지된 미세화 분무수단중의 어느 하나에 통합될 수가 있다.

액체 분무장치(2)는 공정 가스 도입장치(10)의 종축둘레에 중심적으로 배치된 공정가스 도입장치(10)의 내부 셸(11)내에 삽입되므로서 처리용기(4)의 지붕내의 개수내에서 중심적으로 지지된다. 내수 셸(11)은 액체 분무장치(2)가 처리실(40)속으로 떨어지는 것을 방지하도록 결합상태로 액체 분무장치(2)를 받아들이는 윤곽을 가진 단부 개방형 실을 내부에 형성해준다. 전형적인 액체 분무장치는 원추형 선단부가 몸체로부터 연장된 연통체를 갖고 있기 때문에, 내부 셸(11)은 액체 분무 장치의 몸체를 수용할 수 있는 크기로 된 원통형상부 플랜지와 액체 분무 장치의 원추형 선단을 받아들이기 적합한 원추형 하부 셸로 이루어지므로서, 그 분무 수단(8)이 내수 셸(11)의 원추형 셸 부분의 하부 개방단을 통해 처리실(40)속으로 연장하도록 된 것이 바람직하다.

전형적으로, 액체 분무장치(2)에 대해 동심인 상호 환상의 분리 스트림 상태로 액체 분무장치(2)의 선단(6)둘레의 처리실(40)에 위치된 액체-기체 접촉지역으로 공정가스를 도입하는 것이 바람직하다. 이를 위해, 본 발명의 공정가스 도입장치(10)는 처리 용기(4)의 벽에 있는 개구를 거쳐 내부에 형성된 처리실(10)속으로 연장하는 두개의 가스 입구 덕트를 갖고 있다. 제 1가스 입구 덕트(12)는 액체 분무장치(2)를 둘러싸는 내부 셸(11)둘레에 중심적으로 배치되며, 액체 분무장치(2)의 선단(6)둘레에서 처리실(40)에 개구되는 환상 출구(16)를 가진 내부 환상도관(14)을 한정해준다. 제 2가스 입구 덕트(22)는 제 1가스 입구 덕트(12)에 대해 동심으로 덕트(12)로부터 방사 외향으로 간격져서 배치되며, 제 1가스 입구 덕트(12)는 둘레에서 처리실(40)에 개구하는 환상 출구(26)를 가진 외부 환상도관(24)을 한정해준다. 양호하게, 제 1 및 제 2가스 입구 덕트 모두는 그위에 배치된 수평 나선형 가스 공급 덕트(30)에 결합하기 적합한 상부 원통형 플랜지와, 그들 각각의 도관을 통과한 공정가스를 액체 분무장치(2)의 선단(6)둘레에서 처리실(40)내에 형성된 액체-기체 접촉지역(80)으로 향하돌고 해주기 적합한 하부 원추형 스커트부로 이루어진다.

본 발명의 공정가스 도입장치(10) 또한 액체 분무장치(2)의 상단부 둘레에 배치되며, 공정가스를 받아들이기 위한 입구 개구와 제 1 및 제 2가스 입구 덕트(12,22)에 결합되는 출구 개루를 갖는 수평 나선형 가스 공급 덕트(30)를 포함하고 있다. 이 가스 공급덕트(30)는 처리실(40)속으로 도입시키 주기 위해 공정가스를 입구덕트(12,22)로 향하게 해줄 뿐 아니라, 입구덕트(12,22)에 들어가기 전에 가스 공급 덕트(30)에 의해 한정된 나선형 유동 통로를 통과할때 공정 가스에 회전 유동성분을 분배해준다.

본 발명에 의하면, 가스 공급 덕트(30)내에는 이 가스 공급덕트를 병렬 상태로 배치된 제 1가스 공급 부덕트(34)와 제 2가스 공급 부덕트(36)로 구분해주기 위한 격벽수단(32)이 설치되며, 제 2가스 공급 부덕트(36)에는 그 입구에 제 2가스 공급 부덕트(36)를 통한 공정가스의 흐름을 조절하기 위한 댐퍼 수단(70)이 배치되어 있다. 제 1가스 공급 부덕트(34)는 공정가스 제 1부분(5)을 처리실(40)로 향하게 해주는 내부 유동통로(44)를 함께 형성하기 위해 제 1가스 입구 덕트(12)에 대해 개방상태로 결합된다. 제 2가스 공급 부덕트(36)를 통한 공정가스의 제 2부분(7)을 처리실(40)로 향하게 해주는 외부 유동통로(46)를 함게 형성하기 위해 제 2가스 공급 덕트(22)에 대해 개방상태로 결합된다. 댐퍼 수단은 제 2가스 공급 부덕트(36)와 제 2가스 공급 덕트(22)를 통해 처리실 (40)로 향하는 외부 유동통로(46)의 입구에서 횡단면 유동 면적을 조절할 수 있도록 제 2가스 공급 부덕트(36)를 가로질러 선택적으로 위치되어질 수 있다.

