KR890002978A - 집적 회로 및 그외의 다른 전자 장치를 제조하기 위한 장치 및 방법 - Google Patents

집적 회로 및 그외의 다른 전자 장치를 제조하기 위한 장치 및 방법 Download PDF

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제이. 데이비스 세실
레벤스타인 리엠.
비.쥬차 레트
티. 매튜 로버트
씨. 힐덴브랜드 란달
더블유. 프리만 딘
아이. 존스 존
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엔. 라이스 머레트
텍사스 인스트루먼츠 인코포레이티드
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Abstract

내용 없음

Description

직접 회로 및 그외의 다른 전자 장치를 제조하기 위한 장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 반도체 집적 회로 웨이퍼의 진공 프로세싱 및 이송에 적합한 로드 록크의 샘플 실시예를 도시한 도면. 제 2 도는 여러가지 크기의 미립자들이 여러 압력에서 공기를 통해 떨어지는데 걸리는 시간을 도시한 그래프. 제 3 도는 웨이퍼가 이송암(28)에 의해 3개의 핀상에 배치되어 인접한 진공 로드 록크 챔버(12)로부터 인터-챔버 이송 포트(30)을 통해 도달하는 프로세스 스테이션내의 샘플 웨이퍼 이송 구조물을 도시한 도면.

Claims (12)

  1. 작업편을 지지할 수 있는 작업편 지지부가 내부에 배치되어 있는 제 1 챔버, 활성 화학종을 발생시키기 위해 제 1 챔버와 분리되어 있고, 이 제 1 챔버와 유체 교통관계로 되어 있는 제 2 챔버, 작업편에 결합된 복사 가열 소오스, 및 작업편을 조사하기 위해 제 2 챔버에 인접하고, 제 1 챔버내에서 자외광을 발생시키기 위한 제 3 챔버로 구성되는 것을 특징으로 하는 작업편 프로세싱 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 작업편이 밑을 향한 프로세스 면을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 제 3 챔버가 제 1 챔버와 분리되고, 이 제 1 챔버와 유체 교통관계로 되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 제 2 챔버가 거의 투명한 윈도우에 의해 제 3 챔버와 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 거의 투명한 윈도우가 석영으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제 4 항에 있어서, 거의 투명한 윈도우가 사파이어로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 제 2, 제 3 및 제 4 챔버가 단독으로 동작하도록 개별 제어되는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제 1 항에 있어서, 제 2 챔버 및 다른 챔버들이 소정의 결합 상태로 동작하도록 개별 제어되는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제 1 항에 있어서, 제 3 챔버가 작업편 하부에 배치되는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제 1 항에 있어서, 제 2 챔버가 작업편 상하부에 전극쌍을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제 1 항에 있어서, 작업편이 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 웨이퍼를 프로세스 챔버내로 이송하는 수단, 챔버를 주위 압력보다 낮은 압력으로 유지하기 위해 주위 압력보다 낮은 압력을 챔버에 제공하는 수단, 챔버와 분리된 플라즈마 발생 모듈에 제 1 개스를 제공하여 원격 플라즈마를 발생시키는 수단, 제 1 개스를 원격 플라즈마에 제공하는 수단, 웨이퍼와 분리된 진공 챔버내의 자외선 소오스로부터의 자외선 에너지로 웨이퍼 전면을 조사하는 수단,복사 에저지 소오스로 웨이퍼 배면을 조사하는 수단,부수적인 프로세스 개스를 공급하는 수단, 및 챔버내에 배치된 웨이퍼상에 원격 플라즈마 및 부수적인 프로세스 개스를 흐르게 하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프로세싱 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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