KR890003267A - 플라즈마처리용 장치 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

플라즈마처리용 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예를 부분적으로 생략하여 도시한 개략정면도, 제2도는 본 발명의 실시예를 부분적으로 생략하여 도시한 개략측입면도, 제3도는 본 발명에 의하여 플라즈마처리실, 즉 장치의 요부에 대한 개략정면도, 제4도는 본 발명에 양호하게 사용되는 안테나전극과 처리재를 가이드하기 위한 수단의 상대적인 구성을 도시하는 수직단면도, 제5도는 본 발명의 장치에 양호하게 사용된 안테나전극의 사시도.

Claims (27)

  1. 플라즈마처리실을 포함하고, 전력도입부재가 상기 플라즈마처리실의 중앙부에 위치하고, 복수개의 안테나전극은 상기 전력도입부재의 근처로부터 방사상으로 신장하도록 배치되고, 이 도입부재는 상기 안테나전극의 상기 전력도입부재에 가까운 각 단부와 접속되도록 하며, 복수개의 접지전극은 상기 안테나전극의 처리표면과 각각이 대면하도록 배치되고, 상기 안테나전극과 접지전극사이의 간격을 통하여 처리재를 통과시키기 위한 가이드수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 안테나전극이 처리재의 진행방향에 대해서 돌출한 만곡된 처리표면을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 안테나 전극이 납작한 처리표면을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 접지전극이 처리재의 진행방향에 대해서 돌출한 만곡된 처리표면을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 전력도입주재가 포위벽에 의해 한정되고, 외부대기와 연통하는 제한 공간에 둘려싸여 있고, 이 전력도입부재가 제한공간을 한정하는 상기 포위벽을 통하여 안테나전극의 단부에 가까운 상기 각 단부와 접속되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 안테나전극이 금속판으로 형성되고, 플라즈마가 그 안에 거의 형성되지 않도록 하는데 충분한 밀도로 충전재로 채워진 내부를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 내부가 공간 및 공동이 없는 고체재료로 조밀하게 채워지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 내부가 약 10mm이하의 평균직경을 가지며, 공간 또는 공동을 갖는 다공성재료로 채워지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 공간 또는 공동이 약 5mm이하의 평균직경을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 다공성재료가 금속, 유리 , 세라믹, 합성고분자수지 및 고무로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  11. 제1항에 있어서, 상기 안테나전극과 접지전극의 최소한 하나의 그룹이 온도제어수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 안테나전극과 접지전극이 상호간에 평행으로 이격된 공간에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  13. 제2항에 있어서, 상기 가이드수단은 상기 처리재가 상기 안테나전극의 표면과 접촉하게 되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  14. 제3항에 있어서, 상기 가이드수단은 상기 처리재가 상기 안테나전극의 표면과 접촉하게 되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  15. 제4항에 있어서, 상기 가이드수단은 상기 처리재가 상기 접지전극의 표면과 접촉하게 되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  16. 제13항 내지 15항중의 어는 한 항에 있어서, 상기 가이드수단이 고정위치에서 조절할 수 있는 복수개의 가이드롤인 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  17. 제1항에 있어서, 그 사이에 안테나전극을 삽입한 상호 인접한 2개의 접지전극의 각각의 측단부와 외부단부의 양단부 사이에서 신장하는 커버는 상기 상호 인접한 2개의 접지전극사이에서 플라즈마처리공간을 한정하도록 제공되고, 기체공급오리피스와 기체방출오리피스가 상기 플라즈마처리공간내의 접지전극의 각각의 일단부 및 타단부 가까이에 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 기체공급오리피스가 접지전극의 방사상배열에 대해서 외부단부 가까이에 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  19. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 안테나 전극이 전극의 일단부로부터 상기 처리재가 전극과 접촉하게 되는 부분까지 접근하는 것을 포함하는 표면상에 형성된 절연층을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 절연층이 상기 처리재가 전극으로부터 도인되는 (pulled off)부분까지 전극의 공급단부를 포함하는 것을 포함하는 표면상에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리용 장치.
  21. 제19항 또는 제20항에 있어서, 상기 절연층이 상기 안테나전극의 길이의 1/4이하의 길이를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  22. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마처리실의 처리재를 위해 공급롤과 권선롤을 더 수용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  23. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마처리실이 처리재를 위하여 공급롤과 권선롤을 수용하는 챔버와 연통하는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  24. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마처리실이 공급롤과 권선롤을 분리하여 수용하는 2개의 챔버와 연통하는것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  25. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 안테나전극이 매끈하고, 균일하고, 연속적인 단일성표면구조를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  26. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마처리실이 상기 안테나전극과 접지전극사이의 간격을 관찰할 수 있는 가시장치를 최소한 1개를 주변상에 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
  27. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마처리실이 개폐가능한 덮개를 갖춘 최소한 하나의 구멍을 갖는 주변상에 더 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마처리용 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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