또한, 본 발명에 의하면, 일반적으로 수직인 다수의 날개(50)가 내부 도관(14)속으로 방사 외향으로 연장하도록 원주방향으로 떨어진 간격을 두고 내수셸(11)의 외벽 하부 부분 둘레에 설치되어 있다. 날개(50)의 하부 모서리는 내부 도관(14)의 출구 (16)평면에서 끝난다. 날개(50)는 제한된 거리만큼 내부 도관(14)의 환상출구(16)를 가로질러 반경 방향으로 연장된다. 즉, 날개(50)는 제 1가스 입구 덕트(12)에 접촉할때 까지 출구(16)를 가로질러 계속하여 연장하지도 않는다. 양호하게는, 날개(50)는 내부도관(14)의 환상출구(16)를 가로지르는 거리의 약 50% 정도 외향으로 연장한다.

출구(16)근처에서 내부 도관(14)속으로 연장하는 날개(50)는 미세화된 분무 근방에서 강력한 저압지역이 설정되는 것을 방지하기 위해 필요하다. 내부 및 외부 도관(14,24)의 접선 방향 입구 특성과 나선형 성질로 인해, 본 발명의 공정가스 도입장치(10)는 함께 통과하는 공정가스 스트림에 상당한 소용돌이 운동을 부여해준다. 이를 저지않고 그대로 놔두면, 내부 가스 스트림내의 강한 소용돌이 운동은 가스 스트림이 그 둘에에서 송용돌이칠때 액체 분무장치(2)의 분무 선단을 둘러싸는 영역에 강력한 저압 지역을 설정해준다. 따라서, 이러한 저압 지역은 분무를 상승시키려는 경향이 있는 상향 속도 변화도를 유발한다. 소정의 상태하에서, 분무는 분무기 몸체를 따라 거꾸로 상승되거나 내부 도관속으로 상향으로라도 상승되어 그들 표면상에 매우 바람직스럽지 않은 물질의 부착을 초래할 수도 있을 것이다.

날개(50)의 일반적은 수직 성질은 내부 도관(14)을 떠나는 가스 스트림이 그 소용돌이 운동의 대부분을 소멸케하여 하방으로 향하게 해준다. 날개(50)는 수직에서 약 15°까지 벗어날 수 있으며, 그렇더라도 여전히 액체 분무 구름의 중요한 상승이 발생하지 않을 정도로 가스 스트림의 소용돌이 운동을 줄여주는 기능을 수행할 수가 있다.

작동에 있어서, 처리실(40)에 공급될 공정 가스는 입구(31)를 통하여 수평 나선형 가스 공급 덕트(30)로 지나가게 된다. 공정 가스가 입구(31)를 통하여 가스 공급 덕트(30)를 통과할때, 공정가스는 격벽수단(32)의 안내 모서리에 부딪치게 되며 따라서 공정 가스의 제 1부분(5)은 내부 유동통로(44)를 통해 처리실(40)로 흐르도록 격벽 수단(32)의 내측부를 통과하는 반면 공정가스의 제 2부분(7)은 외부 유동통로(46)를 통해 처리실(40)로 흐르도록 격벽 수단(32)의 내측부를 통과하게 된다. 격벽수단(32)은 전부하 작동중에 가스 공급덕트(30)로 들어오는 유동에 일렬로 위치된 댐퍼 수단과 함께, 가스 공급 덕트(30)를 적절한 크기를 갖는 제 1 및 제 2 가스 공급 부덕트(34,36)로 구분하도록 가스 공급덕트(30)내에 배치된다. 이런식으로, 제 1 및 제 2 가스 공급 부덕트(34,36)는 처리실(40)에 대해 설계된 체적 유동율에서 내부 및 외부 유동통로(44,46)를 통한 적절한 유동 체적과 원하는 속도를 제공하도록 크기가 정해지게 된다.

그러나, 공정 가스 도입장치(10)에 대한 설계 체적 유동율보다 상당히 아래까지 확장된 광범위한 체적 유동율 범위에 걸쳐서 시스템을 작동할 필요가 종종 있다. 4 : 1 또는 그 이상의 저감비가 바람직하다. 본 발명에 의하면, 내부 유동 통로(44)를 통해 처리실(40)로 향하는 체적 유동율은 그입구에서의 횡단면 유동 면적을 감소하도록 외부 유동 통로(46)에 대해 입구를 가로질러 댐퍼 수단을 선택적으로 위치 결정해주므로서, 공정 가스 도입장치(10)에 대한 설계 체적 유동율 이하의 광범위한 체적 유동을 범위에 걸쳐 내부 유동 통로(44)를 통해 수용 가능한 속도를 유지하도록 최소 수준이상으로 유지될 수가 있다. 댐퍼 수단을 패쇄함으로써, 가스 공급덕트(30)에 대한 입구와 처리실(40)에 대한 제 1및 제 2가스 입구덕트(12,22)의 출구 사이의 압력 강하는 액체-기체 접촉지역(80)에서 최적의 액체 및 기체 혼합을 제공하기에 필요한 내부 유동 통로(44)를 통한 적절한 설계 체적 유동율 및 속도를 제공하는 압력 강하에 대응하는 미리 선택된 설정점 수준에 유지될 수있도록 조절될 수 있을 것이다/

양호한 작동 모드에 있어서, 댐퍼 수단(70)과 연동하는 제어기 수단(60)은 수용 가능한 최소 속도 또는 그 이상에서의 속도에 대응하는 미리 선택된 설정점 압력편차(ΔPs.p.)와 가스 공급덕트(30)에 대한 입구와 제 1가스 입구 덕트(12)의 출구 개구 사이의 감지된 가스 압력 편자(Pi-Po)를 비교하기 위해 제공된다. 정확한 설정점 편차 및 대응하는 최소 수용 가능한 속도는 각각의 적용에 대해 액체-기체 접촉 공정을 최적화하기 위해 경우에 따라 선택될 것이다. 제 1압력 감지장치(62)는 입구 압력 (Pi)을 감지하여 제어기수단(60)에 그 표시 신호를 보내주기 위해 가스 공급 덕트(30)의 입구에 배치되는 반면에, 제 2압력 감지 장치(64)는 제 1가스 입구덕트(12)의 출구에서의 가스압력을 감지하여 제어기 수단(60)에 그 표시 신호를 보내주기 위해 처리용기(4)의 상부부분에 배치되어 있다. 이들 압력 표시 신호를 받음에 따라, 제어기 수단(60)은 감지된 압력 편자(Pi-Po)를 계산하여 감지된 압력 편차와 설정점 편차를 비교한다. 감지된 압력 편차가 설정점 압력 편차와 다르면, 제어기수단(60)은 댐퍼 수단(70)에 작동적으로 연합된 댐퍼 구동수단(72)에 신호(65)를 보낸다. 제어신호(65)에 반응하여, 댐퍼 구동수단(72)은 미리 선택된 설정점 편차와 감지된 가스 압력 편차를 동일하게 유지하기 위해 가스공급 덕트(30)에 대한 입구와 처리실(40)에 대한 제 1가스 입구 덕트의 출구 사이에서의 압력 강하를 적절히 증가시킬 수 있도록, 제 2가스 공급 부덕트(36)를 절적히 폐쇄 즉 그 입구에서의 횡단면 유도 면적을 감소하기 위해 제 2가스 공급 부덕트(36)를 가로질러 댐퍼 수단을 선택적으로 위치시키도록 작동된다. 그럼으로써, 내부 유동 통로를 통과하는 공정 가스의 제 1부분의 속도는 수용 가능한 최소 속도 이상으로 유지된다.

댐퍼수단(70)이 제 1가스 공급 부덕트(36)에 대한 입구를 더욱 밀폐하도록 조정됨에 다라, 상기 부덕트(36)의 입구에서의 횡단면적은 감소되므로서 외부 유동 통로를 통과하는 공정 가스의 제 2부분(7)의 유동 체적을 감소시켜주고 내부 유동 통로(44)를 통과하는 공정가스의 제 1부분(5)의 체적 유동율을 증가시켜준다. 이런식으로, 댐퍼수단 (70)은 내부 유동 통로(44)를 통한 체적 유동을 원하는 수준에 유지하도록 선택적으로 위치될 수 있으므로, 내부 유동 통로를 통과하는 속도가 수용가능한 최소 수준이상으로 유지되게 해준다.

내부 유동 통로(44)를 통과하는 속도를 수용가능한 최소 수준이상으로 유지하므로서, 노즐 선단(6)으로부터 방사 외향으로 향한 액체의 분무는 비록 공정가스의 총체적 유동율이 감소된다 할지라도 액체-기체 접촉지역(80)에서 공정가스의 제 1부분(5)과 최적으로 접촉되어 혼합될 것이라는 것이 확실해진다. 그러므로, 본 발명은 비록 총체적 유동율이 장치를 위한 설계 유동율보다 상당히 아래에 있을 수 있다 할지라도 충분히 높은 속도에서의 공정가스 체적이 장치의 광범위한 총체적 유동을 범위에 걸쳐 최적의 상태로 액체-기체 접촉지역(80)에서 선단(6)을 떠나는 미세화된 액체 분무와 충분히 접촉되는 바와 같은 방식으로 액체 분무장치(2)의 선단(6)을 둘러싸는 액체-기체 접촉지역(80)으로 공정가스를 도입해주는 장치를 제공해준다.

Claims

액체 분무장치(2)를 수용하며 그 개방 단부를 통해 처리실(40)속으로 연장하는 액체 분무장치(2)의 분무수단(8)과 함께 제 위치에 액체 분무장치(2)를 지지하기에 적합한 단부 개방형 내부 셸(11)과, 액체 분무장치(2)를 지지하는 상기 내부 셸(11)둘레에 중심적으로 배치되며, 액체 분무장치(2) 둘레에서 처리실(40)에 개구하는 환상 출구(16)를 가진 내부 환상 도관(14)을 한정해주는 제 1가스 입구 덕트(12)와, 상기 제 1가스 입구 덕트(12)에 대해 동심으로 제 1가스 입구 덕트로부터 반경방향으로 간격져 배치되며, 상기 제 1가스 입구 덕트(12)둘레에서 처리실(40)에 개구하는 환상출구(26)를 가진 외부 환상도관(24)을 한정해주는 제 2가스 입구 덕트(22) 및, 상기 액체 분무장치(2) 둘레에 배치되며, 공정가스를 받아들이는 입구 개구와 상기 제 1 및 제 2 가스 입구 덕트(12,22)에 결합하는 출구 개구를 갖는 수평 나선형 가스 공급덕트(30)를 포함하며, 처리실(40)속으로 처리 액체를 분무하도록 배치된 액체 분무장치(2)를 둘러싸는 액체-기체 접촉지역(80)으로 공정가스를 도입하기 위한 장치에 있어서, 공정가스의 제 1부분(5)을 처리실(40)로 향하게 해주는 내부 유동통로(44)를 함께 형성하기 위해 상기 제 1가스 입구 덕트(12)에 결합상태로 개구하는 제 1가스 입구 부덕트(34)와 공정 가스의 제 2부분(7)을 처리실(40)로 향하게 해주는 외부 유동통로(46)를 함께 형성하기 위해 상기 제 2가스 입구 덕트(22)에 결합상태로 개구하는 제 2가스 공급부 덕트(36)로 상기 수평 나선형 가스 공급 덕트(30)를 구분하도록 상기 수평 나선형 가스 공급 덕트(30)내에 배치되는 격벽수단(32)과, 제 2가스 공급 부덕트(36)내의 입구에 배치되며, 제 2가스 공급 부덕트(36)와 제 2가스 입구 덕트(22)를 가로질러 선택적으로 위치되어질 수 있는 댐퍼수단(70) 및, 원주방향으로 떨어진 간격을 두고 상기 내부 셸(11)에 설치되며, 그 각각이 일반적으로 수직으로 배치됨과 동시에 상기 내부 셸(11)로부터 내부 환상 도관(14)으로 외향으로 연장하는 다수의 날개(50)로 이루어진 것을 특징으로 하는 공정 가스 도입장치.
제 1항에 있어서 상기 댐퍼수단(70)은 상기 수평 나선형 가스 공급덕트(30)에 대한 입구와 처리실(40)의 상부부분 사이의 가스 압력 편차를 미리 선택된 설정점 압력 편차와 비교하기 위해 상기 댐퍼 수단(70)에 작동적으로 연결되는 제어기 수단(60) 및, 감지된 가스 압력 편차를 미리 선택된 설정점 압력 편차와 동일하게 유지함으로써 내부 유동통로(44)를 통과한 공정 가스의 제 1부분(5)의 속도가 일정 속도로 유지될 수 있도록 압력 편차 비교 수단인 제어기수단(60)에 반응하여 제 2가스 공급 부덕트(36)를 가로질러 상기 댐퍼수단(70)을 선택적으로 위치시켜 주기 위해 상기 댐퍼 수단(70)에 작동적으로 결합되는 댐퍼 구동수단(72)을 포함하는 것을 특징으로 하는 공정 가스 도입장치.
제 1항에 있어서, 상기 날개(50)는 각각 상기 내부 환상 도관(14)의 환상 출구(16)의 개구 평면에서 종료하기 위해 상기 내부 셸(11)을 따라 수직으로 연장하는 것을 특징으로 하는 공정 가스 도입장치.
제 3항에 있어서 상기 날개(50)는 각각 상기 내부 환상도관(14)의 환상 출구(16)의 개구 평면내에서 상기 내부 환상 도관(14)을 가로질러 반경 거리의 약 1/2거리에서 종료하기 위해 상기 내부 셸(11)로부터 상기 제 1가스 입구덕트(12)쪽으로 방사 외향으로 연장하는 것을 특징으로 하는 공정가스 도입장치.